包括散热构件的沉积设备制造技术

提供了一种包括散热构件的沉积设备。所述沉积设备包括：腔室；沉积源；以及工作台，设置在腔室中，在工作台上安装有目标物体。沉积设备还包括：第一板，结合到腔室；以及第二板，设置在第一板与工作台之间，其中，第二板包括多个扩散孔。沉积设备还包括：散热构件，与第一板和第二板接触，其中，散热构件包括多个侧壁部，其中，多个侧壁部彼此连接。沉积设备还包括：垫片，结合到多个侧壁部的第一侧壁部，并且设置在第一板与第二板之间，其中，垫片平行于第一侧壁部而延伸。

Deposition equipment including cooling elements

【技术实现步骤摘要】
包括散热构件的沉积设备本专利申请要求于2018年12月12日在韩国知识产权局提交的第10-2018-0160248号韩国专利申请的优先权，所述韩国专利申请的公开内容通过引用全部包含于此。
本公开涉及一种沉积设备，并且更具体地，涉及一种包括散热构件的沉积设备。
技术介绍
因为玻璃基板或塑料基板是透明的并且被制造为具有比硅基基板的表面积大的表面积，所以玻璃基板或塑料基板被广泛地用于制造显示装置。由于玻璃基板和塑料基板的转变温度低，因此应该在约200℃至约300℃的低温下执行膜沉积工艺，以防止基板变形。等离子体增强化学气相沉积(PECVD)技术即使在相对低的温度下也可被用于在大区域上沉积半导体和介电膜，因此，PECVD技术被广泛用于显示装置、太阳能电池等。在PECVD技术中，可基于电场而不是基于热量来供应用于分离沉积源的能量，因此，可将基板维持在相对低的温度。
技术实现思路
根据本专利技术构思的示例性实施例，一种沉积设备包括：腔室；沉积源，包括沉积材料；工作台，设置在腔室中，在工作台上安装有目标物体；第一板，结合到本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种沉积设备，所述沉积设备包括：/n腔室；/n沉积源，包括沉积材料；/n工作台，设置在所述腔室中，在所述工作台上安装有目标物体；/n第一板，结合到所述腔室以限定空间；/n第二板，设置在所述第一板与所述工作台之间，其中，所述第二板包括设置在所述第二板中的多个扩散孔；/n散热构件，与所述第一板和所述第二板接触，其中，所述散热构件包括多个侧壁部，其中，所述多个侧壁部彼此连接以形成包围所述第一板和所述第二板的外侧表面的框架形状；以及/n垫片，结合到所述多个侧壁部的第一侧壁部，并且设置在所述第一板与所述第二板之间，其中，所述垫片平行于所述第一侧壁部而延伸，/n其中，所述垫片的延伸长度比所述第一侧壁部...

【技术特征摘要】
20181212 KR 10-2018-01602481.一种沉积设备，所述沉积设备包括：
腔室；
沉积源，包括沉积材料；
工作台，设置在所述腔室中，在所述工作台上安装有目标物体；
第一板，结合到所述腔室以限定空间；
第二板，设置在所述第一板与所述工作台之间，其中，所述第二板包括设置在所述第二板中的多个扩散孔；
散热构件，与所述第一板和所述第二板接触，其中，所述散热构件包括多个侧壁部，其中，所述多个侧壁部彼此连接以形成包围所述第一板和所述第二板的外侧表面的框架形状；以及
垫片，结合到所述多个侧壁部的第一侧壁部，并且设置在所述第一板与所述第二板之间，其中，所述垫片平行于所述第一侧壁部而延伸，
其中，所述垫片的延伸长度比所述第一侧壁部的延伸长度短。


2.如权利要求1所述的沉积设备，其中，所述垫片设置在所述第一侧壁部的中心区域中。


3.如权利要求1所述的沉积设备，其中，所述垫片与所述第一板和所述第二板直接接触。


4.如权利要求1所述的沉积设备，其中，所述第二板包括第一侧边和第二侧边，所述第一侧边彼此面对并在第一方向上延伸，所述第二侧边彼此面对并在与所述第一方向交叉的第二方向上延伸，
其中，所述垫片是多个垫片，
其中，所述多个垫片包括：第一垫片，沿所述第一侧边延伸并且彼此面对；以及第二垫片，沿所述第二侧边延伸并且彼此面对，并且
其中，...

【专利技术属性】
技术研发人员：朴钟镐，潘淑焕，宋鎭伍，兪炯硕，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国;KR