高密封性晶圆清洗槽制造技术

本实用新型专利技术揭示了一种用于高密封性晶圆清洗槽，包括清洗腔，其上方设置有密封盖板，密封盖板上设有密封槽，清洗腔内放置有晶圆架；晶圆架两侧固定于一组平行设置的机械臂的下端；机械臂的上端连接驱动机构，机械臂的下端穿过密封槽并带动晶圆架在清洗腔中移动，密封槽内固设有一密封壳，密封壳内包括至少两个宽度相同，长度不等的叠放的滑片，其中相对长的滑片放置于相对短的滑片的下方，机械臂驱动滑片滑动，在滑动过程中滑片始终对密封槽进行密封。有益效果体现在：用多个滑片代替密封带，滑片与移动机构之间不接触，滑片不会因磨损影响密封效果；相邻滑片始终相互密封，不会使清洗液溢出腐蚀设备，或造成清洗液与空气接触挥发的不良影响。

High sealing wafer cleaning tank

【技术实现步骤摘要】
高密封性晶圆清洗槽
本技术属于半导体生产
，尤其是涉及一种高密封性晶圆清洗槽。
技术介绍
在晶圆的制造过程中，清洗是至关重要的步骤，是确保晶圆的产品质量的关键。为提高清洗效率通常采用槽式清洗，由于清洗液通常具有腐蚀和易挥发等性质，在清洗过程中，如果没有将清洗槽密封好很容易造成不良影响，所以设备性的重要性由此可见。目前，为防止清洗液溢出腐蚀设备或挥发造成不必要的浪费，现有技术的晶圆清洗槽通常采用的结构如图1所示，包括至少两个并列放置的清洗腔1，用于不同程度的清洗；所述清洗腔1内可放置晶圆架2；所述晶圆架2两侧固定于一组平行设置的机械臂3的下端；所述机械臂3的顶端设置有控制其移动的驱动机构31。所述清洗腔1上方设置有一密封盖板4，密封盖板4上开设有密封槽40；所述机械臂3穿过所述密封槽40进而带动所述晶圆架2移动。现有技术中，密封带41覆盖在所述密封槽40上；密封带41一端固定于第一固定块421内，另一端固定于第二固定块422内。由于待清洗的晶圆需要在不同的清洗腔中进行多次清洗，即，需要将连接晶圆架的机械臂在密封带上移动，在移动过程中，机械臂将不可避免的对密封带造成一定程度上的磨损，久而久之将造成密封效果不好甚至致使密封带断裂，这就不得不对密封带进行更换。因此，如何能达到更好的密封效果，是目前亟待解决的技术问题。
技术实现思路
本技术的目的就是为了解决现有技术中存在的上述问题，提供一种。本技术的目的通过以下技术方案来实现：一种用于高密封性晶圆清洗槽，包括位于槽体下方的清洗腔，所述清洗腔的上方设置有密封盖板，所述密封盖板上开设有密封槽，所述清洗腔内可放置有晶圆架；所述晶圆架两侧固定于一组平行设置的机械臂的下端；所述机械臂的上端连接驱动机构并位于所述密封盖板的上方，所述机械臂的下端穿过所述密封槽并在所述驱动机构的作用下带动所述晶圆架在清洗腔中移动，所述密封槽内固定设置有一密封壳，所述密封壳内包括至少两个宽度相同，长度不等的叠放的滑片，其中相对长的滑片放置于相对短的滑片的下方，所述机械臂驱动至少一片所述滑片在所述密封壳的内部空间内滑动，所述滑片在滑动过程中始终密封槽进行密封。优选的，所述密封壳为一框体，且所述密封壳的上下两面开设有一长宽相同的滑槽。优选的，每片所述滑片均具有延其长度方向设置的长槽，所述长槽为贯通所述滑片上下端面的结构。优选的，位于最上方的滑片的长槽的内轮廓与所述机械臂的外轮廓相匹配，以使所述机械臂可带动所述位于最上方的滑片移动。优选的，所述机械臂穿过每个所述滑片的长槽。优选的，所述滑片的两端均垂直设置有用于限位的挡边。优选的，所述滑片的长度及滑片上设置的长槽的长度从上至下依次递增。优选的，所述驱动机构控制所述机械臂移动时，位于上方的所述滑片始终对邻接于其下方的滑片上的长槽进行密封。优选的，位于最下方的所述滑片固定在所述密封壳的内底上，其长宽与所述密封盖板内壁的长宽相等，其上设置的长槽的长度与所述滑槽的长度相当。优选的，位于最下方的所述滑片与所述密封壳之间设置有密封圈。本技术技术方案的优点主要体现在：本技术采用多个滑片代替密封带，所述滑片采用PTFE材质制成，滑片与移动机构之间不接触，即移动机构不会对滑片造成磨损，从而影响密封效果。整个密封组件由多个滑片组成，且相邻滑片始终相互密封，故不会使清洗液溢出腐蚀设备，或造成清洗液与空气接触挥发的不良影响。当滑片有损坏时，无需对整个密封组件更换，只需更换相应滑片即可，操作简单且节约成本。附图说明图1：现有技术的立体图；图2：本技术的滑片结构示意图；图3：本技术的密封壳立体图；图4：本技术的密封壳正面剖视图。具体实施方式本技术的目的、优点和特点，将通过下面优选实施例的非限制性说明进行图示和解释。这些实施例仅是应用本技术技术方案的典型范例，凡采取等同替换或者等效变换而形成的技术方案，均落在本技术要求保护的范围之内。在方案的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“前”、“后”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。并且，在方案的描述中，以操作人员为参照，靠近操作者的方向为近端，远离操作者的方向为远端。下面结合附图对本技术揭示的用于高密封性晶圆清洗槽进行详细介绍。一种用于高密封性晶圆清洗槽，包括清洗腔1，晶圆架2，机械臂3，密封盖板4和密封壳5。如图1所示，所述清洗腔1位于槽体的下方，且其上方设置有密封盖板4，所述密封盖板4将所述清洗腔1内的放置有挥发和腐蚀作用的清洗剂与外界隔离，同时防止清洗剂溢出对设备和环境造成不良影响；所述密封盖板4上开设有密封槽40；所述清洗腔1内可放置有晶圆架2；所述晶圆架2两侧固定于一组平行设置的机械臂3的下端；所述机械臂3的上端连接驱动机构31并位于所述密封盖板4的上方，所述机械臂3的下端穿过所述密封槽40并在所述驱动机构31的作用下带动所述晶圆架2在清洗腔1中移动；具体而言就是，当所述晶圆架2中的晶圆处于待清洗的清洗腔1的上方，即所述机械臂3与所述清洗槽1垂直时，所述驱动机构31将驱动所述机械臂3上下移动；当所述晶圆架2中的晶圆需要切换所述清洗腔1时，所述驱动机构31将带动所述机械臂3在所述密封槽40内沿轴向运动。如图2至图3所示，所述密封槽40内固定设置有一密封壳5；所述密封壳5内包括至少两个宽度相同，长度不等的叠放的滑片50，所述滑片50由PTFE材质制成，当然，也可以采用其他具有防腐蚀且摩擦力小的材料制成，PTFE材质为优选材料。所述滑片50中相对长的滑片放置于相对短的滑片的下方；所述机械臂3驱动至少一片所述滑片50在所述密封壳5的内部空间内滑动，所述滑片50在滑动过程中始终密封槽40进行密封。所述密封壳5为一框体，且所述密封壳5的上下两面开设有一长宽相同的滑槽51；所述密封壳5的上表面可与其相邻四面分离，即所述密封壳5的上表面可拆卸，这样当所述密封壳5内的所述滑片50有损坏时，无需对整个密封组件更换，只要将所述密封壳5拆卸，再将需更换的滑片50取出更换即可，操作简单且节约成本。每片所述滑片50均具有延其长度方向设置的长槽52，所述长槽52为贯通所述滑片50上下端面的结构。所述滑片50的长度及滑片50上设置的长槽52的长度从上至下依次递增。相邻滑片50中，位于上层的滑片50的长度大于位于下层的滑片上长槽52的长度。位于最上方的滑片50的长槽52的内轮廓与所述机械臂3的外轮廓相匹配，以使所述机械臂3可带动所述位于最上方的滑片本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.高密封性晶圆清洗槽，包括位于槽体下方的清洗腔（1），所述清洗腔（1）的上方设置有密封盖板（4），所述密封盖板（4）上开设有密封槽（40），所述清洗腔（1）内可放置有晶圆架（2）；所述晶圆架（2）两侧固定于一组平行设置的机械臂（3）的下端；所述机械臂（3）的上端连接驱动机构（31）并位于所述密封盖板（4）的上方，所述机械臂（3）的下端穿过所述密封槽（40）并在所述驱动机构（31）的作用下带动所述晶圆架（2）在清洗腔（1）中移动，其特征在于：所述密封槽（40）内固定设置有一密封壳（5），所述密封壳（5）内包括至少两个宽度相同，长度不等的叠放的滑片（50），其中相对长的滑片放置于相对短的滑片的下方，所述机械臂（3）驱动至少一片所述滑片（50）在所述密封壳（5）的内部空间内滑动，所述滑片（50）在滑动过程中始终密封槽（40）进行密封。/n

