一种高压LED芯片制造技术

技术编号:24366818 阅读:29 留言:0更新日期:2020-06-03 04:59
本实用新型专利技术公开一种高压LED芯片,包括衬底和多个间隔设置的发光单元,发光单元包括N型半导体层、P型半导体层、量子阱层、P电极和N电极,N型半导体层设于衬底的上方,P型半导体层设于N型半导体层的上方,量子阱层设于P型半导体层和N型半导体层之间,P电极设于P型半导体层的上方,N电极设于N型半导体层的下方,N电极的下端面与衬底接触,N型半导体层、量子阱层和P型半导体层的截面自下向上逐步递减,发光单元的P型半导体层表面和侧面、发光单元的量子阱层和N型半导体层的侧面、发光单元的N极侧面以及相邻两发光单元之间的衬底表面均设有反射绝缘层。本实用新型专利技术能提高高压LED芯片发出的光的亮度,提高LED灯的发光性能。

A high voltage LED chip

【技术实现步骤摘要】
一种高压LED芯片
本技术涉及半导体发光器件
,特别涉及一种高压LED芯片。
技术介绍
LED照明灯是利用第四代绿色光源LED做成的一种照明灯具。LED被称为第四代照明光源或绿色光源,具有节能、环保、寿命长、体积小等特点,可以广泛应用于各种指示、显示、装饰、背光源、普通照明和城市夜景等领域。现有LED芯片一般包括衬底和设于衬底上的发光单元,所述发光单元包括N极、P极、N型半导体层、P型半导体层和量子阱层,所述P型半导体层设于N型半导体层的上方,所述量子阱层设于P型半导体层和N型半导体层之间,所述N极装设于N型半导体层,P极装设于P型半导体层上,这样一来,光电器件在发光时必然会被N极遮挡部分光线,使LED芯片的发出的光的亮度不高,影响LED灯的发光性能。
技术实现思路
本技术要解决的技术问题是,针对上述现有技术中的不足,提供一种高压LED芯片,其能提高高压LED芯片发出的光的亮度,从而提高LED灯的发光性能。为解决上述技术问题,本技术的技术方案是:一种高压LED芯片,包括衬底和多个间隔设置的发光单本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种高压LED芯片,其特征在于:包括衬底和多个间隔设置的发光单元,所述发光单元包括N型半导体层、P型半导体层、量子阱层、P电极和N电极,所述N型半导体层设于衬底的上方,所述P型半导体层设于N型半导体层的上方,所述量子阱层设于P型半导体层和N型半导体层之间,所述P电极设于P型半导体层的上方,所述N电极设于N型半导体层的下方,所述N电极的下端面与衬底接触,所述N型半导体层、量子阱层和P型半导体层的截面自下向上逐步递减,所述发光单元的P型半导体层表面和侧面、发光单元的量子阱层和N型半导体层的侧面、发光单元的N极侧面以及相邻两发光单元之间的衬底表面均设有反射绝缘层,所述发光单元的N电极与相邻发光单...

【技术特征摘要】
1.一种高压LED芯片,其特征在于:包括衬底和多个间隔设置的发光单元,所述发光单元包括N型半导体层、P型半导体层、量子阱层、P电极和N电极,所述N型半导体层设于衬底的上方,所述P型半导体层设于N型半导体层的上方,所述量子阱层设于P型半导体层和N型半导体层之间,所述P电极设于P型半导体层的上方,所述N电极设于N型半导体层的下方,所述N电极的下端面与衬底接触,所述N型半导体层、量子阱层和P型半导体层的截面自下向上逐步递减,所述发光单元的P型半导体层表面和侧面、发光单元的量子阱层和N型半导体层的侧面、发光单元的N极侧面以及相邻两发光单元之间的衬底表面均设有反射绝缘层,所述发光单元的N电极与相邻发光单元的P电极之间通过金属导电层连接,所述金属导电层设于反射绝缘层的上方。


2.根据权利要求1所述的一种高压LED芯片,其特征在于:所...

【专利技术属性】
技术研发人员:陈宗兴廖宗仁
申请(专利权)人:东莞佰鸿电子有限公司
类型:新型
国别省市:广东;44

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