【技术实现步骤摘要】
一种等离子启辉辅助装置及方法
本专利技术涉及半导体
,具体涉及一种等离子启辉辅助装置及方法。
技术介绍
现代感应耦合等离子刻蚀工艺要求等离子密度和能量可以独立精密控制,尤其需要感应耦合等离子体刻蚀机的上射频线圈激发高密度等离子体的同时,能够降低等离子体的能量。对于感应耦合等离子体刻蚀机的上射频线圈的要求就是尽量提高磁场对等离子体的贡献,减少电场的贡献,即降低线圈上的电压。这样的结果导致等离子体启辉变得越来越困难,通常的解决办法是在启辉步骤增加腔体压力和启辉功率,待等离子体启辉后转为正常工艺步骤。这一启辉过程造成工艺时间的延长,更坏的结果是较高的腔压和启辉功率会影响工艺的结果。
技术实现思路
为了解决上述问题,本专利技术公开一种等离子启辉辅助装置,包括:绝缘筒、电感线圈、射频电源和匹配器,所述电感线圈绕于所述绝缘筒外,所述电感线圈通过所述匹配器与所述射频电源相连接。本专利技术的等离子启辉辅助装置中,优选为,所述等离子启辉辅助装置用于感应耦合等离子体刻蚀机。本专利技术的等离子启辉辅助装置 ...
【技术保护点】
1.一种等离子启辉辅助装置,其特征在于,/n包括:绝缘筒、电感线圈、射频电源和匹配器,所述电感线圈绕于所述绝缘筒外,所述电感线圈通过所述匹配器与所述射频电源相连接。/n
【技术特征摘要】
1.一种等离子启辉辅助装置,其特征在于,
包括:绝缘筒、电感线圈、射频电源和匹配器,所述电感线圈绕于所述绝缘筒外,所述电感线圈通过所述匹配器与所述射频电源相连接。
2.一种等离子启辉辅助装置,其特征在于,
所述等离子启辉辅助装置用于感应耦合等离子体刻蚀机。
3.根据权利要求2所述的等离子启辉辅助装置,其特征在于,
所述绝缘筒套装在感应耦合等离子体刻蚀机的观察窗上。
4.根据权利要求3所述的等离子启辉辅助装置,其特征在于,
还包括直流电极,接入观察窗腔室内,在所述直流电极上通入负电压,用于收集带正电荷的离子,使所述观察窗腔室内的等离子呈现电负性,增加电子扩散概率。
5.根据权利要求1所述的等离子启辉辅助装置,其特征在于,
所述绝缘筒的材质为陶瓷或石英。
6.根据权利要求1所述的等离子启辉辅助装置,其特征在于,
所述射频...
【专利技术属性】
技术研发人员:王铖熠,刘小波,程实然,刘海洋,李娜,侯永刚,胡冬冬,许开东,
申请(专利权)人:江苏鲁汶仪器有限公司,
类型:发明
国别省市:江苏;32
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