无立柱的基坑支护结构及其施工方法技术

本发明专利技术涉及一种无立柱的基坑支护结构，包括：设置于待开挖基坑的区域周围的围护结构；沿该基坑的开挖深度依次设置的至少两道水平支撑，该水平支撑水平地支撑于围护结构之间，且靠近基坑底部的水平支撑位于待施工的地下结构的上方；间隔设置且竖直连接于相邻两道水平支撑之间的竖梁；以及倾斜地连接于相邻的两道水平支撑之间且与竖梁固定连接的若干斜撑。本发明专利技术有效的解决了立柱的存在影响基坑开挖及地下结构施工的问题，利用无立柱的支护结构，在对基坑支护的同时，避免对基坑开挖及后期地下结构施工的影响，减少漏水隐患，保证施工质量。

Foundation pit supporting structure without column and its construction method

【技术实现步骤摘要】
无立柱的基坑支护结构及其施工方法
本专利技术涉及建筑施工领域，特指一种无立柱的基坑支护结构及其施工方法。
技术介绍
随着地下空间的大规模开发，建筑基坑工程也朝着深大方向发展，对于开挖面积和深度较大的基坑，目前普遍采用现浇混凝土支撑体系，包括水平支撑梁和竖向支撑立柱，利用立柱与横梁支撑基坑内部防止基坑变形，在深大基坑中，立柱的数量可能达到几十甚至上百根，由于基坑中存在大量立柱，在地下结构施工时，存在土方开挖效率低、基坑开挖速度慢等问题，且立柱影响地下结构的施工，如防水卷材在立柱处不连续需要另外设置止水板，具有较大的漏水隐患，使得施工质量难以保证。
技术实现思路
本专利技术的目的在于克服现有技术的缺陷，提供一种无立柱的基坑支护结构及其施工方法，解决了立柱的存在影响基坑开挖和地下结构施工的问题，利用无立柱的支护结构，在对基坑支护的同时，避免对后期地下结构施工的影响，减少漏水隐患，保证施工质量。实现上述目的的技术方案是：本专利技术提供了一种无立柱的基坑支护结构，包括：设置于待开挖基坑的区域周围的围护结构；沿该基坑的开挖深度依次设置的至少两道水平支撑，该水平支撑水平地支撑于围护结构之间，且靠近基坑底部的水平支撑位于待施工的地下结构的上方；间隔设置且竖直连接于相邻两道水平支撑之间的竖梁；以及倾斜地连接于相邻的两道水平支撑之间且与竖梁固定连接的若干斜撑。本专利技术采用无立柱的基坑支护结构，通过沿开挖深度依次设置水平支撑，进而在水平支撑之间连接竖梁，并倾斜地设置斜撑以支撑住基坑的内部，在不设置立柱的情况下也能有效支撑住基坑的内部，不会影响后期地下结构的施工，解决了立柱的存在影响地下结构施工的问题，利用无立柱的支护结构，在对基坑支护的同时，避免对后期地下结构施工的影响，减少漏水隐患，保证施工质量。本专利技术无立柱的基坑支护结构的进一步改进在于，该斜撑包括若干首尾相连的第一斜梁，若干第一斜梁拼合呈波浪形。本专利技术无立柱的基坑支护结构的进一步改进在于，该斜撑还包括与第一斜梁交错设置的第二斜梁，该第二斜梁和第一斜梁交错呈X状并支撑于相邻的两道水平支撑之间。本专利技术无立柱的基坑支护结构的进一步改进在于，每一道水平支撑包括位于同一水平面且沿围护结构间隔设置的若干横梁以及间隔设置且连接于相邻两根横梁之间的连接梁，该连接梁对应竖梁设置并与竖梁固定连接。本专利技术无立柱的基坑支护结构的进一步改进在于，该围护结构的顶部浇筑形成有冠梁；相对的两个冠梁之间浇筑形成水平支撑。本专利技术无立柱的基坑支护结构的进一步改进在于，该围护结构的内壁浇筑形成有至少一道腰梁；相对的腰梁之间浇筑形成水平支撑。本专利技术提供了一种无立柱的基坑支护结构的施工方法，包括如下步骤：于待开挖基坑的区域周围施工围护结构；开挖该待开挖基坑的区域，并沿开挖深度依次于围护结构的内壁间隔设置至少两道水平支撑，且靠近基坑底部的水平支撑位于待施工的地下结构的上方；于相邻两道水平支撑之间间隔设置若干竖梁；于相邻两道水平支撑之间设置倾斜的斜撑，并将斜撑与竖梁对应连接。本专利技术无立柱的基坑支护结构的施工方法的进一步改进在于，该每一道水平支撑包括位于同一水平面且沿围护结构间隔设置的若干横梁；对应竖梁于相邻两根横梁之间设置连接梁，并将连接梁对应与竖梁固定连接。附图说明图1为本专利技术无立柱的基坑支护结构一种实施方式的正面剖视图。图2为本专利技术无立柱的基坑支护结构另一实施方式的正面剖视图。图3为本专利技术无立柱的基坑支护结构又一实施方式的正面剖视图。图4为本专利技术无立柱的基坑支护结构又一实施方式的正面剖视图。图5为本专利技术无立柱的基坑支护结构一种实施方式的俯视图。图6为本专利技术无立柱的基坑支护结构另一实施方式的俯视图。具体实施方式下面结合附图和具体实施例对本专利技术作进一步说明。参阅图1，本专利技术提供了一种无立柱的基坑支护结构，通过沿开挖深度依次设置水平支撑，进而在水平支撑之间连接竖梁，并倾斜地设置斜撑以支撑住基坑的内部，在不设置立柱的情况下也能有效支撑住基坑的内部，不会影响后期地下结构的施工，解决了立柱的存在影响基坑开挖及地下结构施工的问题，利用无立柱的支护结构，在对基坑支护的同时，避免对后期地下结构施工的影响，减少漏水隐患，保证施工质量。下面结合附图对本专利技术无立柱的基坑支护结构进行说明。参阅图1，图1为本专利技术无立柱的基坑支护结构一种实施方式的正面剖视图。下面结合图1，对本专利技术无立柱的基坑支护结构进行说明。如图1所示，本专利技术无立柱的基坑支护结构，包括：设置于待开挖基坑21的区域周围的围护结构11；沿该基坑21的开挖深度依次设置的至少两道水平支撑，该水平支撑水平地支撑于围护结构11之间，且靠近基坑21底部的水平支撑位于待施工的地下结构的上方；间隔设置且竖直连接于相邻两道水平支撑之间的竖梁13；以及倾斜地连接于相邻的两道水平支撑之间且与竖梁13固定连接的若干斜撑。具体的，该围护结构11的顶部浇筑形成有冠梁111；相对的两个冠梁111之间浇筑形成水平支撑。更具体的，该围护结构11的内壁浇筑形成有至少一道腰梁112；相对的腰梁112之间浇筑形成水平支撑。较佳地，结合图3和图4所示，该水平支撑设置有三道。作为本专利技术的一较佳实施方式，结合图1所示，该斜撑包括若干首尾相连的第一斜梁14，若干第一斜梁14拼合呈波浪形。具体的，结合图2所示，该斜撑还包括与第一斜梁14交错设置的第二斜梁15，该第二斜梁15和第一斜梁14交错呈X状并支撑于相邻的两道水平支撑之间，以增强支撑效果。进一步的，结合图5和图6所示，每一道水平支撑包括位于同一水平面且沿围护结构11间隔设置的若干横梁12以及间隔设置且连接于相邻两根横梁12之间的连接梁121，该连接梁121对应竖梁13设置并与竖梁13固定连接。较佳地，可以在每个相邻的横梁12之间设置连接梁121，也可以间隔在相邻的横梁12之间设置连接梁121。本专利技术的具体实施方式如下：以设置三道水平支撑为例；在开挖基坑21前，在待开挖基坑21的区域周围施工围护结构11，进而开挖基坑21；随基坑21的开挖深度间隔设置水平支撑，且每一道水平支撑在同一平面内包括有若干横梁12，该横梁12沿围护结构11间隔设置，同一水平面内相邻的横梁12之间设置有连接梁121；在相邻的两道水平支撑之间设置竖梁13，即上下相邻的两根横梁12之间设置竖梁13；在上下相邻的两根横梁12之间设置斜撑，该斜撑、连接梁121与竖梁13对应连接；待水平支撑、竖梁13和斜撑达到设定强度后继续向下开挖至设定标高以形成完整的基坑21，在基坑21中施工地下结构，此时基坑21中待施工地下结构的位置没有立柱，不会对地下结构的施工造成影响。本专利技术还提供了一种无立柱的基坑支护结构的施工方法本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种无立柱的基坑支护结构，其特征在于，包括：/n设置于待开挖基坑的区域周围的围护结构；/n沿所述基坑的开挖深度依次设置的至少两道水平支撑，所述水平支撑水平地支撑于所述围护结构之间，且靠近所述基坑底部的水平支撑位于待施工的地下结构的上方；/n间隔设置且竖直连接于相邻两道所述水平支撑之间的竖梁；以及/n倾斜地连接于相邻的两道所述水平支撑之间且与所述竖梁固定连接的若干斜撑。/n

