一种液晶成像光刻装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及一种液晶成像光刻装置，包括机体，所述机体内部上下方向依次安装有曝光光源、平行光聚焦透镜、冷空气流动层、LCD液晶屏和光刻面板，其中，所述光刻面板上表面贴敷有均匀覆盖膜胶层，所述冷空气流动层与所述LCD液晶屏之间设有滤波片，所述LCD液晶屏与所述感光膜间设有高精度聚焦成像透镜模组，所述冷空气流动层横嵌在在所述机体内部，所述冷空气流动层与所述机体外部相通并通过管道连接到气体装置，所述LCD液晶屏电连接到所述上位机。本实用新型专利技术提供一种液晶成像光刻装置，加入可选择光波段的LED高准直平行光光刻系统，可以直接对需要运用图像转移的感光涂层进行高精度，高转换效率，以及环保无污染和零库存的生产和运作。

A liquid crystal imaging photolithography device

【技术实现步骤摘要】
一种液晶成像光刻装置
本技术涉及一种快速数字图像曝光光刻装置，具体涉及一种精密液晶屏成像光刻装置，属于光敏感光膜或者感光涂料快速曝光成像的自动一体化数码图像光刻转移领域，广泛适用于半导体线路光刻，立体LOGO图案成型，精密线路板图像曝光，IC芯片载板图像曝光，IC引线框架图形曝光等。
技术介绍
传统工业领域用于图像转移的光刻工艺一般流程和设备是：待转移图像输入光绘机由激光绘出图形的菲林底片同时光绘机有配套的冲片机加显影药水显影出黑色和透明的工业相片黑白底片，然后将绘好的底片覆盖于待曝光并且贴好光敏膜或者光敏涂布层的目标物上部，使用大功率紫外曝光机进行UV光能量的透射并且同时底片的图像进行1：1转移到光敏涂布目标物上的工艺操作。底片光绘和冲片等工艺不仅原材料成本高昂还需要特殊的温度环境保障工业菲林底片生产过程不变形和涨缩，而且有冲片显影药水使用过程和产生的废液等不符合环保要求造成的成本和环境污染。现有工业领域图像转移基本使用设备有：光绘机、冲片机、曝光机和恒温恒湿环境用于存放日积月累绘好的大量菲林底片，并且每一张底片绘制和显影的时间一般需要2-3个小时，还有菲林片于光绘和显影前后都需要4-5小时的菲林静置时间。样品一多就需要多台设备和人员操作。
技术实现思路
为解决现有技术存在的问题，本技术提供一种液晶成像光刻装置，同时加入可选择光波段的LED高准直平行光光刻系统，可以直接对需要运用图像转移的感光涂层进行高精度，高转换效率，以及环保无污染和零库存的生产和运作。为实现上述目的，本技术采用的技术方案是：一种液晶成像光刻装置，其特征在于，包括机体，所述机体内部上下方向依次安装有曝光光源、平行光聚焦透镜、冷空气流动层、LCD液晶屏和光刻面板。其中，所述光刻面板上表面贴敷有均匀覆盖膜胶层，所述冷空气流动层与所述LCD液晶屏之间设有滤波片，所述LCD液晶屏与所述均匀覆盖膜胶层间设有高精度聚焦成像透镜模组。所述冷空气流动层横嵌在所述机体内部，所述冷空气流动层与所述机体外部相通并通过管道连接到气体装置。所述LCD液晶屏电连接到上位机。优选的是，所述机体的侧面设有上安装孔，所述滤波片可拆卸的安装在所述上安装孔内部。在上述任一方案中优选的是，所述高精度聚焦成像透镜模组包括光学聚焦镜片，所述光学聚焦镜片包括放大和缩小不同比例的光学镜片。在上述任一方案中优选的是，所述机体的侧面设有下安装孔，所述高精度聚焦成像透镜模组可拆卸的安装在所述下安装孔内部。在上述任一方案中优选的是，所述曝光光源包括不同波段的LED光源，所述LED光源按照射面积可以依据所述LCD液晶屏的大小无缝并列并排拼接成相应大小的尺寸。在上述任一方案中优选的是，所述平行光聚焦透镜可以根据所述LCD液晶屏的大小无缝并列并排拼接成相应的尺寸。在上述任一方案中优选的是，所述气体装置包括冷空气输送装置和空气排放管，所述冷空气流动层的一端通过管道固定连接所述冷空气输送装置，所述冷空气流动层的另一端通过管道固定连接所述空气排放管。在上述任一方案中优选的是，所述上位机包括计算机、单片机等。在上述任一方案中优选的是，所述均匀覆盖膜胶层包括感光膜和透明胶等。在上述任一方案中优选的是，所述光刻面板与所述机体可拆卸连接，同时所述光刻面板为线路板、金属板、陶瓷面板、硅晶片等中的一种。与现有技术相比，本技术提供的一种液晶成像光刻装置具有以下有益效果：1)利用液晶屏LCD成像原理，在微型计算机及显示屏驱动电路的驱动下，由计算机程序提供图像信号，在液晶屏幕上出现选择性的透明区域，曝光光源在平行光聚焦透镜的作用下平行照射，使光源分布均匀，通过透明区域在光刻面板上成像，高精度，高转换效率，以及环保无污染和零库存的生产和运作。2)光刻面板上覆盖有感光膜或者胶，在光刻面板的表面形成均匀覆盖的稳定层，在曝光成像以及显影后防止电镀和蚀刻。3)可以通过拆卸的滤波片可以对不同的波长的光线进行筛选，也可以不安装滤波片进行成像，方便准确。4)通过拆卸安装高精度聚焦成像透镜模组可以将待曝光图像放大或者缩小甚至同比例，适用范围广泛。5)散热的冷空气流动层使的LED发的光射到液晶屏上的温度有效降低可有效延长LCD液晶屏的使用寿命。6)采用LCD液晶显示屏，显示精度高。7)节能省电，常用的曝光机，包括DMD技术激光曝光和光绘菲林成像曝光都需要大功率照明灯或者进口激光器作光源，本专利技术采用准确选择性的多光谱的LED光源，只用传统曝光机5％—10％的功耗就能满足曝光干膜等感光物质的条件。8)本专利技术的构建的设备曝光成像精度高，成本低廉，技术成熟，维护成本低。附图说明图1为本技术提供的一种液晶成像光刻装置的内部结构示意图；图中标注说明：1、曝光光源；2、平行光聚焦透镜；3、冷空气流动层；4、滤波片；5、LCD液晶屏；6、高精度聚焦成像透镜模组；7、感光膜；8、光刻面板。具体实施方式为了更进一步了解本技术的
技术实现思路
，下面将结合具体实施例详细阐述本技术。如图1所示，按照本技术提供的一种液晶成像光刻装置的一实施例，包括机体，机体内部上下方向依次安装有曝光光源1、平行光聚焦透镜2、冷空气流动层3、LCD液晶屏5和光刻面板8。在本实施例中，机体的侧面开设有上安装孔和下安装孔。在上一实施例中，曝光光源1可以为全光谱任意波段LED光源，包括不同波段的LED光源，LED光源按照射面积可以依据LCD液晶屏5的大小无缝并列并排拼接成相应大小的尺寸。在上一实施例中，平行光聚焦透镜2输出光源为准直平行光，平行光聚焦透镜2可以根据LCD液晶屏5的大小无缝并列并排拼接成相应的尺寸。光刻面板8上表面贴敷有均匀覆盖膜胶层，均匀覆盖膜胶层包括感光膜7和透明胶等，其中，感光膜7为优选，冷空气流动层3与LCD液晶屏5之间设有滤波片4，LCD液晶屏5与感光膜7间设有高精度聚焦成像透镜模组6，其中，滤波片4可拆卸的安装在上安装孔内部，高精度聚焦成像透镜模组6可拆卸的安装在下安装孔内部。在上一实施例中，感光膜7涂布或者帖敷在光刻面板8上，光刻面板8可以对感光膜7进行平面度的支撑和保持均匀稳定，感光膜7还可以被胶取代。通过拆卸滤波片4，可选择性波长的光波段滤波片4，用于选择需要精确波段的曝光光控制，也可以移除不对曝光的波段进行控制，方便使用者选择精准的曝光波段频率，从而使得曝光波长适应多种精密型的感光膜7。光刻面板8与机体可拆卸连接，同时可按照光刻范围移动放置，光刻面板8为线路板、金属板、陶瓷面板、硅晶片等中的一种。在上一实施例中，高精度聚焦成像透镜模组6，由不同光学镜片组成不同的缩小/放大倍率组成可替换光学模组，高精度聚焦成像透镜模组6可以将经过LED曝光光源1照射到LCD液晶屏5图像可以按照不同图形缩小比例或者放大比例不同，选择不同的聚焦成像透镜系统模组进本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种液晶成像光刻装置，其特征在于，包括机体，所述机体内部上下方向依次安装有曝光光源、平行光聚焦透镜、冷空气流动层、LCD液晶屏和光刻面板；/n其中，所述光刻面板上表面贴敷有均匀覆盖膜胶层，所述冷空气流动层与所述LCD液晶屏之间设有滤波片，所述LCD液晶屏与所述均匀覆盖膜胶层间设有高精度聚焦成像透镜模组；/n所述冷空气流动层横嵌在所述机体内部，所述冷空气流动层与所述机体外部相通并通过管道连接到气体装置；/n所述LCD液晶屏电连接到上位机。/n

