一种用于高能激光光学系统的杂散光分析抑制方法及高能激光光学系统技术方案

本发明专利技术为了解决现有技术中的杂散光分析方法仅分析到探测器焦面的杂散光分布，无法获得高能光源对系统稳定性的影响的缺陷，而提出一种用于高能激光光学系统的杂散光分析抑制方法及高能激光光学系统。本发明专利技术的方法包括：获取待分析的高能激光系统模型中光学系统及其外部通道结构的表面辐射功率；通过有限元分析软件分析高能激光系统模型中光学系统在t0时刻的光功率分布；将光功率分布带入光学系统外部的通道结构中，得到t0时刻通道结构的热分布及变形量；将通道结构的热分布及变形量带入光学系统结构中，得到热分布及变形量使光学系统产生的性能变化情况。本发明专利技术还包括一种高能激光光学系统。本发明专利技术适用于高能激光光学系统的设计和制造。

A method of stray light analysis and suppression for high energy laser optical system and high energy laser optical system

【技术实现步骤摘要】
一种用于高能激光光学系统的杂散光分析抑制方法及高能激光光学系统
本专利技术涉及高能激光领域，具体涉及一种用于高能激光光学系统的杂散光分析抑制方法及高能激光光学系统。
技术介绍
高能激光武器的平均输出功率超过20KW，每个脉冲的能量超过30KJ，其部分结构如图1所示，高能激光系统包括由光学部件组成的光学系统和外部通道结构，当高能激光经过光学系统时，反射光会使外部结构产生温度变化进而产生变形量。同时外部通道的变形和升温会使光学系统发生光学性能改变，进而影响整个系统的稳定性。因此需要对系统进行杂散光分析，杂散光分析可解决高能系统受热不均产生的稳定性问题、减少共口径发射/接收通道内接收系统受到干扰的问题。因此，该杂散光分析方法在很多方面都可应用，如激光通讯、激光雷达、高功率照明系统、激光武器等。目前有多种杂散光分析方法，其原理和特点都各不相同，但大多数仅分析到探测器焦面的杂散光分布，其缺点在于无法获得高能光源对系统稳定性的影响。
技术实现思路
本专利技术的一个目的是解决现有技术中的杂散光分析方法仅分析到探测器焦面的杂散光分布本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于高能激光光学系统的杂散光分析抑制方法，其特征在于，/nS1：获取待分析的高能激光系统模型中光学系统及其外部通道结构的表面辐射功率；/nS2:通过有限元分析软件分析高能激光系统模型中光学系统在t0时刻的光功率分布；/nS3：将光功率分布带入光学系统外部的通道结构中，得到t0时刻通道结构的热分布及变形量；/nS4：将通道结构的热分布及变形量带入光学系统结构中，得到所述热分布及变形量使光学系统产生的性能变化情况。/n

【技术特征摘要】
1.一种用于高能激光光学系统的杂散光分析抑制方法，其特征在于，
S1：获取待分析的高能激光系统模型中光学系统及其外部通道结构的表面辐射功率；
S2:通过有限元分析软件分析高能激光系统模型中光学系统在t0时刻的光功率分布；
S3：将光功率分布带入光学系统外部的通道结构中，得到t0时刻通道结构的热分布及变形量；
S4：将通道结构的热分布及变形量带入光学系统结构中，得到所述热分布及变形量使光学系统产生的性能变化情况。


2.根据权利要求1的用于高能激光光学系统的杂散光分析抑制方法，其特征在于，还包括：
S5：对于t0的下一时刻，重复S2至S4，得到光学系统及其外部通道结构在各个时刻直至系统达到热温稳定时刻的性能变化情况。


3.根据权利要求2的用于高能激光光学系统的杂散光分析抑制方法，其特征在于，还包括：
S6：根据光学系统在各个时刻直至系统达到热温稳定时刻的性能变化情况判断是否满足预设的数值要求，若不满足，则根据无热化设计原则对所述光学系统进行重新设计，直至满足预设的数值要求。


4.根据权利要求1的用于高能激光光学系统的杂散光分析抑制方法，其特征在于，步骤S1中,通过zemax或CodeV软件获取待分析的高能激光系统模型中光学系统及其外部通道结构的表面辐射功率。


5.根据权利要求1的用于高能激光光学系统的杂散光分析抑制方法，...

【专利技术属性】
技术研发人员：于祥燕，康为民，卢开昌，张全，
申请(专利权)人：哈尔滨新光光电科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：黑龙;23