【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】微机械压力传感器设备和相应的制造方法
本专利技术涉及一种微机械压力传感器设备和一种相应的制造方法。
技术介绍
虽然可以应用于任意的微机械压力传感器设备，但本专利技术和基于本专利技术的问题参照基于硅的微机械压力传感器设备阐释，如由WO2013/152901A1已知的那样。图5a)-c)是用于阐释基于本专利技术的问题的示例性微机械压力传感器设备的示意性示图，更确切地说，图5a)、5b)是横截面并且图5c)是俯视图。在图5a)和5b)中，附图标记F表明微机械功能层、例如硅层。在微机械功能层F中，膜片M构造有布置在该膜片下方的腔A。腔A在后侧通过封闭层V封闭。附图标记P1至P4表明布置在膜片M中或上的弯曲感测装置、例如压阻元件，以用于感测膜片M的由于作用在该膜片上的外部压力变化所引起的弯曲。图5a)表明以下状态，在该状态中外部压力P等于Pa，其中，压力P＝Pa相应于腔A内部的压力。在该状态中，弯曲感测装置以压阻元件P1至P4输出第一测量值，例如通过桥接。如果外部压力P升高到较高的压力P＝Pb，那么膜片M向内变...
【技术保护点】
1.微机械压力传感器设备，该微机械压力传感器设备具有：/n第一膜片(3)和邻接到该第一膜片上的第一腔(4)；/n布置在所述第一膜片(3)中和/或上的第一弯曲感测装置(6)，该第一弯曲感测装置用于感测所述第一膜片(3)的由于作用在该第一膜片上的外部压力变化并且由于所述压力传感器设备的内部机械弯曲所引起的弯曲；/n第二膜片(9；9’；9”)和邻接到该第二膜片上的第二腔(5；5’；5”)；和/n布置在所述第二膜片(9；9’；9”)中和/或上的第二弯曲感测装置(11；11’；11”)，该第二弯曲感测装置用于感测所述第二膜片(9；9’；9”)的由于所述压力传感器设备的所述内部机械弯曲...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20170802 DE 102017213354.61.微机械压力传感器设备，该微机械压力传感器设备具有：
第一膜片(3)和邻接到该第一膜片上的第一腔(4)；
布置在所述第一膜片(3)中和/或上的第一弯曲感测装置(6)，该第一弯曲感测装置用于感测所述第一膜片(3)的由于作用在该第一膜片上的外部压力变化并且由于所述压力传感器设备的内部机械弯曲所引起的弯曲；
第二膜片(9；9’；9”)和邻接到该第二膜片上的第二腔(5；5’；5”)；和
布置在所述第二膜片(9；9’；9”)中和/或上的第二弯曲感测装置(11；11’；11”)，该第二弯曲感测装置用于感测所述第二膜片(9；9’；9”)的由于所述压力传感器设备的所述内部机械弯曲所引起的弯曲；
其中，所述第二膜片(9；9’；9”)构型成，使得所述第二膜片不能由于所述外部压力变化而弯曲。
2.根据权利要求1所述的微机械压力传感器设备，其中，所述第一膜片(3)和邻接到该第一膜片上的所述第一腔(4)形成在第一微机械功能层(2)中，并且，其中，所述第二膜片(9；9’)形成在第二微机械功能层(7)中，该第二微机械功能层与所述第一微机械功能层(2)间隔开地布置。
3.根据权利要求2所述的微机械压力传感器设备，其中，所述第二微机械功能层(7)布置在所述第一微机械功能层(2)的所述第一膜片(3)的一侧上，其中，所述第一膜片(3)是闭合的，其中，所述第二膜片(9)具有贯通开口(10)，并且，其中，所述第二腔(5)布置在所述第一膜片(3)和所述第二膜片(9)之间并且与所述贯通开口(10)流体连通。
4.根据权利要求2或3所述的微机械压力传感器设备，其中，在所述第二微机械功能层(7)和所述第一微机械功能层(2)之间布置有间距保持器层(8；8’)。
5.根据权利要求2所述的微机械压力传感器设备，其中，所述第一腔(4)在所述第一微机械功能层(2)的与所述第一膜片(3)相对置的一侧上通过封闭层(1)封闭，其中，所述第二微机械功能层(7’)布置在所述封闭层(1)上，其中，所...
【专利技术属性】
技术研发人员：R·毛尔，F·霍伊克，
申请(专利权)人：罗伯特·博世有限公司，
类型：发明
国别省市：德国;DE
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