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本实用新型提供一种用于分子束外延生产中衬底的清洗槽，涉及半导体制造技术领域。该清洗槽包括槽壁和槽底，在槽壁的壁体内部设置有连通清洗槽内部与外部的通道，清洗槽上形成有位于槽内部靠近槽底位置处的第一出口和位于槽外部靠近槽底位置处的第二出口，第二...
该专利属于新磊半导体科技(苏州)有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过新磊半导体科技(苏州)有限公司授权不得商用。

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