感光性树脂组合物、干膜和印刷配线板制造技术

本发明专利技术提供一种感光性树脂组合物，其能够通过形成被膜并将该被膜曝光后进行热固化而制作电绝缘层，且能够充分固化至被膜的深部。感光性树脂组合物含有：包含不具有氨基甲酸酯键的树脂(A1)的含有羧基的不饱和树脂(A)、包含黑色着色剂(B1)的着色剂(B)、包含酰基氧化膦系光聚合引发剂(C1)和夺氢型光聚合引发剂(C2)的光聚合引发剂(C)、光聚合性化合物(D)、环氧化合物(E)、以及三聚氰胺和三聚氰胺衍生物中的至少一方(F)。

Photosensitive resin composition, dry film and printed wiring board

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】感光性树脂组合物、干膜和印刷配线板
本专利技术涉及感光性树脂组合物、干膜和印刷配线板，更详细而言，涉及能够很好地用于在印刷配线板上形成阻焊层等电绝缘层的感光性树脂组合物、含有该感光性树脂组合物的干膜和具备作为该感光性树脂组合物的固化物的阻焊层的印刷配线板。
技术介绍
以往，在制造印刷配线板时，为了形成阻焊层、抗镀层、抗蚀刻层、层间绝缘层等电绝缘层而一直使用各种电绝缘性树脂组合物。该树脂组合物例如为感光性树脂组合物。通过使由感光性树脂组合物构成的被膜经曝光而固化，能够形成电绝缘层。曝光可使用各种光源。专利文献1中提出了一种感光性树脂组合物，其包含：含有羧基的不饱和树脂(A)、着色剂(B)、光聚合引发剂(C)、光聚合性化合物(D)和环氧化合物(E)，所述含有羧基的不饱和树脂(A)包含含有甲酚酚醛清漆(cresolnovolak)骨架和苯酚酚醛清漆(Phenolnovolak)骨架中的至少一方以及氨基甲酸酯键的含有羧基的不饱和树脂(A1)。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2018－63405号公报
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种感光性树脂组合物,其能够通过形成被膜并将该被膜曝光后进行热固化而制作电绝缘层，且能够充分固化到被膜的深部。本专利技术的一个方式的感光性树脂组合物包含：含有羧基的不饱和树脂(A)着色剂(B)、光聚合引发剂(C)、光聚合性化合物(D)、环氧化合物(E)、以及三聚氰胺和三聚氰胺衍生物中的至少一方(F)。上述含有羧基的不饱和树脂(A)包含具有如下结构的树脂(A1)，所述结构是使具有甲酚酚醛清漆骨架和苯酚酚醛清漆骨架中的至少一方、羧基以及烯键式不饱和基团的树脂(A11)中的羧基的一部分与具有环氧基的含有不饱和基团的单体(A12)中的环氧基反应而得的。上述树脂(A1)不具有氨基甲酸酯键。上述着色剂(B)包含黑色着色剂(B1)。上述光聚合引发剂(C)包含酰基氧化膦系光聚合引发剂(C1)和夺氢型光聚合引发剂(C2)。本专利技术的一个方式的干膜含有上述感光性树脂组合物。本专利技术的一个方式的印刷配线板具备含有上述感光性树脂组合物的固化物的阻焊层。具体实施方式首先，对完成本专利技术的经过进行说明。当制造印刷配线板时，为了形成阻焊层、抗镀层、抗蚀刻层、层间绝缘层等电绝缘层，使用感光性树脂组合物。通过使由感光性树脂组合物构成的被膜经曝光而固化，能够形成电绝缘层。曝光使用各种光源。