一种光学模组制造技术

技术编号:24581957 阅读:41 留言:0更新日期:2020-06-21 01:14
本实用新型专利技术实施例公开了一种光学模组。该光学模组包括:基底;位于所述基底一侧上的遮光层以及多个微镜头,所述遮光层上设置有多个开口;所述开口露出所述微镜头;保护层,位于所述遮光层背离所述基底的一侧;所述保护层设置有多个第一通孔;所述微镜头在所述基底上的垂直投影位于所述第一通孔在所述基底上的垂直投影内;所述微镜头的顶部至底部的垂直距离为h,所述保护层的厚度为H,h<H。本实用新型专利技术实施例的技术方案,以实现对裸露在外的微镜头进行有效的保护,在光学模组的加工应用中更加方便。

An optical module

【技术实现步骤摘要】
一种光学模组
本技术实施例涉及显示
,尤其涉及一种光学模组。
技术介绍
随着生物识别技术的迅速发展,以指纹识别为代表的生物识别技术已经广泛应用于各种电子设备中,例如手机、平板电脑等。目前,电子设备可以采用集成于电子设备屏幕的下方的光学微镜头指纹芯片。光学微镜头指纹芯片通过采集手指反射的光线并对采集的反射光线进行识别以获取指纹图像信息的,其中,指纹图像信息主要是通过对指纹的各个特征点(指纹的波峰和波谷)反射的光线进行识别获得。然而,在光学微镜头指纹芯片的加工应用过程中,其微镜头是裸露在外,则易在模组组装和加工过程中被接触损伤,从而导致对指纹识别效果产生影响。
技术实现思路
本技术实施例提供一种光学模组及其光学模组的制备方法,以实现对裸露在外的微镜头进行有效的保护,在光学模组的加工应用中更加方便。第一方面,本技术实施例提供了一种光学模组,该光学模组包括:基底;位于所述基底一侧上的遮光层以及多个微镜头,所述遮光层上设置有多个开口;所述开口露出所述微镜头;保护层,位于所述遮光层背离所述基底的一侧;所述保护层设置有多个第一通孔;所述微镜头在所述基底上的垂直投影位于所述第一通孔在所述基底上的垂直投影内;所述微镜头的顶部至底部的垂直距离为h,所述保护层的厚度为H,h<H。可选的,所述保护层还包括多个第二通孔;所述第二通孔在所述基底上的垂直投影与所述微镜头在所述基底上的垂直投影不交叠。可选的,至少两个所述微镜头在所述基底上的垂直投影位于一个所述第一通孔在所述基底上的垂直投影内。可选的,所述光学模组还包括第一滤光层,所述第一滤光层设置于所述遮光层与所述基底之间。可选的,所述光学模组还包括第二滤光层,所述第二滤光层设置于所述基底背离所述遮光层的一侧。可选的,所述光学模组还包括增透层,所述增透层设置于所述遮光层与所述基底之间。可选的,所述微镜头的顶部至底部的垂直距离为h,h的取值范围为1-100um,所述微镜头d直径范围为3-1000um。可选的,所述保护层背离所述基底的表面还设置有方向标识。本技术实施例的技术方案,光学模组包括:基底;位于所述基底一侧上的遮光层以及多个微镜头,所述遮光层上设置有多个开口;所述开口露出所述微镜头;保护层,位于所述遮光层背离所述基底的一侧;所述保护层设置有多个第一通孔;所述微镜头在所述基底上的垂直投影位于所述第一通孔在所述基底上的垂直投影内;所述微镜头的顶部至底部的垂直距离为h,所述保护层的厚度为H,h<H。解决了现有技术中微镜头裸露在外,易在模组组装和加工过程中被接触损伤,从而导致对指纹识别效果产生影响的问题。以实现对裸露在外的微镜头进行有效的保护,在光学模组的加工应用中更加方便。附图说明图1是本技术实施例提供的一种光学模组的剖面示意图;图2是本技术实施例提供的一种光学模组的俯视示意图;图3是本技术实施例提供的另一种光学模组的俯视示意图;图4是本技术实施例提供的又一种光学模组的俯视示意图;图5为本技术实施例提供的一种光学模组的制备方法的流程图;图6-图11是本技术实施例提供的光学模组的制备方法各步骤形成的光学模组的流程图;图12是本技术实施例提供的另一种光学模组的制备方法的剖面示意图;图13是本技术实施例提供的另一种光学模组的制备方法的俯视图示意图。具体实施方式下面结合附图和实施例对本技术作进一步的详细说明。可以理解的是,此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本技术,而非对本技术的限定。另外还需要说明的是,为了便于描述,附图中仅示出了与本技术相关的部分而非全部结构。本技术实施例提供了一种光学模组,可适用于电子设备的光学指纹识别。图1为本技术实施例提供的一种光学模组的剖面示意图。