一种用于平板式镀膜系统的硅片承载架及载板技术方案

本实用新型专利技术的一种用于平板式镀膜系统的硅片承载架，包括承载孔和承载框，承载框用以承载硅片，且包括承载水平面、承载垂直面和承载侧面；承载孔的四角均设置有倒角；承载水平面和所述承载侧面的底部通过承载垂直面连接，承载侧面由下往上逐渐向外倾斜，承载水平面与承载侧面所形成的夹角α为100‑150°。本实用新型专利技术的用于平板式镀膜系统的硅片承载架及载板，避免了硅片与载板的面接触，减少了载板对硅片表面的污染，实现了硅片的良好受热，硅片被加热的更快，防止绕镀现象，硅片载板稳定性好，易于取放硅片。

A kind of wafer carrier and carrier for flat plate coating system

【技术实现步骤摘要】
一种用于平板式镀膜系统的硅片承载架及载板
本技术涉及光伏设备领域，更具体地说，涉及一种用于平板式镀膜系统的硅片承载架及载板。
技术介绍
太阳能电池是光伏发电核心器件，在太阳能电池生产过程中，硅片放置在载板上，由载板承载进入太阳能电池镀膜设备，在设备中进行工艺制程反应，工艺制程中会生成氧化铝及氮化硅等物质，该物质附着能力较强，普通材料的载板被附着后难以清洗。同时，工艺制程的过程，腔室加热到400℃高温，最高达到600℃，在高温的环境中，载板受热变形也是一技术难题，变形过大，导致工艺效果差，产品性能不达标。电池镀膜设备输送线之间跨度大，传输系统由于结构受限，同时基于成本考虑，无法做到大功率、高扭矩，这样导致传输系统不能承受较重的载板，所以硅片载板的材料及结构是一大挑战。载板既要尺寸大、重量轻、热变形小、强度高、刚性好。此外，硅片在制程工艺中，硅片需要被加热，底部遮挡严重则加热时间长，热量大部分被载板带走，能耗高且不利于硅片的受热。申请号为201621385774.1的中国技术专利提供了一种斜承载面碳纤维载板，是对板式PECVD工艺中的硅片载本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于平板式镀膜系统的硅片承载架，其特征在于，包括承载孔和承载框，所述承载框用以承载硅片，且包括承载水平面、承载垂直面和承载侧面；所述承载孔的四角均设置有倒角；/n所述承载水平面和所述承载侧面的底部通过所述承载垂直面连接，所述承载侧面由下往上逐渐向外倾斜，所述承载水平面与所述承载侧面所形成的夹角α为100-150°。/n

【技术特征摘要】
1.一种用于平板式镀膜系统的硅片承载架，其特征在于，包括承载孔和承载框，所述承载框用以承载硅片，且包括承载水平面、承载垂直面和承载侧面；所述承载孔的四角均设置有倒角；
所述承载水平面和所述承载侧面的底部通过所述承载垂直面连接，所述承载侧面由下往上逐渐向外倾斜，所述承载水平面与所述承载侧面所形成的夹角α为100-150°。


2.如权利要求1所述的用于平板式镀膜系统的硅片承载架，其特征在于，所述承载垂直面...

【专利技术属性】
技术研发人员：何振杰，
申请(专利权)人：杭州海莱德智能科技有限公司，
类型：新型
国别省市：浙江;33