例如，专利文献1(日本特开第2018－63405号公报)中记载的感光性树脂组合物包含：含有羧基的不饱和树脂(A)、着色剂(B)、光聚合引发剂(C)、光聚合性化合物(D)和环氧化合物(E)，所述含有羧基的不饱和树脂(A)包含含有甲酚酚醛清漆骨架和苯酚酚醛清漆骨架中的至少一方以及氨基甲酸酯键的含有羧基的不饱和树脂(A1)。然而，专利文献1中记载的感光性树脂组合物在使由感光性树脂组合物形成的被膜曝光而固化时存在被膜的深部难以固化的情况。另外，表明被膜的固化程度根据曝光中使用的光源的种类而受到影响。因此，并不容易得到具有良好的绝缘性且能充分固化至被膜的深部的感光性树脂组合物。鉴于上述方面，专利技术人等发现一种感光性树脂组合物的组合，其通过形成被膜并将该被膜曝光后进行热固化而能够制作电绝缘层且能够实现充分固化至被膜的深部，从而完成了本专利技术。以下，对本专利技术的实施方式的感光性树脂组合物进行说明。应予说明，以下的说明中，“(甲基)丙烯酸(基)”是指“丙烯酸(基)”和“甲基丙烯酸(基)”中的至少一方。例如，(甲基)丙烯酸酯是指丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯中的至少一方。本实施方式的感光性树脂组合物(以下，称为组合物(X))包含含有羧基的不饱和树脂(A)、着色剂(B)、光聚合引发剂(C)、光聚合性化合物(D)、环氧化合物(E)、以及三聚氰胺和三聚氰胺衍生物中的至少一方(F)。含有羧基的不饱和树脂(A)包含具有如下结构的树脂(A1)，即，所述结构是使具有甲酚酚醛清漆骨架和苯酚酚醛清漆骨架中的至少一方、羧基以及烯键式不饱和基团的树脂(A11)中的羧基的一部分与具有环氧基的含有不饱和基团的单体(A12)中的环氧基反应而得的。树脂(A1)不具有氨基甲酸酯键。着色剂(B)包含黑色着色剂(B1)。光聚合引发剂(C)包含酰基氧化膦系光聚合引发剂(C1)和夺氢型光聚合引发剂(C2)。由于组合物(X)具有这样的构成，因此将由组合物(X)形成的被膜曝光时，能够将被膜充分固化至深部。特别是，由于含有羧基的不饱和树脂(A)中包含的树脂(A1)，具有来自树脂(A11)的不饱和键和来自含有不饱和基团的单体(A12)的不饱和键，因此能够使含有羧基的不饱和树脂(A)中的不饱和键的比例变高。因此，由组合物(X)形成的被膜能够具有良好的固化性。由此，容易使由组合物(X)形成的被膜固化至深部。此外，通过光聚合引发剂(C)包含酰基氧化膦系光聚合引发剂(C1)和夺氢型光聚合引发剂(C2)，从而容易使由组合物(X)形成的被膜进一步固化至深部。对组合物(X)中含有的各成分进行说明。含有羧基的不饱和树脂(A)包含具有如下结构的树脂(A1)，即，所述结构是使具有甲酚酚醛清漆骨架和苯酚酚醛清漆骨架中的至少一方、羧基以及烯键式不饱和基团的树脂(A11)中的羧基的一部分与具有环氧基的含有不饱和基团的单体(A12)中的环氧基反应而得的。树脂(A11)优选包含具有如下结构的树脂(A11－1)，所述结构是使多元酸酐(a2)与具有甲酚酚醛清漆骨架和苯酚酚醛清漆骨架中的至少一方、烯键式不饱和基团以及仲羟基的树脂(a1)中的仲羟基反应而得的。树脂(a1)优选具有具备甲酚酚醛清漆骨架和苯酚酚醛清漆骨架中的至少一方以及环氧基的化合物(a11)中的环氧基与含有不饱和基团的羧酸(a12)中的羧基反应而得的结构。另外，树脂(a1)优选具有由该反应而产生的仲羟基。即，在本实施方式中，通过使具有甲酚酚醛清漆骨架和苯酚酚醛清漆骨架中的至少一方以及环氧基的化合物(a11)中的环氧基与含有不饱和基团的羧酸(a12)中的羧基反应而合成树脂(a1)。