数据中心制造技术

技术编号:24334444 阅读:59 留言:0更新日期:2020-05-29 21:34
本申请公开了一种数据中心。该数据中心包括:制冷剂引入管,其包围数据中心的一个或更多个区域;制冷剂供应装置,其适用于将制冷剂供应给制冷剂引入管,所述制冷剂具有与伪低温温度相对应的汽化温度;多个机架,其设置在一个或更多个区域中;以及多个旋转装置,每个旋转装置适用于使多个机架中的对应一个旋转。

Data center

【技术实现步骤摘要】
数据中心相关申请的交叉引用本申请要求于2018年11月22日提交的申请号为10-2018-0145220的韩国专利申请的优先权,其全部内容通过引用合并于此。
本专利技术的各种实施例总体而言涉及半导体设计技术,并且更具体地,涉及包括冷却系统的数据中心。
技术介绍
数据中心可以包括大量计算机设备,其包括例如一个或更多个服务器。通常,每台计算机设备都被安装在机架(rack)上,所述机架用于保护该计算机设备免受外部冲击并简化其管理。计算机设备会根据其用途来产生热量,需要对热量进行适当地管理以避免操作中断或故障。因此,数据中心通常采用冷却系统来抑制计算机设备的热量生成。数据中心的温度管理通常会消耗大量能源,并且通常可能很昂贵。因此,高度期望在该领域中进行任何改进以提高数据中心的可靠性和能量效率。
技术实现思路
本专利技术的各个实施例通常针对具有改进的温度控制系统的数据中心,该改进的温度控制系统用于使数据中心的机架的内部温度保持恒定。根据本专利技术的一个实施例,提供了一种数据中心,其包括:制冷剂引入管,其包围数据本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种数据中心,包括:/n制冷剂引入管,其包围数据中心的一个或更多个区域;/n制冷剂供应装置,其适用于将制冷剂供应给所述制冷剂引入管,所述制冷剂具有与伪低温温度相对应的汽化温度;/n多个机架,其设置在所述一个或更多个区域中;以及/n多个旋转装置,每个旋转装置适用于使所述多个机架中的对应一个旋转。/n

【技术特征摘要】
20181122 KR 10-2018-01452201.一种数据中心,包括:
制冷剂引入管,其包围数据中心的一个或更多个区域;
制冷剂供应装置,其适用于将制冷剂供应给所述制冷剂引入管,所述制冷剂具有与伪低温温度相对应的汽化温度;
多个机架,其设置在所述一个或更多个区域中;以及
多个旋转装置,每个旋转装置适用于使所述多个机架中的对应一个旋转。


2.根据权利要求1所述的数据中心,其中,所述伪低温温度包括77K±7K。


3.根据权利要求1所述的数据中心,还包括控制装置,其适用于基于一条或更多条参数信息来控制所述多个旋转装置中的每个旋转装置。


4.根据权利要求3所述的数据中心,其中,所述参数信息包括与所述机架的相应内部温度相对应的多条温度信息中的一个或更多个以及与所述机架在每个时隙内的使用率相对应的一条或更多条简档信息。


5.根据权利要求1所述的数据中心,其中,所述多个旋转装置中的每个旋转装置包括:
支撑板,其适用于支撑对应机架;以及
电机,其适用于使所述支撑板旋转。


6.根据权利要求1所述的数据中心,其中,所述多个机架中的每个机架具有圆柱形外观。


7.根据权利要求1所述的数据中心,其中,所述制冷剂包括液氮。


8.一种数据中心,包括:
制冷剂引入管,其包围数据中心的一个或更多个区域;
制冷剂供应装置,其适用于将制冷剂供应给所述制冷剂引入管,所述制冷剂具有与伪低温温度相对应的汽化温度。
多个机架,其设置在所述一个或更多个区域中;
多个旋转装置,其适用于分别使所述多个机架旋转;
多个温度感测装置,其适用于感测所述多个机架的相应内部温度;以及
控制装置,其适用于基于从所述温度感测装置产生的多条温度信息来控制所述多个旋转装置中的每个旋转装置。


9.根据权利要求8所述的数据中心,其中,所述伪低温温度包括77K±7K。


10.根据权利要求8所述的数据中心,其中,当对应机架的温度高于阈值温度时,所述控制装置控制对应旋转装置以第一旋转速度来旋转,而当所述对应机架的温度低于所述阈值温度时,所述控制装置控制所述对应旋转装置以第二旋转速度来旋转或停止,所述第二旋转速度低于所述第一旋转速度。


11.根据权利要求8所述的数据中心,其中,所述多个温度感测装置...

【专利技术属性】
技术研发人员:金明瑞李承容朱英杓
申请(专利权)人:爱思开海力士有限公司
类型:发明
国别省市:韩国;KR

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