化学气相沉积设备温度均匀控制的方法技术

本发明专利技术公开了一种化学气相沉积设备温度均匀控制的方法，包括以下步骤：（1）划分出多个控制空间，在每个控制空间对应的沉积炉的炉壁区域的内表面安装温度传感器和电加热件，外表面安装冷却件；（2）采集实际温度值；（3）计算出各控制空间的实际温度值与各控制空间的理论温度值之间的差值；（4）根据得到的差值进行温度补偿。本发明专利技术将沉积设备的反应区分成多个控制空间，生产时，分空间实时监控沉积炉内温度，通过对采集的实际温度与理论温度值比较，得到误差补偿结果，以此分空间进行温度补偿，从而保证沉积炉内温度场分布均匀。

Temperature uniformity control method of CVD equipment

【技术实现步骤摘要】
化学气相沉积设备温度均匀控制的方法
本专利技术涉及化学气相沉积工艺领域，具体地说涉及一种化学气相沉积设备温度均匀控制的方法。
技术介绍
化学气相沉积是一种化工技术，该技术主要是利用含有薄膜元素的一种或几种气相化合物或单质、在衬底表面上进行化学反应生成薄膜的方法。然而沉积设备反应区温度对气体的反应影响很大，保证反应区温度均匀分布是沉积设备制造商迫切需要解决的问题。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题是提供一种能够保证沉积设备反应区温度场分布均匀的化学气相沉积设备温度均匀控制的方法。为了解决上述技术问题，本专利技术采用如下技术方案：化学气相沉积设备温度均匀控制的方法，化学气相沉积设备包括沉积炉，包括以下步骤：（1）以沉积炉的竖向中心线为轴线，沿着沉积炉的周向将沉积炉的内腔划分出多个呈扇形的控制区域，将每个控制空间沿着沉积炉的高度方向划分出多个控制空间，在每个控制空间对应的沉积炉的炉壁区域的内表面安装温度传感器和电加热件，外表面安装冷却件；（2）采集各控制空间内的温度传感器检测到的各控制空间本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.化学气相沉积设备温度均匀控制的方法，化学气相沉积设备包括沉积炉，其特征在于：包括以下步骤：/n（1）以沉积炉的竖向中心线为轴线，沿着沉积炉的周向将沉积炉的内腔划分出多个呈扇形的控制区域，将每个控制空间沿着沉积炉的高度方向划分出多个控制空间，在每个控制空间对应的沉积炉的炉壁区域的内表面安装温度传感器和电加热件，外表面安装冷却件；/n（2）采集各控制空间内的温度传感器检测到的各控制空间的实际温度值并传送给计算机；/n（3）计算机将各控制空间的实际温度值与各控制空间的理论温度值一一进行对比，计算出各控制空间的实际温度值与各控制空间的理论温度值之间的差值；/n（4）根据得到的各控制空间的实际温度值...

【技术特征摘要】
1.化学气相沉积设备温度均匀控制的方法，化学气相沉积设备包括沉积炉，其特征在于：包括以下步骤：
（1）以沉积炉的竖向中心线为轴线，沿着沉积炉的周向将沉积炉的内腔划分出多个呈扇形的控制区域，将每个控制空间沿着沉积炉的高度方向划分出多个控制空间，在每个控制空间对应的沉积炉的炉壁区域的内表面安装温度传感器和电加热件，外表面安装冷却件；
（2）采集各控制空间内的温度传感器检测到的各控制空间的实际温度值并传送给计算机；
（3）计算机将各控制空间的实际温度值与各控制空间的理论温度值一一进行对比，计算出各控制空间的实际温度值与各控制空间的理论温度值...

【专利技术属性】
技术研发人员：彭雨晴，信吉平，
申请(专利权)人：清华大学无锡应用技术研究院，
类型：发明
国别省市：江苏;32