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本发明涉及溅射用旋转靶组件的铟填充装置及填充方法，尤其，涉及可在真空状态下，向存在于背衬管与溅射靶之间的填充空间供给铟来进行填充的溅射用旋转靶组件的铟填充装置及填充方法。本发明的特征在于，将真空盖部安装于溅射用旋转靶组件的上部来封闭存在于背...
该专利属于韩国科尔技术股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过韩国科尔技术股份有限公司授权不得商用。

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