识别划片槽掩模版图中标记图形的方法和计算机设备技术

本发明专利技术涉及集成电路制造技术领域，具体涉及一种识别划片槽掩模版图中标记图形的方法和计算机设备。识别划片槽掩模版图中标记图形的方法，包括：获取预定标记图形的预定特征点；预测预定标记图形的预定边界框；获取与预定标记图形对应的实际标记图形；提取实际特征点；根据实际特征点预测实际标记图形的实际边界框；确定实际边界框与经过矩阵变换后的预定边界框是否一致；当边界框一致时，确定实际特征点与经过矩阵变换后的预定特征点是一致；当特征点一致时，确定实际标记图形正确。通过边界框粗比对和逐个特征点精比对相结合的手段，能够很大程度上减小工作量，提高识别的效率。

The method and computer equipment of identifying the mark figure in the scribe groove mask

【技术实现步骤摘要】
识别划片槽掩模版图中标记图形的方法和计算机设备
本专利技术涉及集成电路制造
，具体涉及一种识别划片槽掩模版图中标记图形的方法和计算机设备。
技术介绍
在同一片晶圆上，芯片(Die)和芯片之间形成有划片槽结构，划片槽结构通常包括芯片和芯片之间的切割线，以及设置于切割线上的标记图形，该标记图形可用于光刻对准和芯片测试。在芯片的掩模板设计业务中，将芯片产品的设计数据输入检查之后，可根据掩模板和芯片的尺寸规格等数据进行划片槽掩模版图的设计。在芯片的制造过程中，掩模板放置的准确度直接影响成品芯片的质量，而掩模板放置的准确度可通过检测标记图形是否放置正确进行判断。相关技术中，通常是通过人工目视的方式来检测划片槽掩模版图中的标记图形是否放置正确，耗费时间较长且准确率较低。
技术实现思路
本专利技术提供了一种识别划片槽掩模版图中标记图形的方法和计算机设备，可以解决相关技术中通过人工检测标记图形耗费时间较长且准确率较低的问题。作为本专利技术的第一方面，提供一种识别划片槽掩模版图中标记图形的方法，包括以下步骤：在划片槽掩模板版图中获取实际标记图形；提取所述实际标记图形的实际特征点；根据所述实际特征点，预测所述实际标记图形的实际边界框；在划片槽掩模板数据包中获取预定标记图形的预定特征点，所述预定标记图形是与所述实际标记图形相关的图形；根据所述预定特征点，预测所述预定标记图形的预定边界框；确定所述实际边界框与经过矩阵变换后的预定边界框是否一致；当所述实际边界框与经过矩阵变换后的预定边界框一致时，确定所述实际特征点与经过矩阵变换后的所述预定特征点是否一致；当所述实际特征点与经过矩阵变换后的所述预定特征点一致时，确定所述实际标记图形正确。可选的，所述确定所述实际边界框与经过矩阵变换后的预定边界框是否一致，包括：确定所述实际边界框的顶点，以及所述经过矩阵变换后的预定边界框的顶点；获取所述实际边界框的顶点的第一坐标，以及所述经过矩阵变换后的预定边界框的顶点的第二坐标；当所述第一坐标和所述第二坐标之间的差值低于差值阈值时，确定所述实际边界框与所述经过矩阵变换后的预定边界框一致。可选的，所述确定所述实际边界框与所述经过矩阵变换后的预定边界框满足所述预定条件之后，还包括：在所述划片槽掩模板版图数据包中存储所述预定特征点的坐标。可选的，所述确定所述实际特征点与经过矩阵变换后的所述预定特征点是否一致，包括：获取所述实际特征点的实际坐标集合；获取所述经过矩阵变换后的预定特征点的预定坐标集合；比对所述实际坐标集合和所述预定坐标集合；当所述实际坐标集合和所述预定坐标集合相等时，确定所述实际特征点与经过矩阵变换后的所述预定特征点一致。可选的，所述实际标记图形包括N个实际特征点，所述预定标记图形包括N个预定特征点，N为正整数；所述比对所述实际坐标集合和所述预定坐标集合，包括：确定所述实际坐标集合中的第n个实际坐标；在所述预定坐标集合中确定与所述第n个实际坐标对应的第n个预定坐标；判断所述第n个实际坐标与第n个预定坐标是否满足以下公式：(Pn’Xn-PnXn)2+(Pn’Yn-PnYn)2＝0当所述第n个实际坐标和所述第n个预定坐标满足以上公式时，确定所述第n个实际坐标和所述第n个预定坐标一致；当每个实际坐标与所述每个实际坐标对应的预定坐标一致时，确定所述实际坐标和所述预定坐标一致；其中，第n个实际坐标是第n个实际特征点的坐标，第n个预定坐标是第n个经矩阵变换后的预定特征点的坐标，P′nXn表示第n个实际坐标中的横坐标，PnXn表示第n个预定坐标中的横坐标，P′nYn表示第n个实际坐标中的纵坐标，PnYn表示第n个预定坐标中的纵坐标，n为正整数，n≤N。可选的，所述确定所述实际边界框与经过矩阵变换后的预定边界框是否满足预定条件之前，还包括：通过变换矩阵对所述预定边界框进行至少一次矩阵变换，得到所述经过矩阵变换后的预定边界框。可选的，所述变换矩阵包括旋转变换矩阵，和/或，镜像变换矩阵。可选的，所述在划片槽掩模板数据包中获取预定标记图形的预定特征点，包括：获取所述实际标记图形的编码值；获取所述编码值对应的预定编码值；根据所述预定编码值在所述划片槽掩模板数据包中查找得到所述预定特征点。可选的，所述根据所述实际标记图形，在划片槽掩模板数据包中获取预定标记图形的预定特征点，包括：根据所述编码值在所述划片槽掩模板数据包中查找得到所述预定特征点。作为本专利技术的第二方面，一种计算机设备，所述计算机设备包括处理器和存储器，所述存储器中存储有至少一条程序或者指令，所述至少一条程序或者指令由所述处理器加载执行以实现本专利技术第一方面所述的识别划片槽掩模版图中标记图形的方法。本专利技术技术方案，至少包括如下优点：由于通过粗比对能够筛选掉放置不正确的实际标记图形，不需要再进行后续的精比对，从而能够在一定程度上减小了识别设备的工作量，提高了识别的效率。附图说明图1为预定标记图形的矩阵变换形式；图2a为本专利技术中划片槽掩模版图的示意图；图2b为图2a中实际标记图形F1的正投影结构图；图2c为与实际标记图形F1对应的预定标记图形的正投影等比例放大图；图2d为实际标记图形F1与对应的预定标记图形边界框粗比对过程示意图；图3为实际标记图形F1与对应的预定标记图形特征点坐标比对过程示意图；图4为划片槽中的待识别的实际标记图形；图5为本专利技术和相关技术的计数效率曲线图；图6为本专利技术一种实施例的流程图；图7为本专利技术步骤S600一种实施例的流程图；图8为本专利技术步骤S700一种实施例的流程图；图9为本专利技术步骤S730一种实施例的流程图。为了更清楚地说明本专利技术具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本专利技术的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。具体实施方式下面将结合附图，对本专利技术中的技术方案进行清楚、完整的描述，显然，所描述的实施例是本专利技术的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在不做出创造性劳动的前提下所获得的所有其它实施例，都属于本专利技术保护的范围。在本专利技术的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本专利技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本专利技术的限制。此外，术语“第一”、本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种识别划片槽掩模版图中标记图形的方法，其特征在于，包括以下步骤：/n在划片槽掩模板版图中获取实际标记图形；/n提取所述实际标记图形的实际特征点；/n根据所述实际特征点，预测所述实际标记图形的实际边界框；/n在划片槽掩模板数据包中获取预定标记图形的预定特征点，所述预定标记图形是与所述实际标记图形相关的图形；/n根据所述预定特征点，预测所述预定标记图形的预定边界框；/n确定所述实际边界框与经过矩阵变换后的预定边界框是否一致；/n当所述实际边界框与经过矩阵变换后的预定边界框一致时，确定所述实际特征点与经过矩阵变换后的所述预定特征点是否一致；/n当所述实际特征点与经过矩阵变换后的所述预定特征点一致时，确定所述实际标记图形正确。/n