树脂(a1)具有甲酚酚醛清漆骨架和苯酚酚醛清漆骨架中的至少一方、烯键式不饱和基团以及仲羟基。使多元酸酐(a2)与该树脂(a1)中的仲羟基反应而合成包含树脂(A11－1)的含有羧基的不饱和树脂(A11)。然后，通过使含有羧基的不饱和树脂(A11)与具有环氧基的含有不饱和基团的单体(A12)反应，能够得到包含树脂(A1)的含有羧基的不饱和树脂(A)。化合物(a11)具有甲酚酚醛清漆骨架和苯酚酚醛清漆骨架中的至少一方以及环氧基。化合物(a11)例如具有下述式(1)所示的结构。式(1)中的X为亚甲基，R为氢或烷基。具有甲酚酚醛清漆结构的树脂例如具有式(1)中的R为甲基的结构。具有苯酚酚醛清漆结构的树脂例如具有式(1)中的R为氢的结构。应予说明，式(1)中的n为0或正数。化合物(a11)为苯酚酚醛清漆型环氧树脂时，苯酚酚醛清漆型环氧树脂的例子包括本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种感光性树脂组合物，包含：/n含有羧基的不饱和树脂(A)、/n着色剂(B)、/n光聚合引发剂(C)、/n光聚合性化合物(D)、/n环氧化合物(E)、以及/n三聚氰胺和三聚氰胺衍生物中的至少一方(F)，/n所述含有羧基的不饱和树脂(A)包含树脂(A1)，所述树脂(A1)具有使树脂(A11)中的羧基的一部分与具有环氧基的含有不饱和基团的单体(A12)中的环氧基反应而得的结构，所述树脂(A11)具有甲酚酚醛清漆骨架和苯酚酚醛清漆骨架中的至少一方、羧基以及烯键式不饱和基团，/n所述树脂(A1)不具有氨基甲酸酯键，/n所述着色剂(B)包含黑色着色剂(B1)，/n所述光聚合引发剂(C)包含酰基氧化膦系光聚合引发剂(C1)和夺氢型光聚合引发剂(C2)。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180827 JP 2018-1585501.一种感光性树脂组合物，包含：
含有羧基的不饱和树脂(A)、
着色剂(B)、
光聚合引发剂(C)、
光聚合性化合物(D)、
环氧化合物(E)、以及
三聚氰胺和三聚氰胺衍生物中的至少一方(F)，
所述含有羧基的不饱和树脂(A)包含树脂(A1)，所述树脂(A1)具有使树脂(A11)中的羧基的一部分与具有环氧基的含有不饱和基团的单体(A12)中的环氧基反应而得的结构，所述树脂(A11)具有甲酚酚醛清漆骨架和苯酚酚醛清漆骨架中的至少一方、羧基以及烯键式不饱和基团，
所述树脂(A1)不具有氨基甲酸酯键，
所述着色剂(B)包含黑色着色剂(B1)，
所述光聚合引发剂(C)包含酰基氧化膦系光聚合引发剂(C1)和夺氢型光聚合引发剂(C2)。


2.根据权利要求1所述的感光性树脂组合物，其中，所述树脂(A1)的重均分子量在4000～50000的范围内。


3.根据权利要求1或2所述的感光性树脂组合物，其中，所述树脂(A11)包含树脂(A11－1)，所述树脂(A11－1)具有使多元酸酐(a2)与树脂(a1)中的仲羟基反应而得的结构，所述树脂(a1)具有甲酚酚醛清漆骨架和苯酚酚醛清漆骨架中的至少一方、烯键式不饱和基团和仲羟基。


4.根据权利要...

【专利技术属性】
技术研发人员：樋口伦也，西村飒太，桥本壮一，荒井贵，
申请(专利权)人：互应化学工业株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP