3D蒸镀的公自转镀锅结构制造技术

本发明专利技术为一种3D蒸镀的公自转镀锅结构，其包括：公转底盘；公转顶盘借由支撑件环绕运行于公转底盘；镀锅自转模块，具有悬臂结合于公转顶盘；又其齿轮盘结合于悬臂的底侧；及其自转镀盘结合于悬臂且环绕运行于圆形环绕轨道；以及多个晶圆载盘，借由转轴固设于自转镀盘上，又借由外环状齿牙与齿轮盘转动结合。

The structure of 3D autoclave

【技术实现步骤摘要】
3D蒸镀的公自转镀锅结构
本专利技术为一种3D蒸镀的公自转镀锅结构，特别为一种应用半导体晶圆片蒸镀的3D蒸镀的公自转镀锅结构。
技术介绍
中国台湾专利公告第00470215号(以下简称215号专利)，揭露了一种公自转式晶圆承载器的固定结构，其主要揭露了公转架及可旋转的晶圆承载器P13，然而其存在着下列问题：一、仅仅只有2旋转轴P110,P120的旋转，蒸镀时晶圆片无法自转，将产生方向性造成阴影以致膜厚不一致的问题。二、晶圆承载器P13必须借由轴杆AP131的驱动而旋转，而轴杆AP131再加上必须随之旋转的驱动单元，将使的设备的体积增加。三、整个晶圆承载器P13必须借由滚轮P112支撑，且滚轮P112两侧的配种完全不成比例，将造成旋转结构不稳定及容易损坏。中国台湾专利公告第M316262号(以下简称262号专利)，揭露了一种真空蒸镀机的被镀物承载装置，其虽然揭露了3旋转轴旋转P120,P120,P130的旋转架、可旋转的承载盘及可旋转的旋转体，然而其存在着下列的问题：一、所有承载盘P14都借由第一支杆P12提供悬吊支撑，将使得驱动轴B1要承受所有的结构支撑力，加上驱动轴B1还要经常性的旋转，因此容易产生高故障率。二、承载盘P14仅以第一支杆P12采用悬吊支撑，使得承载盘P14旋转时，容易摇晃抖动，因此影响镀膜质量。三、旋转体P15借由突杆P152被延伸杆P131拨动而转动，这样的结构行为，将容易使旋转体P15上的晶圆片被过度震动，除了容易造成晶圆片的损伤外，也容易让晶圆片在突然震动的情况下而坠落。四、旋转体P15转动时，将使晶圆片由上面直接跳跃式翻转至下面，并非线性转动，因此将严重影响镀膜均匀性。此外、随着半导体制程技术的不断提升，目前制作在晶圆片上的电子组件，有许多已经具有更复杂的三维(3D)结构，因为三维结构将从不同角度都会产生许多不同的阴影，而上述的蒸镀机，无法有效克服三维电子组件421蒸镀制程上阴影的问题，也就是阶梯覆盖不佳的问题。
技术实现思路
本专利技术为一种3D蒸镀的公自转镀锅结构，其主要是要解决镀锅对晶圆片进行蒸镀时，镀锅结构支撑不稳、无法提供线性运作、蒸镀角设计不佳导致镀膜厚度均匀性不佳、阶梯覆盖(StepCoverage)差、及镀膜结构不一致的问题。本专利技术的目的是采用以下技术方案来实现的。本专利技术提供一种3D蒸镀的公自转镀锅结构，其包括：公转底盘，其为圆形环绕轨道；公转顶盘，其具有多个支撑件，每一个支撑件底部借由公转转轮，环绕运行于公转底盘；多个镀锅自转模块，每一个镀锅自转模块包括:悬臂，其以一倾斜角结合于公转顶盘；齿轮盘，其结合于悬臂的底侧，齿轮盘形成有内环状齿牙；及自转镀盘，其借由转轴结合于悬臂，又自转镀盘的端部，环绕线性运转于公转底盘；以及多个晶圆载盘，每一个晶圆载盘借由转轴固设于自转镀盘上，又借由每一个晶圆载盘的外环状齿牙与内环状齿牙产生线性平稳转动结合。所述的3D蒸镀的公自转镀锅结构，其中该悬臂是借由角度调整器与该公转顶盘结合。所述的3D蒸镀的公自转镀锅结构，其中该角度调整器包括第一角度调整单元及第二角度调整单元，又将该自转镀盘与该公转顶盘所形成的18度夹角定义为基准角度。所述的3D蒸镀的公自转镀锅结构，其中该第一角度调整单元的调整角度为该基准角度的+3、+1、-1或-3度。所述的3D蒸镀的公自转镀锅结构，其中该第二角度调整单元的调整角度为该基准角度的+2、0、或-2度。所述的3D蒸镀的公自转镀锅结构，其中蒸镀角度大于或等于70度，又该蒸镀角度是晶圆载盘表面与蒸镀角射线所形成的夹角，又该蒸镀角射线是蒸镀源与该晶圆载盘的载盘边缘所形成的直线。所述的3D蒸镀的公自转镀锅结构，其中最大的该蒸镀角度与最小的该蒸镀角度的角度差大于或等于10度。所述的3D蒸镀的公自转镀锅结构，其中该公转底盘与该公转顶盘相互平行且呈水平状态设置。所述的3D蒸镀的公自转镀锅结构，其中该多个支撑件为三个支撑件，且彼此以等间距方式排列。所述的3D蒸镀的公自转镀锅结构，其中该多个镀锅自转模块为三个镀锅自转模块，且彼此以等间距方式排列。借由本专利技术的实施，至少可以达成下列的进步功效：一、可以提升镀锅对晶圆片进行蒸镀时，因蒸镀角设计导致镀膜厚度均匀性更佳。二、所有公转及自转都能以线性平稳的方式运作，且晶圆载盘可线性自转。三、借由晶圆载盘线性平稳自转，可提升阶梯覆盖状态及使镀膜结构一致。四、借由上下支撑，提供稳固的结构支撑。上述说明仅是本专利技术技术方案的概述，为了能够更清楚了解本专利技术的技术手段，而可依照说明书的内容予以实施，并且为了让本专利技术的上述和其他目的、特征和优点能够更明显易懂，以下特举较佳实施例，并配合附图,详细说明如下。附图说明图1为习知的一种公自转式晶圆承载器的固定结构图；图2为习知的一种真空蒸镀机的被镀物承载装置图；图3为一种具有本专利技术3D蒸镀的公自转镀锅结构的蒸镀机实施例图；图4为本专利技术的一种3D蒸镀的公自转镀锅结构实施例图；图5为本专利技术的一种镀锅自转模块实施例图；图6为本专利技术的一种角度调整器运作及局部放大实施例图；图7为本专利技术的第1轴、第2轴、及第3轴位置实施例图；以及图8为三维电子组件在晶圆载盘及自转镀盘上的位置关系实施例图。【主要元件符号说明】B1：驱动轴P112：滚轮P12：第一支杆P120,P120：旋转轴P130：旋转轴P13：晶圆承载器AP131：轴杆P131：延伸杆P14：承载盘P15：旋转体P152：突杆100：3D蒸镀的公自转镀锅结构10：公转底盘20：公转顶盘210：支撑件220：公转转轮30：镀锅自转模块310：悬臂320：齿轮盘321：圆形开口322：内环状齿牙330：自转镀盘40：晶圆载盘410：外环状齿牙420：晶圆片421：三维电子组件50：角度调整器510：第一角度调整单元520：第二角度调整单元60：转轴70：蒸镀源910：第1轴920：第2轴930：第3轴940：蒸镀角射线θ：蒸镀角X：基准角度具体实施方式如图2至图4所示，本实施例为一种3D蒸镀的公自转镀锅结构100，其包括：公转底盘10；公转顶盘20；多个镀锅自转模块30；以及多个晶圆载盘40。公转底盘10，作为整个公自转镀锅结构100的底部支撑，又为了能达成旋转的功效，公转底盘10可以为圆形环绕轨道。公转顶盘20，其具有多个支撑件210使公转顶盘20能架设在公转底盘10上。又为了使公转顶盘20有效的旋转，因此在每一个支撑件210底部可以设置公转转轮220。借由公转转轮220可以使公转顶盘20顺畅的环绕运行于公转底盘10上。为了使公转顶盘20能以最简单又最稳固的方式设本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种3D蒸镀的公自转镀锅结构，其特征在于，其包括：公转底盘，其为圆形环绕轨道；公转顶盘，其具有多个支撑件，每一个该支撑件底部借由公转转轮，环绕运行于该公转底盘；多个镀锅自转模块，每一个该镀锅自转模块包括:悬臂，其以一倾斜角结合于该公转顶盘，又其特征为：每一个该镀锅自转模块又包括:/n齿轮盘，其结合于该悬臂底侧，该齿轮盘形成有内环状齿牙；及/n自转镀盘，其借由转轴结合于该悬臂，又该自转镀盘的端部，是环绕线性运转于该公转底盘；以及/n多个晶圆载盘，每一个该晶圆载盘借由转轴固设于该自转镀盘上，又借由每一个该晶圆载盘的外环状齿牙与该内环状齿牙，产生线性平稳转动结合。/n

