层叠薄膜制造技术

本发明专利技术提供具备能够抑制渗出的紫外线吸收树脂层的层叠薄膜。透明导电性薄膜(1)具备：透明基材(2)、配置于透明基材(2)的厚度方向一侧并含有树脂及下述通式(1)所示的化合物的紫外线吸收树脂层(3)、和配置于紫外线吸收树脂层(3)的厚度方向一个面的覆盖层(4)。

stack film

【技术实现步骤摘要】
层叠薄膜
本专利技术涉及层叠薄膜、特别是涉及光学用途中使用的层叠薄膜。
技术介绍
以往以来，已知液晶显示器、有机EL显示器等图像显示装置具备在透明基材上配置有铟锡复合氧化物(ITO)层等透明导电层的透明导电性薄膜作为触摸面板用薄膜等光学薄膜。另一方面，图像显示装置存在图像显示装置内的构成构件因紫外光而发生劣化的不良情况。特别是对于有机EL显示器，有机EL层容易因紫外光而发生破损。因此，已知将含有紫外线吸收剂的粘合片用于光学薄膜(参照专利文献1。)。另外，作为显示高耐光性的紫外线吸收剂，例如已知有部花青素(Merocyanine)系化合物(参照专利文献2。)。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2013-75978号公报专利文献2：日本特开2011-184414号公报
技术实现思路
专利技术要解决的问题然而，专利文献2中记载的部花青素系化合物在光学薄膜用途中耐光性等耐久性不充分，要求进一步的改良。因此，作为光学用途中使用的紫外线吸收剂，本专利技术人等发现了耐久性良好的化合物(后述通式(1)所示的化合物)。反复进行了进一步的研究，结果发现，使树脂层含有上述化合物时，特别是在高温高湿环境下，会产生上述化合物在树脂层(紫外线吸收树脂层)的表面析出的现象(渗出)。渗出不仅使其化合物所具备的特性(紫外线吸收性)劣化，还会产生使光学薄膜的透明性降低等不良情况。本专利技术提供具备能够抑制渗出的紫外线吸收树脂层的层叠薄膜。用于解决问题的方案本专利技术[1]包含一种层叠薄膜，其具备：基材；配置于前述基材的厚度方向一侧并含有树脂及下述通式(1)所示的化合物的树脂层；和配置于前述树脂层的厚度方向一个面的覆盖层。(通式(1)中，m表示1～6的整数，Q1在m为1时表示氢原子，在m为2～6时表示2～6价的连结基团，D1表示从下述通式(2)所示的化合物中去除1个氢原子而得到的基团，m为2～6时，多个D1任选全部相同或不同。)(通式(2)中，R1表示氢原子、任选具有取代基的烷基或任选具有取代基的芳基。R2表示氢原子、氰基、硝基、三氟甲基、含杂环基团、-C(O)-R7或-SO2-R8。R7表示羟基或-OR71，R8表示卤素原子、羟基、-OR81、-NR82R83或-R84。R71及R81～R84相同或不同，表示氢原子、任选具有取代基的烷基或任选具有取代基的芳基。R3表示氢原子、卤素原子、氰基、任选具有取代基的烷基或任选具有取代基的芳基。R402及R403相同或不同，表示氢原子、卤素原子、任选具有取代基的烷基、任选具有取代基的芳基、-NR406R407、-OR408、氰基、-C(O)R409、-O-C(O)R410或-C(O)OR411，R404～R411相同或不同，表示氢原子、任选具有取代基的烷基或任选具有取代基的芳基。R404、R405、以及与R404及R405键合的氮原子任选形成任选具有取代基的4～8元的含氮杂环。)本专利技术[2]包含[1]所述的层叠薄膜，其中，前述树脂层为固化树脂层。本专利技术[3]包含[2]所述的层叠薄膜，其中，前述树脂层为紫外线固化树脂层。本专利技术[4]包含[1]～[3]中任一项所述的层叠薄膜，其中，前述覆盖层为最外层。本专利技术[5]包含[1]～[4]中任一项所述的层叠薄膜，其中，还具备配置于前述基材的厚度方向另一侧的透明导电层。本专利技术[6]包含[1]～[5]所述的层叠薄膜，其中，前述通式(1)中的m为1或2。本专利技术[7]包含[1]～[6]所述的层叠薄膜，其中，前述通式(1)所示的化合物为下述通式(3)所示的化合物。(通式(3)中，R1a表示氢原子、任选具有取代基的碳数1～20的烷基或任选具有取代基的碳数6～20的芳基。R2a表示氢原子、氰基、硝基、三氟甲基、含杂环基团、-C(O)-R7a或-SO2-R8a。R7a表示羟基或-OR71a，R8a表示卤素原子、羟基、-OR81a、-NR82aR83a或-R84a。