一种激光辅助镀金刚石薄膜的工艺装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种激光辅助镀金刚石薄膜的工艺装置，其中主要由激光发射器、透镜、石英窗口、工艺气进气管、光束阻挡器、衬底、衬底支架、抽气阀门、外接真空系统、水冷系统和镀膜腔体组成。所述激光发射器位于镀膜腔体正上方，通过透镜和石英窗口将激光光束引入镀膜腔体内部，工艺气体在激光激发的作用下等离子化，经过等离子化的气体溅射到基材上，使基材表面上形成等离子体羽辉，从而形成金刚石薄膜。本实用新型专利技术是通过改变反应气体的介质和流量比，实现SP2和SP3型金刚石复合化和纳米化。本实用新型专利技术采用激光激发镀膜沉积速度可提高10～100倍，甚至更高，在高技术和各种工业领域有着十分广阔的应用前景。

A laser-assisted diamond film plating device

【技术实现步骤摘要】
一种激光辅助镀金刚石薄膜的工艺装置
本技术涉及镀金刚石薄膜
，具体涉及一种激光辅助镀金刚石薄膜的工艺装置。
技术介绍
金刚石薄膜由于其在力学、热学、光学及电学等方面具有极其优异的特性，在高技术和各种工业领域有着十分广阔的应用前景。80年代以来，气相合成金刚石薄膜的研究取得很大进展，相继建立了多种金刚石薄膜生长的方法。其中，是化学气相沉积法发展迅速，生长的金刚石薄膜的质量较高。激光辅助化学气相法是一种新型的化学气相沉积法。由于激光诱导化学反应的选择性,激光辅助法不仅具有低温、低损伤、低淀积气压、堆积速度高、膜均匀等优点，而且气相反应产物简单，生长条件易控制，有利于快速推广等特点，但目前并没有一款结构简单、操作方便的相关设备。因此开发简单易行的一种激光辅助镀金刚石薄膜的工艺装置已非常必要。
技术实现思路
为克服上述存在之不足，本技术的专利技术人通过长期的探索尝试以及多次的实验和努力，不断改革与创新，提出了一种激光辅助镀金刚石薄膜的工艺装置,其镀膜效率高，镀膜质量好，需要的设备简单，容易操作，费用低。r>为实现上述目的本本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种激光辅助镀金刚石薄膜的工艺装置，其特征在于：包括激光发射器(1)、透镜(2)、石英窗口(3)、工艺气进气管(4)、光束阻挡器(5)、衬底(6)、衬底支架(7)、外接真空系统(9)、水冷系统(10)和镀膜腔体(11)；/n所述激光发射器(1)位于镀膜腔体(11)正上方，在镀膜腔体(11)上端安装石英窗口(3)，石英窗口(3)与镀膜腔体(11)之间设置有工艺气进气管(4)，透镜(2)安装在激光发射器(1)下端，通过透镜(2)和石英窗口(3)将激光光束引入镀膜腔体(11)内部；/n在镀膜腔体(11)内部安装光束阻挡器(5)、衬底(6)和衬底支架(7)，衬底支架(7)安装在镀膜腔体(11)内底...

【技术特征摘要】
1.一种激光辅助镀金刚石薄膜的工艺装置，其特征在于：包括激光发射器(1)、透镜(2)、石英窗口(3)、工艺气进气管(4)、光束阻挡器(5)、衬底(6)、衬底支架(7)、外接真空系统(9)、水冷系统(10)和镀膜腔体(11)；
所述激光发射器(1)位于镀膜腔体(11)正上方，在镀膜腔体(11)上端安装石英窗口(3)，石英窗口(3)与镀膜腔体(11)之间设置有工艺气进气管(4)，透镜(2)安装在激光发射器(1)下端，通过透镜(2)和石英窗口(3)将激光光束引入镀膜腔体(11)内部；
在镀膜腔体(11)内部安装光束阻挡器(5)、衬底(6)和衬底支架(7)，衬底支架(7)安装在镀膜腔体(11)内底部，衬底(6)安装在衬底支架(7)上，所述光束阻挡器(5)位于衬底(6)与衬底支架(7)之间；
所述外接真空系统(9)和水冷系统(10)安装在镀膜腔体(11)外，水冷系统(10)与衬底(6)连接，所述外接真空系统(9)与镀膜腔体(11)连通保持镀膜腔体(11)内的真空度。


2.根据权利要求1所述的一种激光辅助镀金刚石薄膜的工艺装置，其特征在于，所述镀膜腔体(11)外可以同时设置两个或两个以上的激光发射器(1)，激发不同频率激光。


3.根据权利要求1所述的一种激光辅助镀金刚石薄膜的工艺装置，其特征在于，所述工艺气进气管(4)处的进气为甲烷或乙炔...

【专利技术属性】
技术研发人员：卢国东，蔡茜，
申请(专利权)人：杭州玄和科技有限公司，
类型：新型
国别省市：浙江;33