一种刻蚀机的翻片机构及刻蚀机的运输装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种刻蚀机的翻片机构及刻蚀机的运输装置，该翻片机构包括翻板、转轴和驱动件，翻板上设有多个翻片槽，转轴穿设在翻板上，驱动件与转轴相连，驱动件可驱动转轴转动。本实用新型专利技术的刻蚀机的翻片机构，采用翻板结构实现对硅片的翻片，简化了翻片机构的结构，降低了翻片机构的制造成本。此外，在翻片过程中没有直接作用在硅片上的吸力，既能够降低硅片的碎片几率，又降低了硅片受到污染的可能。

A turning mechanism of the etcher and the transport device of the etcher

【技术实现步骤摘要】
一种刻蚀机的翻片机构及刻蚀机的运输装置
本技术涉及光伏设备
，尤其涉及一种刻蚀机的翻片机构及刻蚀机的运输装置。
技术介绍
晶硅电池对工艺环境要求较高，当硅片加工完成后通常采用皮带进行运输，但皮带会对硅片抛光面造成污染。因此，在硅片刻蚀完成后需要采用翻片机构对硅片进行翻转，使非抛光面与皮带接触，避免皮带污染硅片的抛光面。现有翻片机机构采用吸盘式翻片结构，吸盘固定在旋转臂顶部电机驱动旋转臂进行翻转。工作时，吸盘接入压缩空气以吸住硅片，电机驱动旋转臂旋转，当硅片翻转到下料皮带上，吸盘内不再通入压缩空气，硅片即可被皮带运输至下一个工位。现有的翻片机构具有以下缺点：1、压缩空气的吸力会对硅片造成损伤，从而导致硅片的碎片几率很高，并且由于多晶硅片的本身材料性质低于单晶硅片，当翻转的硅片是多晶硅片时，碎片的几率会更大；2、吸盘在工作一段时间后会吸附大量环境中的污染物，对硅片造成污染；3、使用吸盘作为保持硅片的装置，需要额外配置气瓶和气体输送管道等附加结构，提升了翻片机构的生产成本。
技术实现思路
本技术的一个目的在于提出一种刻蚀机的翻片机构，该翻片机构的结构简单，制造成本较低，且能够较好地降低翻片过程的碎片几率以及污染几率。本技术的另一个目的在于提出一种刻蚀机的运输装置，该运输装置能够较好降低硅片发生碎片的几率，并且能够较好地降低硅片被污染的几率。为实现上述技术效果，本技术实施例的技术方案如下：一种刻蚀机的翻片机构，包括：翻板，每个所述翻板上设有多个翻片槽；转轴，所述转轴穿设在所述翻板上；驱动件，所述驱动件与所述转轴相连，所述驱动件能够驱动所述转轴转动以带动所述翻板转动。在一些实施例中，所述翻板为两个，两个所述翻板间隔设置，两个所述翻板之间的间距小于硅片的宽度。在一些实施例中，所述翻板包括：缓冲环，所述缓冲环套设在所述转轴上；扇形片，所述扇形片为多个，多个所述扇形片沿所述缓冲环的周向均匀间隔分布，相邻两个所述扇形片之间的间隙形成为所述翻片槽。在一些可选的实施例中，每个所述扇形片在周向方向的两个侧壁上均设有防滑层。在一些可选的实施例中，所述缓冲环和所述扇形片均为塑料件。在一些可选的实施例中，所述扇形片的厚度为2mm-4mm。在一些可选的实施例中，所述翻片槽的宽度为2mm-4mm。一种刻蚀机的运输装置，包括运输机构和前文所述的刻蚀机的翻片机构。在一些实施例中，所述运输机构包括传送带，所述传送带为两个，两个所述传送带间隔设置，两个所述传送带之间的距离小于两个所述翻板之间的距离，每个所述传送带的一端均位于两个所述翻板之间。在一些具体的实施例中，所述刻蚀机的运输装置还包括检测件，所述检测件位于所述传送带伸入所述两个所述翻板之间的一端的上方，所述检测件被配置为检测所述硅片是否到达所述传送带，当所述检测件检测到所述硅片到达所述传送带时，所述翻板停止转动且所述传送带开始运动。本技术的刻蚀机的翻片机构，采用翻板结构实现对硅片的翻片，简化了翻片机构的结构，降低了翻片机构的制造成本。此外，在翻片过程中没有直接作用在硅片上的吸力，既能够降低硅片的碎片几率，又降低了硅片受到污染的可能。本技术实施例的该运输装置，由于具有前文所述的刻蚀机的翻片机构，能够较好降低硅片发生碎片的几率，并且能够较好地降低硅片被污染的几率。本技术的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本技术的实践了解到。附图说明图1是本技术具体实施方式提供的刻蚀机的翻片机构的立体图。图2是本技术具体实施方式提供的刻蚀机的翻片机构的结构示意图。图3是本技术具体实施方式提供的刻蚀机的运输装置的结构示意图。图4是本技术具体实施方式提供的刻蚀机的运输装置的另一结构示意图。附图标记：1、翻板；11、扇形片；111、翻片槽；112、防滑层；12、缓冲环；2、转轴；3、传送带。具体实施方式为使本技术解决的技术问题、采用的技术方案和达到的技术效果更加清楚，下面结合附图并通过具体实施方式来进一步说明本技术的技术方案。在本技术的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。此外，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征，用于区别描述特征，无顺序之分，无轻重之分。在本技术的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。在本技术的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。下面参考图1-图4描述本技术实施例的一种刻蚀机的翻片机构的具体结构。如图1-图2所示，本技术实施例的刻蚀机的翻片机构包括翻板1、转轴2和驱动件，翻板1上设有多个翻片槽111，转轴2穿设在翻板1上，驱动件与转轴2相连，驱动件能够驱动转轴2转动以带动翻板1转动。可以理解的是，在实际使用过程中，当加工完毕的硅片运动到翻片机构处时，硅片落入翻片槽111内。也就是说，翻板1能够起到支撑硅片的作用。当硅片落入翻片槽111内之后，驱动件驱动转轴2转动，从而带动翻板1转动，当翻板1转动过一定角度后硅片即可被翻片，然后再由运输机构运输至下一个工位。本技术的刻蚀机的翻片机构，采用翻板1结构实现对硅片的翻片，简化了翻片机构的结构，降低了翻片机构的制造成本。此外，在翻片过程中没有直接作用在硅片上的吸力，既能够降低硅片的碎片几率，又降低了硅片受到污染的可能。在一些实施例中，翻板1为两个，两个翻板1间隔设置，两个翻板1之间的间距小于硅片的宽度。可以理解的是，当翻板1只有一个时，为了保证翻板1能够稳定地承接硅片，需要将这个翻板1的厚度设置的较厚，这样增加了翻板1的重量，提升了翻板1运输与安装难度，提升了翻板1的制造成本。而在本实施例中，翻板1为间隔设置的两个，采用两个翻板1承接硅片不但能够提升硅片的稳定性，还能减小翻板1的厚度，从而降低翻板1的运输与装配难度，降低翻板1的生产成本。在一些实施例中，如图2所示，翻板1包括缓冲环12和扇形片11本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种刻蚀机的翻片机构，其特征在于，包括：/n翻板(1)，所述翻板(1)上设有多个翻片槽(111)；/n转轴(2)，所述转轴(2)穿设在所述翻板(1)上；/n驱动件，所述驱动件与所述转轴(2)相连，所述驱动件能够驱动所述转轴(2)转动以带动所述翻板(1)转动。/n

【技术特征摘要】
1.一种刻蚀机的翻片机构，其特征在于，包括：
翻板(1)，所述翻板(1)上设有多个翻片槽(111)；
转轴(2)，所述转轴(2)穿设在所述翻板(1)上；
驱动件，所述驱动件与所述转轴(2)相连，所述驱动件能够驱动所述转轴(2)转动以带动所述翻板(1)转动。


2.根据权利要求1所述的刻蚀机的翻片机构，其特征在于，所述翻板(1)为两个，两个所述翻板(1)间隔设置，两个所述翻板(1)之间的间距小于硅片的宽度。


3.根据权利要求1所述的刻蚀机的翻片机构，其特征在于，所述翻板(1)包括：
缓冲环(12)，所述缓冲环(12)套设在所述转轴(2)上；
扇形片(11)，所述扇形片(11)为多个，多个所述扇形片(11)沿所述缓冲环(12)的周向均匀间隔分布，相邻两个所述扇形片(11)之间的间隙形成为所述翻片槽(111)。


4.根据权利要求3所述的刻蚀机的翻片机构，其特征在于，每个所述扇形片(11)在周向方向的两个侧壁上均设有防滑层(112)。


5.根据权利要求3所述的刻蚀机的翻片机构，其特征在于，所述缓冲环(...

【专利技术属性】
技术研发人员：朱纹哲，闫鹏飞，刘龙杰，费正洪，
申请(专利权)人：盐城阿特斯协鑫阳光电力科技有限公司，阿特斯阳光电力集团有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32