一种碳化硅零部件打磨抛光用卧式除尘装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种碳化硅零部件打磨抛光用卧式除尘装置，包括相互独立的上箱体和下箱体，上箱体位于下箱体的上方，上箱体由中间隔板隔离为互不连通的两个风道，该风道包括第一风道和第二风道；下箱体具有伸出上箱体外的延伸部，延伸部上设置有若干个工作位，工作位位置处的下箱体上端面上设有若干个筛孔；工作位位置处的上箱体上设置有风机，风机位于风道内，风机通过上箱体上的通风孔连通外界与风道；在第一风道和第二风道的同一端部设置有出风道，出风道分别与第一风道和第二风道连通，风机可以不用大功率轴流风机，可以大幅度提高除尘效率，降低能耗及噪音，同时工作场所的环境得到改善，有助于提高工作效率。

A horizontal dedusting device for grinding and polishing silicon carbide parts

【技术实现步骤摘要】
一种碳化硅零部件打磨抛光用卧式除尘装置
本技术属于机械
，涉及一种碳化硅零部件打磨抛光用卧式除尘装置。
技术介绍
目前，由于碳化硅生产属于小众行业，而传统的除尘行业技术人员对碳化硅生产了解不多，再加上对碳化硅生产的工艺了解很少，所以国内碳化硅生产中采用的除尘技术比较单一，一般采用布袋除尘器除尘管道，由于布袋本身的阻力比较大，就需要比较大的空气压力差才能突破其阻力，通常采用大功率轴流风机才能实现，但存在耗电高、噪音大及除尘效果不理想的缺陷。
技术实现思路
本技术所要解决的技术问题是针对以上不足，提供一种碳化硅零部件打磨抛光用卧式除尘装置,采用该卧式除尘装置后，可以大幅度提高除尘效率，降低能耗及噪音。为解决上述技术问题，本技术的技术方案是：一种碳化硅零部件打磨抛光用卧式除尘装置，其特征在于：包括相互独立的上箱体和下箱体，上箱体位于下箱体的上方，上箱体由中间隔板隔离为互不连通的两个风道，该风道包括第一风道和第二风道；下箱体具有伸出上箱体外的延伸部，延伸部上设置有若干个工作位，工作位位置处的下箱体上端面上设有若干个筛孔；工作位位置处的上箱体上设置有风机，风机位于风道内，风机通过上箱体上的通风孔连通外界与风道；在第一风道和第二风道的同一端部设置有出风道，出风道分别与第一风道和第二风道连通。一种优化方案，工作位上方的上箱体上设有集尘罩，集尘罩为可伸缩式，使用时将集尘罩拉开，不用时推进，可以节约空间；与工作位位置对应的下箱体内设有集尘盒，集尘盒为可移动式。本技术采用了上述技术方案，与现有技术相比，具有以下优点：一方面风机可以不用大功率轴流风机，可以大幅度提高除尘效率，降低能耗及噪音，同时工作场所的环境得到改善，有助于提高工作效率。附图说明附图1是本技术实施例中碳化硅零部件打磨抛光用卧式除尘装置的结构示意图；附图2是附图1的侧视图；图中：1-上箱体，2-下箱体，3-集尘罩，4-集尘盒，5-风机，6-筛孔，7-延伸部，8-隔板，9-第一风道，10-第二风道，11-出风道，12-工作位，13-通风孔。具体实施方式下面结合实施例对本技术进行详细说明。实施例，如图1、图2所示，一种碳化硅零部件打磨抛光用卧式除尘装置，包括相互独立的上箱体1和下箱体2，上箱体1位于下箱体2的上方，上箱体1由中间隔板8隔离为互不连通的两个风道，该风道包括第一风道9和第二风道10；下箱体2具有伸出上箱体1外的延伸部7，延伸部7上设置有若干个工作位12，本实施例中工作位为八个，工作位12位置处的下箱体2上端面上设有若干个筛孔6；工作位12位置处的上箱体1上设置有风机5，风机5位于风道内，风机5通过上箱体1上的通风孔13连通外界与风道，工作位12上方的上箱体1上设有集尘罩3，集尘罩3为可伸缩式，使用时将集尘罩3拉开，不用时推进，可以节约空间；与工作位12位置对应的下箱体2内设有集尘盒4，集尘盒4为可移动式。在第一风道9和第二风道10的同一端部设置有出风道11，出风道11分别与第一风道9和第二风道10连通。将需要打磨抛光的碳化硅零部件置于工作位12上，拉开集尘罩3，启动风机5，打磨抛光产生的细微粉尘通过风机5吸入风道内，并经出风道11进入之后的处理装置进行处理，此处的处理装置结构不在本技术的保护范围，因此不再详细说明，打磨抛光产生的颗粒经筛孔6掉落至集尘盒4，颗粒在集尘盒4累积到一定程度后移出将颗粒另行处理，这样，一方面风机5可以不用大功率轴流风机，可以大幅度提高除尘效率，降低能耗及噪音，同时工作场所的环境得到改善，有助于提高工作效率。以上所述为本技术最佳实施方式的举例，其中未详细述及的部分均为本领域普通技术人员的公知常识。本技术的保护范围以权利要求的内容为准，任何基于本技术的技术启示而进行的等效变换，也在本技术的保护范围之内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种碳化硅零部件打磨抛光用卧式除尘装置，其特征在于：包括相互独立的上箱体（1）和下箱体（2），上箱体（1）位于下箱体（2）的上方，上箱体（1）由中间隔板（8）隔离为互不连通的两个风道，该风道包括第一风道（9）和第二风道（10）；/n下箱体（2）具有伸出上箱体（1）外的延伸部（7），延伸部（7）上设置有若干个工作位（12），工作位（12）位置处的下箱体（2）上端面上设有若干个筛孔（6）；/n工作位（12）位置处的上箱体（1）上设置有风机（5），风机（5）位于风道内，风机（5）通过上箱体（1）上的通风孔（13）连通外界与风道；/n在第一风道（9）和第二风道（10）的同一端部设置有出风道（11），出风道（11）分别与第一风道（9）和第二风道（10）连通。/n

【技术特征摘要】
1.一种碳化硅零部件打磨抛光用卧式除尘装置，其特征在于：包括相互独立的上箱体（1）和下箱体（2），上箱体（1）位于下箱体（2）的上方，上箱体（1）由中间隔板（8）隔离为互不连通的两个风道，该风道包括第一风道（9）和第二风道（10）；
下箱体（2）具有伸出上箱体（1）外的延伸部（7），延伸部（7）上设置有若干个工作位（12），工作位（12）位置处的下箱体（2）上端面上设有若干个筛孔（6）；
工作位（12）位置处的上箱体（1）上设置有风机（5），风机（5）位于风道内，风机（5）通过...

【专利技术属性】
技术研发人员：王汝江，刘同文，张怀顺，
申请(专利权)人：山东金鸿新材料股份有限公司，
类型：新型
国别省市：山东;37