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本发明公开了一种利用单次光刻和热回流实现多台阶衍射微光学元件的方法，所述的方法包括以下步骤：S1：准备好基片，将基片清洗并烘干；S2：在基片的表面上形成光刻胶层；S3：采用直写技术将光刻胶层图案化，显影后形成占空比相同或不同的微结构，各个单...
该专利属于中山大学所有，仅供学习研究参考，未经过中山大学授权不得商用。

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