一种基于单层MoS制造技术

技术编号:24587989 阅读:50 留言:0更新日期:2020-06-21 02:10
本实用新型专利技术公开了一种基于单层MoS

A single layer MoS based

【技术实现步骤摘要】
一种基于单层MoS2薄膜/GaN纳米柱阵列的自供电紫外探测器
本技术属于紫外探测器领域,具体涉及一种基于单层MoS2薄膜/GaN纳米柱阵列的自供电紫外探测器。
技术介绍
紫外探测技术在火焰探测、臭氧层空洞监测、紫外通信、国防预警与跟踪等军事及民用设施领域中具有广泛应用。在电子设备高度集成化的今天,紫外探测器作为重要的光电转换器件,其结构的微型化、可集成化成了发展的必然趋势。第三代宽带隙半导体材料GaN,禁带宽度为3.4eV,是一种理想的紫外探测器原材料;为了进一步减小成本和体积、提高性能,从而达到光电集成化应用的程度,近年来,使用一维纳米结构GaN作为紫外探测器成为了研究热门。一维GaN纳米结构紫外探测器优势表现为:其晶体质量是优于薄膜的,因为一维纳米结构是几乎完全弛豫的,能够有效减少穿透到纳米棒顶端的位错,有助于减少缺陷,提高晶体质量;此外,一维GaN纳米结构在很大程度上増加了材料的侧壁面积,从而增加了光子逃逸/吸收角度,有效的提高了光发射/吸收,从而提高了探测器性能。然而要使得这种纳米光电集成系统,即多个纳米器件集成成为可能,这些纳本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基于单层MoS

【技术特征摘要】
1.一种基于单层MoS2薄膜/GaN纳米柱阵列的自供电紫外探测器,其特征在于,自下至上依次包括衬底(1)、GaN纳米柱阵列(2)、单层MoS2薄膜(3);所述单层MoS2薄膜(3)自支撑在所述GaN纳米柱阵列(2)顶部上;所述单层MoS2薄膜上设有第一金属电极(4);所述GaN纳米柱阵列的底端处设有第二金属电极(5)。


2.根据权利要求1所述的一种基于单层MoS2薄膜/GaN纳米柱阵列的自供电紫外探测器,其特征在于,所述衬底(1)的厚度为400~450μm。


3.根据权利要求1所述的一种基于单层MoS2薄膜/GaN纳米柱阵列的自供电紫外探测器,其特征在于,所述衬底选自蓝宝石、Si或ScAlMgO4。


4.根据权利要求1所述的一种基于单层MoS2薄膜/GaN纳米柱阵列的自供电紫外探测器,其特征在于,所述GaN纳米柱阵列(2)中GaN纳米柱的长度为350~450nm,直径为50~75nm。


5.根据权利要求1所述的一种基于单层MoS2薄膜/GaN纳米柱阵列的自供电紫外探测器,其特征在于,所述GaN纳米柱阵列中的GaN纳米柱与衬底之间的GaN合并膜的厚度为4~8nm。<...

【专利技术属性】
技术研发人员:李国强郑昱林王文樑唐鑫柴吉星孔德麒
申请(专利权)人:华南理工大学
类型:新型
国别省市:广东;44

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