【技术特征摘要】
1.一种无立柱的基坑支护结构，其特征在于，包括：
设置于待开挖基坑的区域周围的围护结构；
沿所述基坑的开挖深度依次设置的至少两道水平支撑，所述水平支撑水平地支撑于所述围护结构之间，且靠近所述基坑底部的水平支撑位于待施工的地下结构的上方；
间隔设置且竖直连接于相邻两道所述水平支撑之间的竖梁；以及
倾斜地连接于相邻的两道所述水平支撑之间且与所述竖梁固定连接的若干斜撑。


2.如权利要求1所述的无立柱的基坑支护结构，其特征在于，所述斜撑包括若干首尾相连的第一斜梁，若干所述第一斜梁拼合呈波浪形。


3.如权利要求2所述的无立柱的基坑支护结构，其特征在于，所述斜撑还包括与所述第一斜梁交错设置的第二斜梁，所述第二斜梁和所述第一斜梁交错呈X状并支撑于相邻的两道所述水平支撑之间。


4.如权利要求1所述的无立柱的基坑支护结构，其特征在于，每一道所述水平支撑包括位于同一水平面且沿所述围护结构间隔设置的若干横梁以及间隔设置且连接于相邻两根所述横梁之间的连接梁，所述连接梁对应所述竖梁设置并与所述竖梁固定连接。


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【专利技术属性】
技术研发人员：韩磊，孙旻，冉岸绿，方兴杰，
申请(专利权)人：中国建筑第八工程局有限公司，
类型：发明
国别省市：上海;31