【技术特征摘要】
1.一种识别划片槽掩模版图中标记图形的方法，其特征在于，包括以下步骤：
在划片槽掩模板版图中获取实际标记图形；
提取所述实际标记图形的实际特征点；
根据所述实际特征点，预测所述实际标记图形的实际边界框；
在划片槽掩模板数据包中获取预定标记图形的预定特征点，所述预定标记图形是与所述实际标记图形相关的图形；
根据所述预定特征点，预测所述预定标记图形的预定边界框；
确定所述实际边界框与经过矩阵变换后的预定边界框是否一致；
当所述实际边界框与经过矩阵变换后的预定边界框一致时，确定所述实际特征点与经过矩阵变换后的所述预定特征点是否一致；
当所述实际特征点与经过矩阵变换后的所述预定特征点一致时，确定所述实际标记图形正确。


2.根据权利要求1所述识别划片槽掩模版图中标记图形的方法，其特征在于，所述确定所述实际边界框与经过矩阵变换后的预定边界框是否一致，包括：
确定所述实际边界框的顶点，以及所述经过矩阵变换后的预定边界框的顶点；
获取所述实际边界框的顶点的第一坐标，以及所述经过矩阵变换后的预定边界框的顶点的第二坐标；
当所述第一坐标和所述第二坐标之间的差值低于差值阈值时，确定所述实际边界框与所述经过矩阵变换后的预定边界框一致。


3.根据权利要求2所述识别划片槽掩模版图中标记图形的方法，其特征在于，所述确定所述实际边界框与所述经过矩阵变换后的预定边界框是否一致之后，还包括：
在所述划片槽掩模板版图数据包中存储所述预定特征点的坐标。


4.根据权利要求1所述识别划片槽掩模版图中标记图形的方法，其特征在于，所述确定所述实际特征点与经过矩阵变换后的所述预定特征点是否一致，包括：
获取所述实际特征点的实际坐标集合；
获取所述经过矩阵变换后的预定特征点的预定坐标集合；
比对所述实际坐标集合和所述预定坐标集合；
当所述实际坐标集合和所述预定坐标集合相等时，确定所述实际特征点与经过矩阵变换后的所述预定特征点一致。


5.根据权利要求4所述识别划片槽掩模版图中标记图形的方法，其特征在于，所述实际标记图形包括N个实际特征点，所述预定标记图形包括N个预定特征点，N为正整数；
所述比对所述实际坐标集合和所述预定坐标...

【专利技术属性】
技术研发人员：张兴洲，张燕荣，
申请(专利权)人：上海华虹宏力半导体制造有限公司，
类型：发明
国别省市：上海;31