图像曝光装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种能够记录良好的图像并且能够使装置小型化的图像曝光装置。本发明专利技术的图像曝光装置(10)，具备：具有像素(13)的图像显示装置(12)；感光性记录介质支撑部(21)，使记录图像显示装置(12)的图像的感光性记录介质(14)的曝光面(14A)与图像显示装置(12)对置而支撑感光性记录介质(14)；百叶窗式薄膜(16)，设置于图像显示装置(12)与感光性记录介质支撑部(21)之间，在第1方向上交替配置有透射光的透光部(102)及遮住光的遮光部(104)，并且在第2方向上交替配置有透射光的透光部(102)及遮住光的遮光部(104)；及保护层(17)，设置于百叶窗式薄膜(16)的感光性记录介质支撑部(21)侧。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】图像曝光装置
本专利技术涉及一种图像曝光装置，尤其涉及一种选择从光源照射的光中朝向记录图像的感光性记录介质平行的光并利用该光进行曝光的图像曝光装置。
技术介绍
对于照片或光掩模等的曝光使用成像系统的光学系统统即投影光学系统统。然而，在投影光学系统统的情况下，在图像和感光材料之间需要透镜等光学系统统，并且需要大体积。当通过光掩模曝光半导体等的图案时，使掩模与感光材料密合或几乎密合。此时，在感光材料和掩模图案之间设置间隙或保护板，并投射平行光而使图像不模糊。并且，将从光源射出的光中与感光材料平行地射出的光照射到感光材料并进行曝光，从而使图像不模糊。例如，在下述专利文献1中，在感光材料与电子显示屏等发光图像之间设置光纤陈列等，并且在从显示屏向感光性材料照射的光中，只选择从显示屏朝向感光材料平行的光(准直)并照射到感光材料，从而能够曝光感光材料而不使发光图像模糊。以往技术文献专利文献专利文献1：美国专利第9126396号说明书
技术实现思路
专利技术要解决的技术课题然而，在专利文献1中记载的印刷装置中，由于光学系统统较大，导致整个装置大型化，从而期望将装置小型化。并且，由于光纤阵列具有捆绑薄光纤的结构，因此存在在显示器的像素间距与光纤的间距之间产生干涉波纹等问题。并且，很难减小开口数(NA：numericalaperture)。在光纤阵列板中，NA最小且为0.43，这是指透射±约25度的角度的光，并且还产生图像渗色。并且，为了提高分辨率，缩小光纤间距，并且使光纤阵列密合于记录介质而进行曝光，但是若继续印相多个图像，则光纤阵列的一部分脱落而成为产生图像缺陷的原因。另外，由于光纤阵列板的折射率的波长色散，因此透射率因波长而产生显著差异。例如，在蓝色与红色之间，透射率产生3倍以上的差异。本专利技术是鉴于这种情况而完成的，其目的在于提供一种通过从图像显示装置朝向感光性记录介质仅使用平行的光而能够记录良好的图像并且能够使装置小型化的图像曝光装置。并且，本专利技术的目的在于提供一种能够缩小从光源射出的光所透射的角度来防止图像渗色的产生并且防止准直装置的损坏还防止经曝光的图像的缺陷的图像曝光装置。用于解决技术课题的手段本专利技术为了实现上述目的，提供一种图像曝光装置，其具备：具有像素的图像显示装置；感光性记录介质支撑部，使记录图像显示装置的图像的感光性记录介质的曝光面与图像显示装置对置而支撑感光性记录介质；百叶窗式薄膜，设置于图像显示装置与感光性记录介质支撑部之间，在与图像显示装置的像素的排列面平行的表面上的第1方向上交替配置有透射光的透光部及遮住光的遮光部，并且在与第1方向垂直且与图像显示装置的像素的排列面平行的表面上的第2方向上交替配置有透射光的透光部及遮住光的遮光部；及保护层，设置于百叶窗式薄膜的感光性记录介质支撑部侧。根据本专利技术，通过使用在第1方向及与第1方向垂直的第2方向上交替配置有透光部及遮光部的百叶窗式薄膜，能够由遮光部遮住在从像素照射的光中与朝向感光性记录介质的方向不平行的倾斜照射的光。因此，能够仅使从图像显示装置照射的光中与朝向感光性记录介质平行的方向的光照射到感光性记录介质。由于仅利用与朝向感光性记录介质平行的光便能够将图像记录到感光性记录介质，因此能够形成图像中没有模糊的良好的图像。并且，由百叶窗式薄膜仅形成平行的光，由此能够省略大的光学系统并且能够使装置小型化。并且，通过在百叶窗式薄膜的感光性记录介质支撑部侧具有保护层来进行曝光时使保护层与感光性记录介质密合，由此能够防止破坏百叶窗式薄膜。并且，与第1方向垂直的第2方向并非是指相对于第1方向为90°，而是只要是发挥本专利技术的效果的范围，则也可以从90°偏移。在本专利技术的另一方式中，优选百叶窗式薄膜层叠第1层及第2层来形成，所述第1层仅在第1方向上交替配置有透光部及遮光部，所述第2层仅在第2方向上交替配置有透光部及遮光部。该方式中，示出了在第1方向及第2方向上交替配置透光部及遮光部的结构，作为第1层与第2层的层叠结构，设为仅在第1方向上交替配置有透光部及遮光部的第1层及仅在第2方向上交替配置有透光部及遮光部的第2层。由此，作为百叶窗式薄膜整体，能够设为在第1方向及第2方向上交替配置有透光部及遮光部的百叶窗式薄膜。在本专利技术的另一方式中，优选第1层的遮光部构成为沿着第2方向隔开间隔配置多个遮蔽部件，第2层的遮光部构成为沿着第1方向隔开间隔配置多个遮蔽部件。