【技术实现步骤摘要】
硅片清洗花篮齿杆
本技术涉及硅片清洗器具领域,具体是一种硅片清洗花篮齿杆。
技术介绍
半导体器件生产中硅片须经严格清洗,因为微量污染会导致器件失效,清洗的目的在于清除表面污染杂质,包括有机物和无机物;这些杂质有的以原子状态或离子状态,有的以薄膜形式或颗粒形式存在于硅片表面。有机污染包括光刻胶、有机溶剂残留物、合成蜡和人接触器件、工具、器皿带来的油脂或纤维;无机污染包括重金属金、铜、铁、铬等,严重影响少数载流子寿命和表面电导:碱金属如钠等,引起严重漏电;颗粒污染包括硅渣、尘埃、细菌、微生物、有机胶体纤维等,会导致各种缺陷。清除污染的方法有物理清洗和化学清洗两种。在对硅片进行清洗时,使用硅片清洗花篮,清洗花篮的插槽有利于将硅片均匀分开,不发生粘连。另外由于在清洗过程中,为了防止硅片上部发生形变而粘连在一起,现有硅片清洗花篮中在花篮的顶部设置有上部齿杆,现有齿杆大多为菱形,菱形的齿杆易在硅片表面形成齿痕印,造成硅片的成品率低。
技术实现思路
本技术要解决的技术问题是:解决传统的硅片清洗花篮齿杆会对硅片造成损坏的技术 ...
【技术保护点】
1.一种硅片清洗花篮齿杆,其特征在于:包括齿杆主体(1)及均匀间隔分布在所述齿杆主体(1)上的第一齿柱(2)和第二齿柱(3);/n所述第一齿柱(2)与所述第二齿柱(3)在所述齿杆主体(1)轴向投影构成半椭圆形或抛物线;/n所述齿杆主体(1)两端设有连接部(4),用于连接所述齿杆主体(1)与硅片清洗花篮。/n
【技术特征摘要】
1.一种硅片清洗花篮齿杆,其特征在于:包括齿杆主体(1)及均匀间隔分布在所述齿杆主体(1)上的第一齿柱(2)和第二齿柱(3);
所述第一齿柱(2)与所述第二齿柱(3)在所述齿杆主体(1)轴向投影构成半椭圆形或...
【专利技术属性】
技术研发人员:戴国健,
申请(专利权)人:常州市杰洋精密机械有限公司,
类型:新型
国别省市:江苏;32
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