R71a及R81a～R84a相同或不同，表示氢原子、任选具有取代基的碳数1～20的烷基或任选具有取代基的碳数6～20的芳基。R3a表示氢原子、卤素原子、氰基、任选具有取代基的碳数1～20的烷基或任选具有取代基的碳数6～20的芳基。R402a表示氢原子、卤素原子、任选具有取代基的碳数1～20的烷基、任选具有取代基的碳数6～20的芳基、-NR406aR407a、-OR408a、氰基、-C(O)R409a、-O-C(O)R410a或-C(O)OR411a，R404a～R411a相同或不同，表示氢原子、任选具有取代基的碳数1～20的烷基或任选具有取代基的碳数6～20的芳基。R404a、R405a、以及与R404a及R405a键合的氮原子任选形成任选具有取代基的4～8元的含氮杂环。R413表示氢原子、任选具有取代基的碳数1～20的烷基、任选具有取代基的碳数6～20的芳基、或表示下述通式(4)所示的基团。)(通式(4)中，Q2表示任选具有取代基的碳数1～20的2价的烃基，*表示与通式(3)的键合部位。R1b表示氢原子、任选具有取代基的碳数1～20的烷基或任选具有取代基的碳数6～20的芳基。R2b表示氢原子、氰基、硝基、三氟甲基、含杂环基团、-C(O)-R7b或-SO2-R8b。R7b表示羟基或-OR71b，R8b表示卤素原子、羟基、-OR81b、-NR82bR83b或-R84b。R71b及R81b～R84b相同或不同，表示氢原子、任选具有取代基的碳数1～20的烷基或任选具有取代基的碳数6～20的芳基。R3b表示氢原子、卤素原子、氰基、任选具有取代基的碳数1～20的烷基或任选具有取代基的碳数6～20的芳基。R402b表示氢原子、卤素原子、任选具有取代基的碳数1～20的烷基、任选具有取代基的碳数6～20的芳基、-NR406bR407b、-OR408b、氰基、-C(O)R409b、-O-C(O)R410b或-C(O)OR411b，R404b～R411b相同或不同，表示氢原子、任选具有取代基的碳数1～20的烷基或任选具有取代基的碳数6～20的芳基。R404b、R405b、以及与R404b及R405b键合的氮原子任选形成任选具有取代基的4～8元的含氮杂环。)本专利技术[8]包含[7]所述的层叠薄膜，其中，前述R413为前述通式(4)所示的基团。本专利技术[9]包含[1]～[6]所述的层叠薄膜，其中，前述通式(1)所示的化合物为下述通式(5)所示的化合物。(通式(5)中，R2c表示氢原子、氰基、硝基、三氟甲基、含杂环基团、-C(O)-R7c或-SO2-R8c。R7c表示羟基或-OR71c，R8c表示卤素原子、羟基、-OR81c、-NR82cR83c或-R84c。R71c及R81c～R84c相同或不同，表示氢原子、任选具有取代基的碳数1～20的烷基或任选具有取代基的碳数6～20本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种层叠薄膜，其特征在于，具备：基材；/n配置于所述基材的厚度方向一侧并含有树脂及下述通式(1)所示的化合物的树脂层；和/n配置于所述树脂层的厚度方向一个面的覆盖层，/n

【技术特征摘要】
20181023 JP 2018-1995421.一种层叠薄膜，其特征在于，具备：基材；
配置于所述基材的厚度方向一侧并含有树脂及下述通式(1)所示的化合物的树脂层；和
配置于所述树脂层的厚度方向一个面的覆盖层，



通式(1)中，m表示1～6的整数，Q1在m为1时表示氢原子、在m为2～6时表示2～6价的连结基团，D1表示从下述通式(2)所示的化合物中去除1个氢原子而得到的基团，m为2～6时，多个D1任选全部相同或不同，



通式(2)中，R1表示氢原子、任选具有取代基的烷基或任选具有取代基的芳基，
R2表示氢原子、氰基、硝基、三氟甲基、含杂环基团、-C(O)-R7或-SO2-R8，R7表示羟基或-OR71，R8表示卤素原子、羟基、-OR81、-NR82R83或-R84，R71及R81～R84相同或不同，表示氢原子、任选具有取代基的烷基或任选具有取代基的芳基，
R3表示氢原子、卤素原子、氰基、任选具有取代基的烷基或任选具有取...

【专利技术属性】
技术研发人员：竹下翔也，安藤豪彦，
申请(专利权)人：日东电工株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP