一种双出口平行透镜制造技术

本发明专利技术公开了一种双出口平行透镜，包括：磁轭(1)、磁极(2)、线圈(3)、真空盒(4)。平行透镜磁极面有一个入口和两个出口，入口磁极边线形状为圆弧，两个出口边线形状为曲率不同的曲线。当线圈加一定电流后，带电离子束以一定角度由入口进入平行透镜，通过在磁场中路径长度不同，会以同一角度出射，达到离子束平行化的目的。磁极面两个出口，通过改变平行透镜电流方向，可以改变离子束的出口方向，从而实现两个方向离子束平行化。在离子注入机上，平行透镜的作用是通过磁场产生的磁场力，使带电离子在磁场中偏转不同的角度，从而使不同角度的离子束平行化，以同一角度注入晶圆。一般的平行透镜只有一个偏转方向，只能够对应一个靶室。本发明专利技术公开的平行透镜可以通过改变电流的方向，使离子束偏转进入不同的靶室，从而提高离子注入的产能。本发明专利技术涉及离子注入装置，隶属于半导体制造领域。

A double exit parallel lens

【技术实现步骤摘要】
一种双出口平行透镜
本专利技术涉及一种集成电路制造装备，即离子注入机，特别地涉及一种用于离子注入机的一种双出口平行透镜。
技术介绍
随着集成电路工艺技术的提高，对离子注入设备提出了更高的要求；随着先进工艺制程的发展，对于离子注入晶圆的角度和平行度要求更高，对于离子注入产能要求也更高。本专利技术提供一种双出口平行透镜，可以在保证通过束流平行度和偏转角度的情况下，为两个靶室提供平行化的注入束流，提高离子注入机的产能。
技术实现思路
本专利技术公开了一种双出口平行透镜，在离子注入机工作过程中，平行透镜的作用是通过设计好的磁极形状，进入其中的离子束偏转不同的角度，从而保证离子束出射时角度一致。一般的平行透镜只有一个入口与出口，其对应于一个靶台工作。本专利技术公开的一种双出口平行透镜，其磁极结构为左右对称设计，有一个入口和两个出口。通过改变电流方向，可以使离子束从中同的出口出射，从而同时服务于两个靶台工位，提高离子注入机的产能。本专利技术通过以下技术方案实现：1.一种双出口平行透镜，包括：磁轭(1)、磁本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种双出口平行透镜，包括：磁轭(1)、磁极(2)、线圈(3)、真空盒(4)。平行透镜磁极面有一个入口和两个出口，入口磁极边线形状为圆弧，两个出口边线形状为曲率不同的曲线。当线圈加一定电流后，带电离子束以一定角度进入平行透镜，通过在磁场中路径长度不同，会以同一角度出射，达到离子束平行化的目的。磁极面两个出口，通过改变平行透镜电流方向，可以改变离子束的出口方向，从而实现两个方向离子束平行化。/n

【技术特征摘要】
1.一种双出口平行透镜，包括：磁轭(1)、磁极(2)、线圈(3)、真空盒(4)。平行透镜磁极面有一个入口和两个出口，入口磁极边线形状为圆弧，两个出口边线形状为曲率不同的曲线。当线圈加一定电流后，带电离子束以一定角度进入平行透镜，通过在磁场中路径长度不同，会以同一角度出射，达到离子束平行化的目的。磁极面两个出口，通过改变平行透镜电流方向，可以改变离子束的出口方向，从而实现两个方向离子束平行化。


2.如权利要求1所述的一种双...

【专利技术属性】
技术研发人员：张喻召，李晨冉，李士会，
申请(专利权)人：北京中科信电子装备有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11