【技术实现步骤摘要】
预防研磨液沉淀的装置和方法
本专利技术涉及半导体集成电路制造领域，特别是涉及一种预防研磨液沉淀的装置。本专利技术还涉及一种预防研磨液沉淀的方法。
技术介绍
如图1所示，是现有研磨液供应管路的结构示意图；现有化学机械研磨机台102的研磨液供应管路103连接在研磨液供应系统101和化学机械研磨机台102之间的研磨液供应管路103。所述研磨液供应系统101为本地或中央研磨液供应系统(Local/CentralSupply)。在靠近所述化学机械研磨机台102一侧的研磨液供应管路103上设置有回流出口。研磨液回流管路104设置在所述研磨液供应系统101和所述回流出口之间。箭头线201对应于研磨液的流动方向。图1所示的现有研磨液供应管路103受制于研磨液供应管路103长短和研磨液使用率，如果系统中研磨液供应管路103较长或者研磨液使用率不够高，很容易导致研磨液中固化物颗粒的沉淀或结晶，尤其是氧化铈这种固化物含量较高的研磨液。研磨液中的固化物颗粒沉积多了之后，容易被冲击到机台102内部管路中，这种情...
【技术保护点】
1.一种预防研磨液沉淀的装置，其特征在于，包括：/n连接在研磨液供应系统和化学机械研磨机台之间的研磨液供应管路；/n在靠近所述化学机械研磨机台一侧的研磨液供应管路上设置有回流出口；/n研磨液回流管路设置在所述研磨液供应系统和所述回流出口之间；/n所述研磨液供应管路上设置有可旋转结构，在所述研磨液供应管路上设置有旋转装置，所述旋转装置在所述研磨液供应管路中沉淀或结晶形成的固化物颗粒的数量达到设定值之前对所述研磨液供应管路进行旋转，以清除所述研磨液供应管路中沉淀或结晶形成的固化物颗粒。/n
【技术特征摘要】
1.一种预防研磨液沉淀的装置，其特征在于，包括：
连接在研磨液供应系统和化学机械研磨机台之间的研磨液供应管路；
在靠近所述化学机械研磨机台一侧的研磨液供应管路上设置有回流出口；
研磨液回流管路设置在所述研磨液供应系统和所述回流出口之间；
所述研磨液供应管路上设置有可旋转结构，在所述研磨液供应管路上设置有旋转装置，所述旋转装置在所述研磨液供应管路中沉淀或结晶形成的固化物颗粒的数量达到设定值之前对所述研磨液供应管路进行旋转，以清除所述研磨液供应管路中沉淀或结晶形成的固化物颗粒。
2.如权利要求1所述的预防研磨液沉淀的装置，其特征在于：所述旋转装置包括马达以及设置在所述研磨液供应管路上的第一齿轮，在所述马达上设置有第二齿轮，通过所述马达旋转使所述第二齿轮旋转，通过所述第二齿轮旋转带动所述第一齿轮旋转，通过所述第一齿轮旋转带动所述研磨液供应管路旋转。
3.如权利要求2所述的预防研磨液沉淀的装置，其特征在于：所述研磨液供应管路的可旋转结构包括设置在所述研磨液供应管路两端的软管。
4.如权利要求3所述的预防研磨液沉淀的装置，其特征在于：所述旋转装置使所述研磨液供应管路旋转的循环方式为：使所述研磨液供应管路产生180°翻转，之后使所述研磨液供应管路复位。
5.如权利要求2所述的预防研磨液沉淀的装置，其特征在于：所述研磨液供应管路上还设置有固化物颗粒的沉积和结晶的颗粒检测装置，以实时检测在所述研磨液供应管路中沉淀或结晶形成的固化物颗粒的数量并判断在所述研磨液供应管路中沉淀或结晶形成的固化物颗粒的数量是否达到设定值。
6.如权利要求5所述的预防研磨液沉淀的装置，其特征在于：所述颗粒检测装置通过对所述研磨液供应管路进行透光性检测实现。
7.如权利要求1所述的预防研磨液沉淀的装置，其特征在于：所述研磨液供应系统为本地或中央研磨液供应系统。
8.一种预防研磨液沉淀的方法，其特征在于，包括如下步骤：
步骤一、对连接在研磨液供应系统和化学机械研磨机台之间的研磨液供应管路进行如下设置：
在所述研磨液供应管路上设置可旋...
【专利技术属性】
技术研发人员：张俊杰，
申请(专利权)人：上海华力集成电路制造有限公司，
类型：发明
国别省市：上海;31
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