触控模组、触控屏及其制备方法技术

本发明专利技术涉及一种触控模组的制备方法及触控屏的制备方法，蚀刻透明导电层时，可形成位于触控区的电极、校准图案及位于引线区的透明引线图案，校准图案沿所述触控区的周向设置，金属引线图案与透明引线图案共同构成电极引线。将制得的触控模组与显示模组贴合时，校准图案可起到定位参照的作用。组装笔通过识别出校准图案，便可快速地将显示模组与触控模组的触控区对齐。因此，可有效地提升触控屏的生产效率。而且，在黄光制程中，通过采用预先设计的光罩的控制曝光区域，便可在形成电极图案的同时形成校准图案，并不会增加工艺流程。因此，触控模组的生产效率不会降低。此外，本发明专利技术还提供一种触控屏及其触控模组。

Touch module, touch screen and preparation method

【技术实现步骤摘要】
触控模组、触控屏及其制备方法
本专利技术涉及触控显示
，特别涉及一种触控模组、触控屏及其制备方法。
技术介绍
目前，触控屏被广泛应用于各种智能终端，其中尤以电容式触控屏最为常见。在电容式触控屏中，实现触控的核心部件为透明导电薄膜成型的感应电极及驱动电极。电容式触控屏的制作过程一般如下：先将透明导电薄膜蚀刻出电极以及引线，再将蚀刻好的透明导电薄膜与显示模组(LCM)贴合，从而得到具有显示功能的触控屏。贴合时，需要将显示模组与透明导电薄膜的触控区进行位置校准，以使IC(集成电路)能准确响应触控点的触控而不发生位置偏移。然而，现有透明导电薄膜的结构导致组装笔难以对触控区实现精准校准，从而导致触控屏的生产效率不高。
技术实现思路
基于此，有必要针对现有触控屏生产效率不高的问题，提供一种可提升生产效率的触控模组、触控屏及其制备方法。一种触控模组的制备方法，包括步骤：提供透明导电性薄膜，所述透明导电性薄膜包括基材层及依次附着于所述基材层表面的透明导电层及金属层；蚀刻所述金属层，以露出触控区的所述透明导电层，并形成位于引线区的金属引线图案；蚀刻所述透明导电层，以形成位于所述触控区的电极、校准图案及位于所述引线区的透明引线图案，所述校准图案沿所述触控区的周向设置，所述金属引线图案与所述透明引线图案共同构成电极引线。将通过上述方法制备的触控模组用于触控屏的制备时，校准图案可起到定位参照的作用。组装笔通过识别出校准图案，便可快速地将显示模组与触控模组的触控区对齐。因此，可有效地提升触控屏的生产效率。而且，在黄光制程中，通过采用预先设计的光罩的控制曝光区域，便可在形成电极图案的同时形成校准图案，并不会增加工艺流程。因此，触控模组的生产效率不会降低。在其中一个实施例中，所述透明导电层为ITO层。ITO(氧化铟锡)具有导电性高、透过率高的优点，作为透明导电层可提升制得的触控模组的透光率及导电性能。在其中一个实施例中，所述触控区呈矩形，所述校准图案位于所述触控区的四个顶角处。矩形的触控区可与目前大多数智能手持终端相匹配。而将校准图案设置于顶角处，则便于在组装时快速对校准图案完成定位，从而进一步提升生产效率。在其中一个实施例中，所述校准图案呈规则图形。将校准图案设置为规则图形，一是便于蚀刻工艺中成型，二是使得在作为参照物时易于被识别。一种触控屏的制备方法，包括步骤：如上述优选实施例中任一项所述的触控模组的制备方法；以所述校准图案为参照，将显示模组与所述触控模组贴合，以使所述显示模组与所述触控区域对齐。上述触控屏的制备方法，在加工电极时便在触控区同时形成了校准图案，而校准图案可作为参照物标识出触控区的范围。在进行触控屏组装时，组装笔可识别校准图案，从而快速地将显示模组与触控模组的触控区对齐，进而有效地提升触控屏的生产效率。一种触控模组，具有触控区及沿所述触控区的周向分布的引线区，所述触控模组包括：基材层；附着于所述基材层表面的电极、校准图案及透明引线图案，所述电极及所述校准图案均位于所述触控区，且所述校准图案沿所述触控区的周向设置，所述透明引线图案位于所述引线区；附着于所述透明引线图案表面且位于所述引线区的金属引线图案，所述金属引线图案及所述透明引线图案共同构成电极引线。上述触控模组用于触控屏的制备时，校准图案可起到定位参照的作用。组装笔通过识别出校准图案，便可快速地将显示模组与触控模组的触控区对齐。因此，可有效地提升触控屏的生产效率。在其中一个实施例中，所述电极、所述校准图案及所述透明引线图案均由ITO层蚀刻形成。在其中一个实施例中，所述触控区呈矩形，所述校准图案位于所述触控区的四个顶角处。在其中一个实施例中，所述校准图案呈规则图形。一种触控屏，包括：如上述优选实施例中任一项所述的触控模组；及显示模组，与所述触控模组相贴合。附图说明图1为本专利技术一个实施例中触控模组的制备方法的流程示意图；图2为本专利技术一个实施例中触控屏的制备方法的流程示意图；图3为本专利技术一个实施例中触控模组的结构示意图；图4为图3所示触控模组的剖面图。具体实施方式为了便于理解本专利技术，下面将参照相关附图对本专利技术进行更全面的描述。附图中给出了本专利技术的较佳的实施例。但是，本专利技术可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例。相反地，提供这些实施例的目的是使对本专利技术的公开内容的理解更加透彻全面。需要说明的是，当元件被称为“固定于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的。除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本专利技术的
的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本专利技术的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本专利技术。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。本专利技术提供了一种触控模组的制备方法、触控屏的制备方法以及一种触控模组及触控屏。请参阅图1，本专利技术一个实施例中的触控模组的制备方法包括步骤S110至S130：步骤S110，提供透明导电性薄膜，透明导电性薄膜包括基材层及依次附着于基材层表面的透明导电层及金属层。具体的，透明导电性薄膜可以为常见的GFF、GF、DITO及SITO等结构。其中，透明导电性薄膜为DITO及SITO结构时，基材层为基质层；透明导电性薄膜为GFF及GF结构时，基材层为玻璃基板。透明导电层可通过蒸镀、印刷等方式形成于基材层的表面，蚀刻后可得到触控模组的电极。鉴于ITO(氧化铟锡)具有导电性高、透过率高的优点，为提升触控模组的透光率及导电性能，具体在本实施例中，透明导电层为ITO层。而金属层则一般由铜等良导体成型，蚀刻后作为触控模组的电极引线。需要指出的是，该透明导电性薄膜可以不仅仅只包括基材层、透明导电层及金属层。根据透明导电性薄膜类型的不同，还可包含光学调整层、硬涂层等其他膜层结构，且透明导电层及金属层可为双层或单层。步骤S120，蚀刻金属层，以露出触控区的透明导电层，并形成位于引线区的金属引线图案。具体的，一般通过黄光制程在金属层表面形成金属引线图案。其中，金属引线图案沿触控模组的边缘设置。对于最终得到的触控模组，其边缘为引线区，而引线区所围绕的中部区域则为触控区。对金属层进行蚀刻后，其下层的部分透明导电层便被暴露出来。步骤S130，蚀刻透明导电层，以形成位于触控区的电极、校准图案及位于引线区的透明引线图案，校准图案沿触控区的周向设置，金属引线图案与透明引线图案共同构成电极引线。具体的，采用另一道黄光制程对透明导电层暴露出来的部分本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种触控模组的制备方法，其特征在于，包括步骤：/n提供透明导电性薄膜，所述透明导电性薄膜包括基材层及依次附着于所述基材层表面的透明导电层及金属层；/n蚀刻所述金属层，以露出触控区的所述透明导电层，并形成位于引线区的金属引线图案；/n蚀刻所述透明导电层，以形成位于所述触控区的电极、校准图案及位于所述引线区的透明引线图案，所述校准图案沿所述触控区的周向设置，所述金属引线图案与所述透明引线图案共同构成电极引线。/n