该方式中，示出了遮光部的方式，即使沿着第2方向隔开间隔配置第1层的遮光部的多个遮蔽部件，沿着第1方向隔开间隔配置第2层的光学遮蔽部的多个遮蔽部件，也能够由遮光部遮住从像素照射的倾斜光，仅设为朝向感光性记录介质的平行的光。在本专利技术的另一方式中，优选保护层的厚度为0.1μm以上且500μm以下。在本专利技术的另一方式中，优选保护层的感光性记录介质支撑部侧为非粘性。另外，非粘性是指将感光性记录介质载置于保护层的感光性记录介质支撑部侧的表面，并且将保护层倾斜90度时感光性记录介质掉落。在本专利技术的另一方式中，优选百叶窗式薄膜的遮光部的间距为像素的间距的40％以上且95％以下或105％以上且195％以下。在本专利技术的另一方式中，优选百叶窗式薄膜的从像素射出的650nm的光的透射率相对于从像素射出的450nm的光的透射率为50％以上且200％以下的范围。根据该方式，能够减小从像素射出的650nm的光与450nm的光的透射率之差。在本专利技术的另一方式中，优选为图像显示装置具有排列成二维状的像素，并且使感光性记录介质的曝光面的二维状的全部区域同时曝光。在本专利技术的另一方式中，优选为图像显示装置具有排列成一维状的像素，并且图像曝光装置具备扫描单元，所述扫描单元沿着与图像显示装置的像素的排列方向垂直的方向扫描图像显示装置和由感光性记录介质支撑部支撑的感光性记录介质中的至少任一个。在本专利技术的另一方式中，优选为图像显示装置具有在比感光性记录介质的曝光面的面积小的区域上排列成二维状的像素，并且图像曝光装置具备扫描单元，所述扫描单元沿着图像显示装置的像素的排列方向以及与像素的排列方向垂直的方向扫描图像显示装置和由感光性记录介质支撑部支撑的感光性记录介质中的至少任一个。这些方式中，示出了将图像显示装置的图像曝光到感光性记录介质的装置的方式。作为曝光装置，可以一次曝光整个面，也可以使用面积比感光性记录介质的曝光面的面积小的图像显示装置，通过扫描图像显示装置，能够将图像记录到感光性记录介质的所有区域。在本专利技术的另一方式中，优选为在从像素射出的光在支撑感光性记录介质的曝光面的位置上的曝光范围内，相邻的曝光范围部分重叠。在本专利技术的另一方式中，优选为在图像显示装置与百叶窗式薄膜之间具备将从像素射出的光转换为平行光的准直部。在本专利技术的另一方式中，优选为准直部包括光纤板及毛细管板中的至少任一种。专利技术效果根据本专利技术的图像曝光装置，能够通过在第1方向及第2本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种图像曝光装置，其具备：/n具有像素的图像显示装置；/n感光性记录介质支撑部，使记录所述图像显示装置的图像的感光性记录介质的曝光面与所述图像显示装置对置而支撑所述感光性记录介质；/n百叶窗式薄膜，设置于所述图像显示装置与所述感光性记录介质支撑部之间，在与所述图像显示装置的像素的排列面平行的表面上的第1方向上交替配置有透射光的透光部及遮住光的遮光部，并且在与所述第1方向垂直且与所述图像显示装置的像素的排列面平行的表面上的第2方向上交替配置有透射光的透光部及遮住光的遮光部；及/n保护层，设置于所述百叶窗式薄膜的所述感光性记录介质支撑部侧。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20171107 JP 2017-2145631.一种图像曝光装置，其具备：
具有像素的图像显示装置；
感光性记录介质支撑部，使记录所述图像显示装置的图像的感光性记录介质的曝光面与所述图像显示装置对置而支撑所述感光性记录介质；
百叶窗式薄膜，设置于所述图像显示装置与所述感光性记录介质支撑部之间，在与所述图像显示装置的像素的排列面平行的表面上的第1方向上交替配置有透射光的透光部及遮住光的遮光部，并且在与所述第1方向垂直且与所述图像显示装置的像素的排列面平行的表面上的第2方向上交替配置有透射光的透光部及遮住光的遮光部；及
保护层，设置于所述百叶窗式薄膜的所述感光性记录介质支撑部侧。


2.根据权利要求1所述的图像曝光装置，其中，
层叠第1层及第2层来形成所述百叶窗式薄膜，所述第1层仅在所述第1方向上交替配置有所述透光部及所述遮光部，所述第2层仅在所述第2方向上交替配置有所述透光部及所述遮光部。


3.根据权利要求2所述的图像曝光装置，其中，
所述第1层的所述遮光部构成为沿着所述第2方向隔开间隔配置多个遮蔽部件，所述第2层的所述遮光部构成为沿着所述第1方向隔开间隔配置多个遮蔽部件。


4.根据权利要求1至3中任一项所述的图像曝光装置，其中，
所述保护层的厚度为0.1μm以上且500μm以下。


5.根据权利要求1至4中任一项所述的图像曝光装置，其中，
所述保护层的所述感光性记录介质支撑部侧为非粘性。


6.根据权利要求1至5中任一项所述的图像曝光装置，其中，
所述百叶窗式薄膜的所述遮光部的间距为所述像素的间距的40％以上且95％以下或105％以上且195％以下。


7...

【专利技术属性】
技术研发人员：宇佐美由久，园田慎一郎，吉泽宏俊，
申请(专利权)人：富士胶片株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP