王殿儒专利技术

王殿儒共有14项专利

  • 本发明提供一种多弧型带材真空连续镀膜系统,该镀膜系统用于卷绕带材的镀膜,所述镀膜系统包括真空室,所述真空室中设置有入口真空锁、电子枪、第一导向轮、滚轮、第二导向轮、移动杆、密封板、多弧离子源、第一真空镀膜仓、第二真空镀膜仓与出口真空锁,...
  • 本发明提供一种基于气体放电型大功率电子枪的复合型基材连续镀膜系统,该镀膜系统用于实现异形件与带材卷绕的镀膜,包括前处理系统与复合镀膜系统,其中,所述前处理系统用于对被镀基材进行表面清洁、活化与保护,在被镀基材表面形成保护层;所述复合镀膜...
  • 面板型电子束的气体放电电子枪以及带材连续镀膜生产线
    一种面板型电子束的气体放电电子枪和一种带材连续镀膜生产线,电子枪包括:阴极,用于发射电子,发射表面为沿纵向直线延伸的圆弧面,该表面的横向截交线均为相同的圆弧形;阳极,与阴极之间形成电场,并且,阴极和阳极构成一个气体异常辉光放电腔,以形成...
  • 一种获得电离金属蒸气的方法,采用感应加热的方法先使金属变成蒸气,然后以该金属蒸气为介质点燃金属蒸气电弧,使电中性的金属蒸气电离成为金属蒸气等离子体。
  • 一种横卧往复式物理气相沉积法镀陶瓷离子镀膜机,它是在三段真空室之间相互由真空阀门隔离,阀门按工艺所需程序开启或关闭,第一段真空室为进料加热、烘烤与处理室,第二段真空室为物理气相沉积法镀陶瓷的镀膜室,室壁安装多个电弧蒸发离化源和多个磁控溅...
  • 一种具有电弧—磁控共生靶的离子镀膜机,与其真空镀膜室连通的旁通室中,安置的柱状共生靶内,磁场系统朝向工件,并接入磁控电源时,构成磁控溅射靶模式,当柱状共生靶再旋转180°,磁场磁铁背向工件,并远离工件时,构成电弧蒸发靶模式,阴极两端分别...
  • 一种管状阴极受控电弧等离子体蒸发离化源,在真空镀膜室内,围绕轴线旋转的管状阴极的两端,经过可控开关各接入一个电弧电源,当某一开关与弧电源接通,阴极与阳极之间引燃电弧,通过开关的控制,当一个弧电源接通时,另一个弧电源断开,再切换到另一个电...
  • 一种真空室之间自转工件架传递的方法采用驱动齿轮-齿条推杆机械手系统在传统的PVD物理气相沉积单个镀膜室齿轮行星式公转-自转工件架基础上,作出独创性的改进。基本传递原理是当公转盘某一缺口与圆环共同夹持某一工件架,并运行到圆环的唯一缺口处,...
  • 一种新型磁控溅射与多弧蒸发兼容的管状阴极源,涉及在真空室中,在同一个围绕轴线旋转的管状阴极内,在一个朝向工件方向置入磁控溅射所需要的磁场系统,阴极接入磁控溅射电源时,即可实现磁控溅射模式,在相反的朝向不置入任何磁场系统,也可将置入的磁场...
  • 一种具有中空横卧式真空室的离子镀膜机,两个大型钟罩以同一水平轴线套在一起,真空室外形如一个U形磁铁以其中心轴线回转而成的回转体,真空室的开口端,安装有板材的转架移动门,门载于小车并在轨道上移动,出入真空室,大钟罩左右上部沿圆柱母线分别安...
  • 一种无弧斑的真空电弧等离子体蒸发离化源,在真空度10-10↑[-3]Pa的范围内,在各种气体气氛下,采用圆形断面的圆柱形阴极,辅助阳极设置在阴极周围,在直流工作电流100-2000A,工作电压10-40V,连续可调情况下,在阴极断面上,...
  • 一种金属带材镀膜过程中,提高膜层与金属带材间结合力、降低金属带材表面工艺温度的方法,主要采用离子束清洗和采用溅射或多弧沉积获得中间过渡层相结合的方法。
  • 本发明为使用阴极电弧离子镀技术对锡焊湿润性的处理方法,是阴极电弧离子镀技术的一个新的应用领域,锡焊湿润性的一个新的处理方法。需要把零部件待锡焊的表面预先镀一层锡焊湿润性好的金属材料薄膜,使该表面呈现良好的锡焊湿润性,从而可通过锡焊工艺实...
  • 一种采用程控复合磁场,即按设定程序调整的电磁场和永久磁场叠加成的程控复合磁场,来控制圆形阴极表面上弧斑运动轨迹的蒸发离化源。
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