一种等离子光刻胶装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种等离子光刻胶装置，包括外壳体、通水电极管路、通水极板组、绝缘的物料托架以及真空腔体，真空腔体设置于外壳体内，且真空腔体后部连接有集成式通水电极管路及通水套件，通水电极管路通过连接电缆与射频电源连接，通水极板组设置于真空腔体内；本实用新型专利技术的等离子光刻胶装置通水式电极板具有以下优点：1）可以有效地控制腔体内部温度，实现不同产品的处理要求；2）可以达到最佳的效果及处理均匀性，保证了处理良率的同时，并提高了处理效率。

A plasma photoresist device

【技术实现步骤摘要】
一种等离子光刻胶装置
本技术涉及等离子刻胶
，特别涉及一种等离子光刻胶装置。
技术介绍
等离子刻胶是干法蚀刻中常见的一种形式，其原理是暴露在电子区域的气体形成等离子体，由此产生的电离气体和释放高能电子组成的气体，从而形成等离子或离子，电离气体原子通过电场加速时，会释放足够的力量与表面驱逐力紧紧粘合材料或蚀刻表面。采用该原理工作的等离处理设备是用等离子体中的自由基去轰击或溅射被刻蚀材料的表面分子，形成易挥发物质，从而实现刻胶的目的。目前，等离子处理设备广泛应用于等离子清洗、刻蚀、等离子镀、等离子涂覆、等离子灰化和表面活化、改性等场合。通过其处理，能够改善材料的润湿能力，使多种材料能够进行涂覆、镀等操作，增强粘合力、键合力，同时去除有机污染物、油污或油脂。然而，传统的等离子光刻胶设备是在一个真空腔体内，腔体内只能放置1件晶圆，等离子通过平行电极板产生等离子体，对晶圆表面的残胶和有机污染材料进行刻蚀反应。
技术实现思路
为了克服上述缺陷，本技术提供了一种等离子光刻胶装置，可以同时对多件晶圆进行刻胶处理。...

【技术保护点】
1.一种等离子光刻胶装置，其特征在于：包括外壳体(1)、通水电极管路(2)、通水极板组(3)、绝缘的物料托架(4)以及真空腔体(5)，真空腔体(5)设置于外壳体(1)内，且真空腔体(5)后部连接有集成式通水电极管路(2)及通水套件(6)，通水电极管路(2)通过连接电缆与射频电源连接，通水极板组设置于真空腔体(5)内；/n所述真空腔体(5)的后部和下部设有抽空管道(7)，所述抽空管道(7)连接真空泵；/n所述通水极板组在真空腔体(5)内部均匀分布间隔设置的7层正极板(11)和6层负极板(12)，共有6层处理区，每层处理区设置正极板(11)在上部，负极板(12)在下部，正极板(11)和负极板(12...

【技术特征摘要】
1.一种等离子光刻胶装置，其特征在于：包括外壳体(1)、通水电极管路(2)、通水极板组(3)、绝缘的物料托架(4)以及真空腔体(5)，真空腔体(5)设置于外壳体(1)内，且真空腔体(5)后部连接有集成式通水电极管路(2)及通水套件(6)，通水电极管路(2)通过连接电缆与射频电源连接，通水极板组设置于真空腔体(5)内；
所述真空腔体(5)的后部和下部设有抽空管道(7)，所述抽空管道(7)连接真空泵；
所述通水极板组在真空腔体(5)内部均匀分布间隔设置的7层正极板(11)和6层负极板(12)，共有6层处理区，每层处理区设置正极板(11)在上部，负极板(12)在下部，正极板(11)和负极板(12)之间设置物料托架(4)，每块正极板(11)和负极板(12)内部分布由若干通水管路(8)，通水管路(8)的进水口和出水口上设置通水套件(6)，通过通水套件(6)与通水电极管路(2)连接。


2.根据权利要求1所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘向伟，刘善石，
申请(专利权)人：昆山索坤莱机电科技有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32