【技术特征摘要】
1.一种液晶成像光刻装置，其特征在于，包括机体，所述机体内部上下方向依次安装有曝光光源、平行光聚焦透镜、冷空气流动层、LCD液晶屏和光刻面板；
其中，所述光刻面板上表面贴敷有均匀覆盖膜胶层，所述冷空气流动层与所述LCD液晶屏之间设有滤波片，所述LCD液晶屏与所述均匀覆盖膜胶层间设有高精度聚焦成像透镜模组；
所述冷空气流动层横嵌在所述机体内部，所述冷空气流动层与所述机体外部相通并通过管道连接到气体装置；
所述LCD液晶屏电连接到上位机。


2.根据权利要求1所述的一种液晶成像光刻装置，其特征在于：所述机体的侧面设有上安装孔，所述滤波片可拆卸的安装在所述上安装孔内部。


3.根据权利要求1所述的一种液晶成像光刻装置，其特征在于：所述高精度聚焦成像透镜模组包括光学聚焦镜片，所述光学聚焦镜片包括放大和缩小不同比例的光学镜片。


4.根据权利要求1所述的一种液晶成像光刻装置，其特征在于：所述机体的侧面设有下安装孔，所述高精度聚焦成像透镜模组可拆卸的安装在所述下安装孔内部。


5.根据权利...

【专利技术属性】
技术研发人员：周春铭，罗一鸣，刘萍，
申请(专利权)人：南京特斯富电子有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32