参见图1,该光学模组包括:基底204;位于所述基底204一侧上的遮光层203以及多个微镜头202,所述遮光层203上设置有多个开口;所述开口露出所述微镜头202;保护层101,位于所述遮光层203背离所述基底204的一侧;所述保护层101设置有多个第一通孔;所述微镜头202在所述基底204上的垂直投影位于所述第一通孔在所述基底204上的垂直投影内;所述微镜头202的顶部至底部的垂直距离为h,所述保护层101的厚度为H,h<H。其中,基底204为该光学模组提供支撑,基底204的厚度范围为0.05-1.5mm。可选的,基底204可以为大片光玻璃,也可以为透过某种特定波长范围的光线的基板材料,例如硅片、有机薄膜等材料。遮光层203设置于基底204接收光线的一侧,用于遮挡一定波长范围的光线使其不能被透过。可选的,遮光层203的材质可以是一层有机膜,也可以是金属膜。遮光层203上设置有多个开口,遮光层203上的开口用于制作微镜头202。遮光层203上的开口数量可以由本领域技术人员根据实际需要进行设置,开口的形状可以与微镜头202的底部形状保证一致,开口在遮光层204上的排列方式可以由本领域技术人员根据实际需要进行设置。可选的,多个开口在遮光层203上成阵列式排列。需要说明的是上述设计的基底204透过特定波长范围的光线,以及遮光层203遮挡一定波长范围的光线可以为600纳米以上的红外线。微镜头202设置于遮光层203的多个开口上,用于改变接收到的光线的路线,有助于更好的成像。微镜头202的尺寸可以根据实际需要进行调整,微镜头202的底部形状可以是圆形,也可以是方形,优选的,微镜头202的底部形状为圆形。微镜头202的高度即为微镜头202的顶部至底部的垂直距离,记为h,可选的,1um≤h≤100um,所述微镜头d直径范围为3-1000um。微镜头202在遮光层204上排列彼此之间的间距范围为0.5~10000um,具体的微镜头202的高度范围、直径范围以及在遮光层上排列的间距范围均可以根据成像要求和光学设计来定义,本实施例对此不作任何限制。可以理解的是微镜头202与遮光层203上的开口一一对应,则遮光层204上的开口的数量以及开口的形状可以由微镜头202的数量以及底部形状决定。保护层101依据在遮光层203制作完成微镜头202的位置,在微镜头202的同侧进行制作。保护层101的材料可以为具有光敏特性、热稳定、耐化性好、耐刮擦且具有较高的硬度的有机材料。保护层101为一种图形化结构,设置有多个第一通孔用于将微镜头202四周围绕,且保护层101的高度高出微镜头202的高度约5-30um。第一通孔的形状可以根据保护层101的材料特性,以及所受到的平衡应力进行设计,可选的,第一通孔与微镜头的底部形状相同,即为圆形。在光学模组组装和加工过程中,有利于微镜头202的拿取,同时方便组装使用。可以理解的是为方便后续光学模组的切割分粒过程,则在光学模组的切割道区域不设置有保护层101。本技术本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光学模组,其特征在于,包括:/n基底;/n位于所述基底一侧上的遮光层以及多个微镜头,所述遮光层上设置有多个开口;所述开口露出所述微镜头;/n保护层,位于所述遮光层背离所述基底的一侧;所述保护层设置有多个第一通孔;所述微镜头在所述基底上的垂直投影位于所述第一通孔在所述基底上的垂直投影内;/n所述微镜头的顶部至底部的垂直距离为h,所述保护层的厚度为H,h<H。/n

【技术特征摘要】
1.一种光学模组,其特征在于,包括:
基底;
位于所述基底一侧上的遮光层以及多个微镜头,所述遮光层上设置有多个开口;所述开口露出所述微镜头;
保护层,位于所述遮光层背离所述基底的一侧;所述保护层设置有多个第一通孔;所述微镜头在所述基底上的垂直投影位于所述第一通孔在所述基底上的垂直投影内;
所述微镜头的顶部至底部的垂直距离为h,所述保护层的厚度为H,h<H。


2.根据权利要求1所述的光学模组,其特征在于,所述保护层还包括多个第二通孔;
所述第二通孔在所述基底上的垂直投影与所述微镜头在所述基底上的垂直投影不交叠。


3.根据权利要求1所述的光学模组,其特征在于,至少两个所述微镜头在所述基底上的垂直投影位于一个所述第一通孔在所述基底...

【专利技术属性】
技术研发人员:吉萍李永智金科赖芳奇吕军
申请(专利权)人:苏州科阳光电科技有限公司
类型:新型
国别省市:江苏;32

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