【技术实现步骤摘要】
一种真空中可调光阑的结构
本技术涉及物理气相沉积
，具体为一种真空中可调光阑的结构。
技术介绍
磁控溅射的工作原理是指电子在电场E的作用下，在飞向基片过程中与氩原子发生碰撞，使其电离产生出Ar正离子和新的电子；新电子飞向基片，Ar离子在电场作用下加速飞向阴极靶，并以高能量轰击靶表面，使靶材发生溅射，磁控溅射技术具有沉积速度快、基材温升低、薄膜纯度高、致密性好、工艺可重复性高等优点广泛应用于微电子、光学薄膜、材料表面处理等领域，而磁控溅射束流沉积正是磁控溅射领域的核心技术之一。磁控溅射由于其工作特性需要在中真空的环境下工作，而当需要制备超纯的纳米薄膜时，溅射束流需要沉积到超高真空环境中的基底上去，必须在其间设置差分真空系统，传统的差分真空是通过节流孔来实现压强的过渡的，而节流孔的大小是影响差分真空系统的关键因素之一，节流孔设置完后是不可以更改其孔径尺寸的，差分系统的压强差只能通过改变真空泵的抽气速率来调节，绝大多数真空泵是不具备调节抽速的功能的，即便可调抽速，也需要耗费更多能源来获得所需的差分环境，针对上述问题，...
【技术保护点】
1.一种真空中可调光阑的结构，包括冷凝腔(1)、可调光阑主体(3)、深沟球轴承(16)和轴承座主体(18)，其特征在于：所述冷凝腔(1)与可调光阑固定座(2)相互连接，且可调光阑固定座(2)的内部安装有可调光阑主体(3)，并且可调光阑固定座(2)通过第一十字槽螺钉(4)与冷凝腔(1)固定连接，所述可调光阑固定座(2)通过第一密封圈(5)与可调光阑主体(3)相互连接，且可调光阑主体(3)的右侧通过第二密封圈(6)与可调光阑盖(7)相互连接，所述可调光阑盖(7)通过第二十字槽螺钉(8)与可调光阑固定座(2)固定连接，所述可调光阑主体(3)与可调光阑连接螺杆(9)相互连接，且可调...
【技术特征摘要】
1.一种真空中可调光阑的结构，包括冷凝腔(1)、可调光阑主体(3)、深沟球轴承(16)和轴承座主体(18)，其特征在于：所述冷凝腔(1)与可调光阑固定座(2)相互连接，且可调光阑固定座(2)的内部安装有可调光阑主体(3)，并且可调光阑固定座(2)通过第一十字槽螺钉(4)与冷凝腔(1)固定连接，所述可调光阑固定座(2)通过第一密封圈(5)与可调光阑主体(3)相互连接，且可调光阑主体(3)的右侧通过第二密封圈(6)与可调光阑盖(7)相互连接，所述可调光阑盖(7)通过第二十字槽螺钉(8)与可调光阑固定座(2)固定连接，所述可调光阑主体(3)与可调光阑连接螺杆(9)相互连接，且可调光阑连接螺杆(9)安装在连接轴主体(10)的顶端，所述连接轴主体(10)的底端安装有连接轴座(11)，且连接轴座(11)通过第一平端紧定螺钉(12)与连接轴主体(10)固定连接，所述连接轴座(11)的下方设置有第一齿轮(14)，且第一齿轮(14)通过第二平端紧定螺钉(13)与驱动杆(20)固定连接，并且第一齿轮(14)的上方与第二齿轮(15)相互连接，所述第二齿轮(15)通过深沟球轴承(16)安装在连接轴座(11)上，且第二齿轮(15)的左侧固定安装有轴承盖板(17)，所述连接轴座(11...
【专利技术属性】
技术研发人员：邵玮，
申请(专利权)人：南通纳瑞纳米科技有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32
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