【技术实现步骤摘要】
一种光刻机运动台系统和光刻机
本专利技术属于光刻
，具体的说是一种光刻机运动台系统和光刻机。
技术介绍
光刻机(MaskAligner)又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。在硅片表面匀胶，然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程。生产集成电路的简要步骤：1、利用模版去除晶圆表面的保护膜。2、将晶圆浸泡在腐化剂中，失去保护膜的部分被腐蚀掉后形成电路。3、用纯水洗净残留在晶圆表面的杂质。现有技术中也出现了一些关于光刻机的技术方案，如申请号为2015110318316的一项中国专利公开了一种光刻机运动台系统和光刻机，所述光刻机运动台系统，包括基座台和位于基座台上方的工件台，还包括设置在基座台和工件台之间的随动台，所述随动台上表面始终作为所述工件台的气浮支撑面。本专利技术提供的技术方案，通过在基座台和工件...
【技术保护点】
1.一种光刻机运动台系统，其特征在于：包括基座(1)和基座(1)上的工作台(11)，工作台(11)与基座(1)之间设有随动台(12)，随动台(12)上表面始终作为所述工作台(11)的气浮支撑面，随动台(12)通过其底部设置的水平驱动单元(13)控制移动；所述基座(1)上设有垂直移动单元(14)与水平移动单元(15)，垂直移动单元(14)与水平移动单元(15)用于驱动光刻单元(16)位移；所述随动台(12)一侧固连有反光板(17)，基座(1)上方两侧对称设有一号支架(2)与二号支架(21)，一号支架(2)上安装有倾斜向下的激光发射器(22)，二号支架(21)上与激光发射器(2...
【技术特征摘要】
1.一种光刻机运动台系统，其特征在于：包括基座(1)和基座(1)上的工作台(11)，工作台(11)与基座(1)之间设有随动台(12)，随动台(12)上表面始终作为所述工作台(11)的气浮支撑面，随动台(12)通过其底部设置的水平驱动单元(13)控制移动；所述基座(1)上设有垂直移动单元(14)与水平移动单元(15)，垂直移动单元(14)与水平移动单元(15)用于驱动光刻单元(16)位移；所述随动台(12)一侧固连有反光板(17)，基座(1)上方两侧对称设有一号支架(2)与二号支架(21)，一号支架(2)上安装有倾斜向下的激光发射器(22)，二号支架(21)上与激光发射器(22)对应位置设有感光板(23)，感光板(23)与激光发射器(22)均通过控制器连接电源；所述激光发射器(22)发出的激光经反光板(17)反射后打在感光板(23)上；所述随动台(12)与水平驱动单元(13)之间设有一组补偿单元(3)，补偿单元(3)通过控制器连接电源，补偿单元(3)用于补偿随动台(12)受热后引起的变形。
2.根据权利要求1所述的一种光刻机运动台系统，其特征在于：一号支架(2)与二号支架(21)顶部固连有横杆(24)，且一号支架(2)与二号支架(21)与基座(1)分离设置；所述反光板(17)与随动台(12)之间固连有隔热的陶瓷座(25)，陶瓷座(25)配合横杆(24)用于减少基座(1)温度变化引起的变形对激光发射器(22)发射的激光角度的影响，提高补偿单元(3)的调节精度。
3.根据权利要求2所述的一种光刻机运动台系统，其特征在于：所述补偿单元(3)包括支撑杆(31)，支撑杆(31)中部设有凸块(32)，凸块(32)与水平移动单元(15)固连，支撑杆(31)贯穿凸块(32)并与凸块(32)螺纹连接；所述支撑杆(31)一端固连有关节球(33)，关节球(33)与随动台(12)关节轴承连接，支撑杆(31)另一端套设有蜗轮(34)，支撑杆(31)靠近蜗...
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