一种利用单次光刻和热回流实现多台阶衍射微光学元件的方法技术

本发明专利技术公开了一种利用单次光刻和热回流实现多台阶衍射微光学元件的方法，所述的方法包括以下步骤：S1：准备好基片，将基片清洗并烘干；S2：在基片的表面上形成光刻胶层；S3：采用直写技术将光刻胶层图案化，显影后形成占空比相同或不同的微结构，各个单元之间的微结构具有相近的厚度；S4：通过加热使得光刻胶层坍塌流平，不同占空比的微结构形成不同高度的台阶，即得到多台阶衍射微光学元件。本发明专利技术能达到工艺步骤简易、重复性高、单次光刻、无需使用掩模板、精度高的制作工艺。

A method of realizing multi step diffractive micro optical elements by single lithography and thermal reflux

【技术实现步骤摘要】
一种利用单次光刻和热回流实现多台阶衍射微光学元件的方法
本专利技术涉及光学元件
，更具体的，涉及一种利用单次光刻和热回流实现多台阶衍射微光学元件的方法。
技术介绍
衍射微光学元件是具有复杂排列的亚波长结构构成的光学元件。衍射光学元件能够操纵入射光的相位或振幅，基于不同的应用，创建不同的具有独特功能的输出模式。随着高精度微纳加工技术的发展，衍射光学元件可以被设计成尺寸从几百纳米到几毫米不等的特征尺寸的光学元件，因此，具有体积小、质量轻、分辨率高、易复制、高集成等特点。常见的衍射微光学元件有三种，一是衍射光栅形成在基板表面上，通常是刻蚀在硬基板表面上，基板材料也有多种，如在石英片上可制备透射型衍射光学元件，在GaAs或Si衬底上可制备反射型衍射光学元件；二是衍射光栅形成在基板表面的聚合物上，三是衍射光学元件完全由聚合物制成。现有的衍射微光学元件的加工技术有很多种。最早采用的是光刻技术，这种方法需要多次曝光和刻蚀，以形成多台阶分布的微光栅结构，加工步骤多，制作周期长，且存在套刻误差。而薄膜沉积法是通过在基片表面上沉积一定本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种利用单次光刻和热回流实现多台阶衍射微光学元件的方法，其特征在于：所述的方法包括以下步骤：/nS1：准备好基片，将基片清洗并烘干；/nS2：在基片的表面上形成光刻胶层；/nS3：采用直写技术将光刻胶层图案化，显影后形成占空比相同或不同的微结构，各个单元之间的微结构具有相近的厚度；/nS4：通过加热使得光刻胶层坍塌流平，不同占空比的微结构形成不同高度的台阶，即得到多台阶衍射微光学元件。/n

【技术特征摘要】
1.一种利用单次光刻和热回流实现多台阶衍射微光学元件的方法，其特征在于：所述的方法包括以下步骤：
S1：准备好基片，将基片清洗并烘干；
S2：在基片的表面上形成光刻胶层；
S3：采用直写技术将光刻胶层图案化，显影后形成占空比相同或不同的微结构，各个单元之间的微结构具有相近的厚度；
S4：通过加热使得光刻胶层坍塌流平，不同占空比的微结构形成不同高度的台阶，即得到多台阶衍射微光学元件。


2.根据权利要求1所述的利用单次光刻和热回流实现多台阶衍射微光学元件的方法，其特征在于：所述基片由SiO2、GaAs、Si材料中的其中一种制作而成。


3.根据权利要求2所述的利用单次光刻和热回流实现多台阶衍射微光学元件的方法，其特征在于：若基片采用SiO2材料制作而成，则在步骤2之后、步骤3之前，还需在光刻胶表面...

【专利技术属性】
技术研发人员：张彦峰，汤莎，闻远辉，余思远，
申请(专利权)人：中山大学，
类型：发明
国别省市：广东;44