一种新型带钢真空镀膜设备及工艺制造技术

本发明专利技术提供一种新型带钢真空镀膜设备及工艺，属于带钢加工技术领域。所述的新型带钢真空镀膜设备，包括依次连通的第一真空压差室、预热室、镀膜室、冷却室、第二真空压差室，所述镀膜室包括第一镀膜室和第二镀膜室，所述第一镀膜室设有对带钢一面进行镀膜的第一镀膜机构，所述第二镀膜室沿带钢水平运行方向的下方设有若干导向辊，带钢与设于水平线上的导向辊水平相切，并与设于下方的各个导向辊连接形成容纳空间，所述容纳空间内设有第二镀膜机构。本申请是针对典型带钢镀膜工艺的真空镀膜设备提出了一个新的设计方案，使设备的各个真空室都安装在同一水平面上，降低设备安装高度，方便操作和维修，减少导向辊的数量，降低生产成本。

A new vacuum coating equipment and technology for steel strip

【技术实现步骤摘要】
一种新型带钢真空镀膜设备及工艺
本专利技术属于带钢加工
，具体涉及一种新型带钢真空镀膜设备。
技术介绍
随着电子束技术的发展与普及，连续化、大面积、高速度、大规模的带钢电子束连续真空镀膜正在变成了一种代替热浸镀、电镀成为带钢外表面处理的技术手段。电子束带钢真空镀膜工艺与其相比具有以下优点：可选择的镀膜材料丰富不受材料熔点的约束。环境污染小。能取得纯度高、均匀、很薄的膜层。耐蚀性和附着力好。能够依据使用者要求灵活地在带钢上镀制单面、双面、单层、多层、混合、复合等膜层。典型的连续式双面带钢(大气到大气)真空镀膜段的工艺工作过程(附图4)为：清洗后的带钢1—→真空压差室2—→预热(预处理)室3(电子枪10对带钢进行加热预处理)—→第一镀膜室4(电子枪11扫描坩埚对带钢一侧表面进行镀膜)—→带钢翻转5—→第二镀膜室6(电子枪12扫描坩埚对带钢另一侧表面进行镀膜)—→冷却室7—→压差室8—→镀膜后带钢9。在电子束镀膜工艺中由于坩埚安装位置的局限性决定了带钢在镀膜过程中必须是被镀膜表面向下朝向坩埚，带钢双面镀膜也就是带钢的每一个面都要本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种新型带钢真空镀膜设备，包括依次连通的第一真空压差室、预热室、镀膜室、冷却室、第二真空压差室，其特征在于，所述镀膜室包括设于同一水平面上的第一镀膜室和第二镀膜室，所述第一镀膜室设有对带钢一面进行镀膜的第一镀膜机构，所述第二镀膜室沿带钢水平运行方向的下方设有若干导向辊，带钢与设于水平线上的导向辊水平相切，并与设于下方的若干导向辊依次连接形成容纳空间，所述容纳空间内设有对带钢另一面进行镀膜的第二镀膜机构。/n

【技术特征摘要】
1.一种新型带钢真空镀膜设备，包括依次连通的第一真空压差室、预热室、镀膜室、冷却室、第二真空压差室，其特征在于，所述镀膜室包括设于同一水平面上的第一镀膜室和第二镀膜室，所述第一镀膜室设有对带钢一面进行镀膜的第一镀膜机构，所述第二镀膜室沿带钢水平运行方向的下方设有若干导向辊，带钢与设于水平线上的导向辊水平相切，并与设于下方的若干导向辊依次连接形成容纳空间，所述容纳空间内设有对带钢另一面进行镀膜的第二镀膜机构。


2.根据权利要求1所述的新型带钢真空镀膜设备，其特征在于，所述第一镀膜室中镀膜设备包括第一电子枪和第一坩埚，所述第一坩埚设于带钢水平线下方，第一电子枪设于第一坩埚的上方水平放置并射出电子束对第一坩埚进行加热。


3.根据权利要求2所述的新型带钢真空镀膜设备，其特征在于，所述第二镀膜室中容纳空间呈上窄下宽结构。


4.根据权利要求3所述的新型带钢真空镀膜设备，其特征在于，所述容纳空间为由四根导向辊构成的梯形结构，上面两根导向辊之间的间距小于下面两根导向辊之间的间距，带钢与四根导向辊形成左上-左下-右下-右上依次连接，使上面两根导向辊之间留有缝隙。


5.根据权利要求4所述的新型带钢真空镀膜设备，其特征在于，所述第二镀膜机构包括第二电子枪和第二坩埚，所述第二坩埚设于容纳空间内，所述第二电子枪设于所述容纳空间上方竖直放置，向下射出的电子束从上面两根导向辊之间的缝隙穿过对第二坩...

【专利技术属性】
技术研发人员：郭锦龙，王殿儒，程云立，付久龙，武金魁，
申请(专利权)人：长钛工程技术研究院北京有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11