【技术特征摘要】
1.高密封性晶圆清洗槽，包括位于槽体下方的清洗腔（1），所述清洗腔（1）的上方设置有密封盖板（4），所述密封盖板（4）上开设有密封槽（40），所述清洗腔（1）内可放置有晶圆架（2）；所述晶圆架（2）两侧固定于一组平行设置的机械臂（3）的下端；所述机械臂（3）的上端连接驱动机构（31）并位于所述密封盖板（4）的上方，所述机械臂（3）的下端穿过所述密封槽（40）并在所述驱动机构（31）的作用下带动所述晶圆架（2）在清洗腔（1）中移动，其特征在于：所述密封槽（40）内固定设置有一密封壳（5），所述密封壳（5）内包括至少两个宽度相同，长度不等的叠放的滑片（50），其中相对长的滑片放置于相对短的滑片的下方，所述机械臂（3）驱动至少一片所述滑片（50）在所述密封壳（5）的内部空间内滑动，所述滑片（50）在滑动过程中始终密封槽（40）进行密封。


2.根据权利要求1所述的高密封性晶圆清洗槽，其特征在于：所述密封壳（5）为一框体，且所述密封壳（5）的上下两面开设有一长宽相同的滑槽（51）。


3.根据权利要求2所述的高密封性晶圆清洗槽，其特征在于：每片所述滑片（50）均具有延其长度方向设置的长槽（52），所述长槽（52）为贯通所述滑片（50）上下端面的结构。


4.根据权利要求3所述的高密封性晶圆清洗槽，其特征在...

【专利技术属性】
技术研发人员：白忠华，张少阳，裴文龙，陈晨，
申请(专利权)人：苏州芯矽电子科技有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32