曝光装置及曝光方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种曝光装置及曝光方法，该曝光装置将对形成于被曝光基板的已有基准图案进行拍摄后的基准图案数据与光掩模的基准位置部数据进行比较，检测宽度方向上光掩模的偏移量，计算出光掩模的暂定移动量，预先存储被曝光基板或光掩模的偏转状态变化的装置固有的偏转特性数据，并基于偏转特性数据，进行对光掩模移动量施加补正的控制。

Exposure device and method

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】曝光装置及曝光方法
本专利技术涉及曝光装置及曝光方法。
技术介绍
曝光装置在用于对液晶面板的取向膜进行取向处理的光取向处理、光刻工序中使用的光致抗蚀剂的曝光等广泛的
中使用。近年来，液晶面板、有机EL(Electro-Luminescence：电致发光)面板等的FPD(FlatPanelDisplay：平板显示器)在大型化及高精细化方面进展。在FPD中，用于曝光的光掩模越大型，生产成本就越大幅升高。另外，在大型的光掩模中，存在有挠曲、变形等的发生概率变高的问题。作为该对策，已知有例如专利文献1公开的取向处理装置。在该取向处理装置中，对于向规定方向以规定速度搬运的基板，使用了多个小型的光掩模组。在上述取向处理装置中，根据形成于基板的已有的线状图案、和形成于光掩模的基准图案的位置关系，检测光掩模相对于基板的偏移量。检测该偏移量的位置位于比之后进行曝光处理的位置更靠搬运方向的上游侧。然后，检测出上述偏移量的位置的基板部分通过向下游侧搬运基板，朝向进行曝光处理的位置。此时，基于上述偏移量，使光掩模向宽度方向(与搬运方向呈直角的方向)补正移本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种曝光装置，其具备：/n光掩模，其在掩模面内分离地形成有基准位置部和曝光用光透射部，所述光掩模相对于被曝光基板沿着扫描方向相对地移动，其中，所述被曝光基板沿着所述扫描方向形成有已有的基准图案；/n拍摄部，其与所述光掩模一体地配置，并且拍摄所述基准图案和所述基准位置部；以及/n控制部，其进行如下控制，对基准位置部数据和基准图案数据进行比较，其中，所述基准位置部数据和所述基准图案数据是通过所述拍摄部对所述基准位置部和所述被曝光基板中的部分曝光预定区域的所述基准图案进行拍摄而得到的数据，并且所述控制部检测在与所述被曝光基板的所述扫描方向形成直角的宽度方向上的所述光掩模的偏移量而计算出所述光掩模...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20171208 JP 2017-2364901.一种曝光装置，其具备：
光掩模，其在掩模面内分离地形成有基准位置部和曝光用光透射部，所述光掩模相对于被曝光基板沿着扫描方向相对地移动，其中，所述被曝光基板沿着所述扫描方向形成有已有的基准图案；
拍摄部，其与所述光掩模一体地配置，并且拍摄所述基准图案和所述基准位置部；以及
控制部，其进行如下控制，对基准位置部数据和基准图案数据进行比较，其中，所述基准位置部数据和所述基准图案数据是通过所述拍摄部对所述基准位置部和所述被曝光基板中的部分曝光预定区域的所述基准图案进行拍摄而得到的数据，并且所述控制部检测在与所述被曝光基板的所述扫描方向形成直角的宽度方向上的所述光掩模的偏移量而计算出所述光掩模的暂定移动量，随着所述部分曝光预定区域向在所述曝光用光透射部进行曝光的位置移动，基于所述暂定移动量使所述光掩模在所述宽度方向上移动，
所述曝光装置对所述被曝光基板中的沿着所述扫描方向的所述部分曝光预定区域进行连续或间歇性地曝光，
所述控制部将偏转特性作为偏转特性数据而预先存储，并且基于所述偏转特性数据对所述暂定移动量施加补正而使所述光掩模在所述宽度方向上移动，其中，所述偏转特性是伴随所述被曝光基板和所述光掩模向所述扫描方向的相对的移动而产生的、所述被曝光基板或所述光掩模的偏转状态发生变化的装置固有的偏转特性。


2.根据权利要求1所述的曝光装置，其中，
所述曝光装置检测由所述拍摄部拍摄到的所述被曝光基板的在所述宽度方向上延伸的已有的宽度方向图案中的所述宽度方向的两端部的、所述扫描方向的彼此位置的差，并且检测所述偏转特性的随时间的变化，在所述宽度方向图案的所述两端部的所述扫描方向的彼此位置的差大于允许值时，更新所述偏转特性数据。


3.根据权利要求1或2所述的曝光装置，其中，
所述被曝光基板沿着基板搬运导轨向所述扫描方向被搬运，
所述光掩模被设置成在所述扫描方向上的既定位置处，能够在与所述扫描方向形成直角的所述宽度方向上移动。


4.根据权利要...

【专利技术属性】
技术研发人员：新井敏成，竹下琢郎，
申请(专利权)人：株式会社V技术，
类型：发明
国别省市：日本;JP