【技术特征摘要】
1.一种3D蒸镀的公自转镀锅结构，其特征在于，其包括：公转底盘，其为圆形环绕轨道；公转顶盘，其具有多个支撑件，每一个该支撑件底部借由公转转轮，环绕运行于该公转底盘；多个镀锅自转模块，每一个该镀锅自转模块包括:悬臂，其以一倾斜角结合于该公转顶盘，又其特征为：每一个该镀锅自转模块又包括:
齿轮盘，其结合于该悬臂底侧，该齿轮盘形成有内环状齿牙；及
自转镀盘，其借由转轴结合于该悬臂，又该自转镀盘的端部，是环绕线性运转于该公转底盘；以及
多个晶圆载盘，每一个该晶圆载盘借由转轴固设于该自转镀盘上，又借由每一个该晶圆载盘的外环状齿牙与该内环状齿牙，产生线性平稳转动结合。


2.如权利要求1所述的3D蒸镀的公自转镀锅结构，其特征在于，其中该悬臂是借由角度调整器与该公转顶盘结合。


3.如权利要求2所述的3D蒸镀的公自转镀锅结构，其特征在于，其中该角度调整器包括第一角度调整单元及第二角度调整单元，又将该自转镀盘与该公转顶盘所形成的18度夹角定义为基准角度。


4.如权利要求3所述的3D蒸镀的公自转镀锅结构，其特征在于，其中该第一角度...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈家璧，薛文皓，罗世欣，
申请(专利权)人：聚昌科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：中国台湾;71