【技术实现步骤摘要】
溅射用旋转靶组件的铟填充装置及填充方法
本专利技术涉及溅射用旋转靶组件的铟填充装置及填充方法，尤其，涉及如下的溅射用旋转靶组件的铟填充装置及填充方法，即，在真空状态下，可通过向存在于背衬管与溅射靶之间的填充空间供给铟来进行填充。
技术介绍
通常，溅射(Sputtering)是指用于将靶物质的薄膜蒸镀在基板的真空蒸镀法，用于这种溅射的材料为铝(Al)、钼(Mo)、钛(Ti)、铜(Cu)、银(Ag)、金(Au)、钕(Nd)及硅(Si)。当上述溅射时，作为旋转阴极(Cathod)用圆筒型背衬管的背衬管(BackingTube)的材质大部分使用肽(Ti)或不锈钢，作为氧化物靶，包括氧化铟锡(ITO，IndiumTinOxide)、氧化铟锌(IZO，IndiumZinkOxide)、铟镓锌氧化物(IGZO，IndiumGalliumZinkOxide)及氧化硅(SiO2)等，作为蒸镀靶材料的基板的例，包括半导体、平板显示器(LCD、AMOLED、WhiteOLED)及太阳能电池(SolarCell)等。另一方面，以往技...
【技术保护点】
1.一种溅射用旋转靶组件的铟填充装置，上述溅射用旋转靶组件包括：背衬管，上部呈圆筒形状，沿着上下方向设置；溅射靶，呈中空形状，插入设置于上述背衬管的外周面，内周面与上述背衬管的外周面隔开来形成填充空间，多个溅射靶沿着上下方向层叠并结合；以及铟，向上述填充空间填充，上述溅射用旋转靶组件的铟填充装置用于在上述溅射用旋转靶组件向上述填充空间填充铟，其特征在于，/n包括：/n本体，在内部插入配置由上述溅射靶的下部与上述背衬管的下部相接触来封闭上述填充空间的下部的上述溅射用旋转靶组件，安装有加热器；/n真空盖部，与上述背衬管及溅射靶的上部相结合来封闭上述填充空间的上部；/n真空泵，与...
【技术特征摘要】
20181212 KR 10-2018-01600441.一种溅射用旋转靶组件的铟填充装置，上述溅射用旋转靶组件包括：背衬管，上部呈圆筒形状，沿着上下方向设置；溅射靶，呈中空形状，插入设置于上述背衬管的外周面，内周面与上述背衬管的外周面隔开来形成填充空间，多个溅射靶沿着上下方向层叠并结合；以及铟，向上述填充空间填充，上述溅射用旋转靶组件的铟填充装置用于在上述溅射用旋转靶组件向上述填充空间填充铟，其特征在于，
包括：
本体，在内部插入配置由上述溅射靶的下部与上述背衬管的下部相接触来封闭上述填充空间的下部的上述溅射用旋转靶组件，安装有加热器；
真空盖部，与上述背衬管及溅射靶的上部相结合来封闭上述填充空间的上部；
真空泵，与上述真空盖部相连接来使上述填充空间处于真空状态；以及
铟供给部件，与上述真空盖部相连接，用于向上述填充空间供给铟，
通过上述真空泵在上述填充空间处于真空的状态下由上述铟供给部件向上述填充空间供给铟来在上述填充空间填充铟。
2.根据权利要求1所述的溅射用旋转靶组件的铟填充装置，其特征在于，
上述背衬管的上端比上述溅射靶更向上方突出，
上述真空盖部包括：
盖部件，形成有第一端口及第二端口，上述第一端口与上述真空泵相连接，上述第二端口与上述铟供给部件相连接；
外部引导部件，呈中空形状，与上述盖部件的下部相结合；以及
内部引导部件，配置于上述外部引导部件的内部并与上述盖部件的下部相结合，与上述外部引导部件相隔开来在与上述外部引导部件之间形成环形状的第一隔开孔，
当将上述真空盖部安装于上述背衬管及溅射靶的上部时，
上述外部引导部件紧贴于上述溅射靶，上述内部引导部件向上述背衬管的内部插入并紧贴于上述背衬管的内周面来封闭上述填充空间的上部，
向上述第一隔开孔插入上述背衬管的上部，向上述第一隔开孔插入的上述背衬管的外周面与上述外部引导部件的内周面隔开，
上述第一端口及第二端口通过上述第一隔开孔与上述填充空间相连通。
3.根据权利要求2所述的溅射用旋转靶组件的铟填充装置，其特征在于，
上述盖部件包括：
盖上面部，在上部形成有上述第一端口及第二端口；
中空形状的盖外侧面部，在上述盖上面部的外侧向下方突出，与上述外部引导部件的上部相结合；以及
中空形状的盖内侧面部，在上述盖上面部的内侧与上述盖外侧面部隔开并向下方突出，与上述内部引导部件的上部相结合，
在上述盖上面部、盖外侧面部及盖内侧面部之间形成向下部开放来与上...
【专利技术属性】
技术研发人员：申圭植，韩淳锡，金冬逍，裵甲录，
申请(专利权)人：韩国科尔技术股份有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国;KR
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