【技术实现步骤摘要】
一种用于分子束外延生产中衬底的清洗槽
本技术涉及半导体制造
，具体涉及一种用于分子束外延生产中衬底的清洗槽。
技术介绍
在分子束外延生产中，在将衬底片放入分子束外延设备中进行外延生长之前，需要通过特定的化学溶液来对衬底片进行清洗，以除去衬底片表面的各种污染物。在常规的生产中，为了提高衬底片清洗效率，通常将数十片(例如，25片)衬底片放置于一个片槽中，然后将整个片槽置于容纳有特定的化学溶液的清洗槽中进行清洗。清洗完毕之后，由操作人员搬动清洗槽以将其中的化学溶液倒入废液储液罐中。由于清洗槽通常由一定厚度的聚四氟乙烯制成，并且清洗衬底片时所容纳的化学溶液需要淹没片槽，因而清洗槽和化学溶液的总重量通常会达到数十千克。因此，在清洗完衬底片之后，操作人员搬动清洗槽以清理其中的化学溶液是非常耗力并且不方便的。
技术实现思路
本技术的目的在于，针对上述现有技术的不足，提供一种用于分子束外延生产中衬底的清洗槽，以解决清洗槽中废液的清理问题。为实现上述目的，本技术采用的技术方案如下：本技术提...
【技术保护点】
1.一种用于分子束外延生产中衬底的清洗槽，其特征在于，用于容纳化学溶液以对所述衬底进行清洗，所述清洗槽包括槽壁和槽底，在所述槽壁的壁体内部设置有连通所述清洗槽内部与外部的通道，所述清洗槽上形成有位于所述清洗槽内部靠近所述槽底的位置处的第一出口和位于所述清洗槽外部靠近所述槽底的位置处的第二出口，所述第二出口所处的水平高度低于所述第一出口所处的水平高度，所述通道包括第一子通道和第二子通道，所述第一子通道与所述第二子通道在所述壁体内部的距所述槽底的上表面预定高度的位置处连通，所述第一子通道与所述第一出口连通，并且所述第二子通道与所述第二出口连通。/n
【技术特征摘要】
1.一种用于分子束外延生产中衬底的清洗槽，其特征在于，用于容纳化学溶液以对所述衬底进行清洗，所述清洗槽包括槽壁和槽底，在所述槽壁的壁体内部设置有连通所述清洗槽内部与外部的通道，所述清洗槽上形成有位于所述清洗槽内部靠近所述槽底的位置处的第一出口和位于所述清洗槽外部靠近所述槽底的位置处的第二出口，所述第二出口所处的水平高度低于所述第一出口所处的水平高度，所述通道包括第一子通道和第二子通道，所述第一子通道与所述第二子通道在所述壁体内部的距所述槽底的上表面预定高度的位置处连通，所述第一子通道与所述第一出口连通，并且所述第二子通道与所述第二出口连通。
2.根据权利要求1所述的用于分子束外延生产中衬底的清洗槽，其特征在于，所述第一子通道与所述第二子通道在所述壁体内部分别沿垂直于所述槽底的方向延伸。
3.根据权利要求1所述的用于分子束外延生产中衬底的清洗槽，其特征在于，所述第一出口位于所述槽底的上表面处，所述第一出口的开口方向与所述槽底的上表面所在平面垂直。
4.根据权利要求1所述的用于分子束外延生产中衬底的清洗槽，其特征在于，所述第二出口位于所述槽底侧壁上靠近所述槽底的下表面的位置处，所述第二出口的开口方向与所述槽底的下表面所在平面之间的夹角为锐角。
...
【专利技术属性】
技术研发人员：冯巍，谢小刚，
申请(专利权)人：新磊半导体科技苏州有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32
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