【技术实现步骤摘要】
微米级格栅特征的一致性检测方法、装置及终端设备
本专利技术属于半导体测试
，尤其涉及一种微米级格栅特征的一致性检测方法、装置及终端设备。
技术介绍
在半导体领域，随着器件的特征尺寸越来越小，其存在的大量几何量参数已经严重影响了半导体器件的整体性能。其中，格栅宽度作为重要的几何量参数，已经从上个世纪50年代的几百微米，下降到几个微米，甚至更小的水平。据相关文献报道，该参数已经是影响器件频率特性的重要参数，其特征尺寸越小，器件的频率也就越大。因此，当该参数下降到亚微米级别时，如果偏差过大将会严重影响器件的电特性。通常，格栅在半导体器件上以阵列式进行排列，目前通常使用线宽测量仪、扫描电子显微镜、原子力显微镜等仪器对格栅特征参数进行测试。通过扫描电子显微镜采集图像可以发现，由于格栅刻蚀工艺的局限性，这些特征并不是完全一致。目前，扫描电子显微镜只能逐一的测量每个格栅特征的尺寸，最后分析其特征的一致性。虽然原子力显微镜能够精准地扫描出每个特征的信息，但是原子力显微镜的扫描效率低下，不利于在工艺线上使用。专利...
【技术保护点】
1.一种微米级格栅特征的一致性检测方法，其特征在于，包括：/n采集微米级格栅图像，并对所述微米级格栅图像进行特征提取，获得所述微米级格栅图像中每个格栅的宽度特征和长度特征；/n根据所述每个格栅的宽度特征和所述每个格栅的长度特征，计算所有格栅的宽度特征的平均值和所有格栅的长度特征的平均值，并基于所述每个格栅的宽度特征和所述宽度特征的平均值确定所述微米级格栅图像的格栅宽度方向一致性检测参数，基于所述每个格栅的长度特征和所述长度特征的平均值确定所述微米级格栅图像的格栅长度方向一致性检测参数；/n根据所述格栅宽度方向一致性检测参数和所述格栅长度方向一致性检测参数，获得所述微米级格栅...
【技术特征摘要】
1.一种微米级格栅特征的一致性检测方法，其特征在于，包括：
采集微米级格栅图像，并对所述微米级格栅图像进行特征提取，获得所述微米级格栅图像中每个格栅的宽度特征和长度特征；
根据所述每个格栅的宽度特征和所述每个格栅的长度特征，计算所有格栅的宽度特征的平均值和所有格栅的长度特征的平均值，并基于所述每个格栅的宽度特征和所述宽度特征的平均值确定所述微米级格栅图像的格栅宽度方向一致性检测参数，基于所述每个格栅的长度特征和所述长度特征的平均值确定所述微米级格栅图像的格栅长度方向一致性检测参数；
根据所述格栅宽度方向一致性检测参数和所述格栅长度方向一致性检测参数，获得所述微米级格栅图像的格栅特征一致性检测结果。
2.如权利要求1所述的微米级格栅特征的一致性检测方法，其特征在于，所述采集微米级格栅图像，并对所述微米级格栅图像进行特征提取，获得所述微米级格栅图像中每个格栅的宽度特征和长度特征，包括：
采集微米级格栅图像，并获取所述微米级格栅图像中的各个像素点的像素空间坐标；
根据像素坐标系与极坐标系的对应关系，将所述像素点的像素空间坐标转换为参数空间坐标；
根据所述参数空间坐标，确定所述微米级格栅图像中的格栅；
对所述格栅进行特征提取，获得所述微米级格栅图像中每个格栅的宽度特征和长度特征。
3.如权利要求2所述的微米级格栅特征的一致性检测方法，其特征在于，所述根据所述参数空间坐标，确定所述微米级格栅图像中的格栅，包括：
将所述参数空间坐标中的极径坐标与预设阈值进行比较，当所述参数空间坐标中的极径坐标大于等于所述预设阀值时，将所述参数空间坐标对应的坐标点作为所述参数空间坐标中的峰值点；
利用矩形检测方法对所有峰值点进行检测，确定所述微米级格栅图像中的格栅。
4.如权利要求3所述的微米级格栅特征的一致性检测方法，其特征在于，所述利用矩形检测方法对所有峰值点进行检测，确定所述微米级格栅图像中的格栅，包括：
利用预设配对条件对所有峰值点进行配对，获得多个峰值点组合，其中每个峰值点组合由两个配对的峰值点构成；
根据预设配对组合条件对所述多个峰值点组合进行检测，确定所述微米级格栅图像中的格栅。
5.如权利要求4所述的微米级格栅特征的一致性检测方法，其特征在于，所述根据预设配对组合条件对所述多个峰值点组合进行检测，确定所述微米级格栅图像中的格栅，包括：
根据任意一个峰值点组合对应的两个极角坐标，计算所述两个极角坐标的平均值；
根据Δα＝||αm-αn|-90°|<Tα确定任意两个目标峰值点组合的极角平均值；
根据任意两个目标峰值点组合的极角平均值确定所述...
【专利技术属性】
技术研发人员：张晓东，梁法国，李锁印，韩志国，赵琳，冯亚南，许晓青，
申请(专利权)人：中国电子科技集团公司第十三研究所，
类型：发明
国别省市：河北;13
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