【技术特征摘要】
1.一种触控模组的制备方法，其特征在于，包括步骤：
提供透明导电性薄膜，所述透明导电性薄膜包括基材层及依次附着于所述基材层表面的透明导电层及金属层；
蚀刻所述金属层，以露出触控区的所述透明导电层，并形成位于引线区的金属引线图案；
蚀刻所述透明导电层，以形成位于所述触控区的电极、校准图案及位于所述引线区的透明引线图案，所述校准图案沿所述触控区的周向设置，所述金属引线图案与所述透明引线图案共同构成电极引线。


2.根据权利要求1所述的触控模组的制备方法，其特征在于，所述透明导电层为ITO层。


3.根据权利要求1所述的触控模组的制备方法，其特征在于，所述触控区呈矩形，所述校准图案位于所述触控区的四个顶角处。


4.根据权利要求1所述的触控模组的制备方法，其特征在于，所述校准图案呈规则图形。


5.一种触控屏的制备方法，其特征在于，包括步骤：
如上述权利要求1至4任一项所述的触控模组的制备方法；
以所述校准图案为参照，将显示模组与所述触控模组贴合...

【专利技术属性】
技术研发人员：谢邦星，许建勇，
申请(专利权)人：南昌欧菲显示科技有限公司，
类型：发明
国别省市：江西;36