【技术实现步骤摘要】
一种含硫有机硅化合物及其制备方法和用途
本专利技术涉及有机硅合成技术，尤其是一种含硫有机硅化合物及其制备方法和用途。
技术介绍
透明树脂塑料材质，如聚碳酸酯塑料，具有重量轻、易加工、耐冲击等特点，由树脂制成的透镜作为太阳眼镜镜片、头盔镜片、劳保镜片等光学基材的材料，在替换玻璃镜片等方面迅速得到了广泛的应用。但塑料镜片表面柔软，容易受到刮擦而被划伤，所以需要设置硬涂层起到保护作用。用于形成硬硬涂层的材料通常为为有机硅类型材料。常见有机硅材料由于折射率较低，形成硬涂层时，由于和聚碳酸酯基材折射率(1.586)不匹配，形成光的干涉现象，即镜片表面出现彩虹纹，影响外观。硫元素具有折射率高的特点，将含硫化合物引入到有机硅材料中，可以提升有机硅材料的折射率，从而可以很好地匹配聚碳酸酯基材，降低光的干涉现象。
技术实现思路
本专利技术的目的是为了克服现有的有机硅材料折射率偏低的不足，提供一种新的含硫有机硅化合物，其具有如下通式：通过本专利技术得到的含硫有机硅化合物，还具有高官能度的特点，...
【技术保护点】
1.一种含硫有机硅化合物，其特征在于：所述含硫有机硅化合物具有如下通式：/n
【技术特征摘要】
1.一种含硫有机硅化合物，其特征在于：所述含硫有机硅化合物具有如下通式：
其中，R1独立地代表碳原子数1～4的烷基；R2独立地代表碳原子数1～3的烷基；x独立地为1、2或3；n为选自2-6的整数。
2.根据权利要求1所述含硫有机硅化合物，其特征在于：R1代表碳原子数1～3的烃基；优选地，R1代表甲基或乙基；
任选的，R2代表甲基或乙基；
任选的，n为3、4或5。
3.根据权利要求1或2所述含硫有机硅化合物，其特征在于：所述含硫有机硅化合物的结构式如下：
4.一种权利要求1-3中任一项所述含硫有机硅化合物的制备方法，其特征在于：包括将化合物1和化合物2进行氨基和异氰酸酯基的加成反应，反应式如下：
其中，所述化合物1为异氰酸酯基硅烷，所述化合物2为硫脲，在反应式中：R1独立地代表碳原子数1～4的烷基；R2独立地代表碳原子数1～3的烷基；x独立地为1、2或3；n为选自2-6的整数。
5.根据权利要求4所述含硫有机硅化合物的制备方法，其特征在于：所述化合物1为3-异氰酸酯基丙基三甲氧基硅烷、3-异氰酸酯基丙基三乙氧基硅烷、3-异氰酸...
【专利技术属性】
技术研发人员：吴后胜，肖立铃，严国杭，刘世基，
申请(专利权)人：厦门威亮光学涂层技术有限公司，
类型：发明
国别省市：福建;35
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