【技术实现步骤摘要】
一种高导热石墨膜及其制备方法和应用
本专利技术属于石墨膜
,更具体地,涉及一种高导热石墨膜及其制备方法和应用。
技术介绍
随着先进电子及光电产品向着高速、高频率、小型化、轻量化发展,对微电子元器件和功率器件集成度要求越来越高,同时元器件性能的提高使电流密度和热流密度大幅提高,电子器件的发热问题也日渐严重,微电子、光电系统载体材料面临严峻挑战,传统金属(银、铜、铝等)散热材料密度大、热导率较低(特别在微米尺度时下降严重)、热膨胀系数高,已很难满足散热要求,因此对于具有高性能高导热率载体材料的需求也愈来愈大。与金属材料相比,石墨和石墨烯材料具有低密度、低热膨胀系数和较高的热导率等优点,是近年来最具发展前景的导热材料。石墨(002)层面理论热导率2500W/(m·K),甚至大于世界上最好的热沉材料--金刚石(2000W/(m·K)),但实际石墨材料因片层取向混杂、晶体缺陷、晶界/界面等因素,热导率大大下降,一般石墨材料的常温热导率仅70~150W/(m·K)左右,如何获得石墨片层定向排列、结晶好、缺陷少的微观组织结构,是人工 ...
【技术保护点】
1.一种高导热石墨膜,其特征在于,所述石墨膜是在保护气氛和在干燥环境下,将二胺单体和二酐单体溶于非质子极性溶液中,在冰水浴条件下反应,制得前驱体聚酰胺酸溶液;聚酰胺酸溶液经酰亚胺化反应后,制得聚酰亚胺薄膜,然后对聚酰亚胺薄膜在600~900℃进行炭化,将炭化聚酰亚胺薄膜夹在两块抛光的石墨板中间,在保护气氛下,升温至2000~2800℃进行石墨化处理制得。/n
【技术特征摘要】
1.一种高导热石墨膜,其特征在于,所述石墨膜是在保护气氛和在干燥环境下,将二胺单体和二酐单体溶于非质子极性溶液中,在冰水浴条件下反应,制得前驱体聚酰胺酸溶液;聚酰胺酸溶液经酰亚胺化反应后,制得聚酰亚胺薄膜,然后对聚酰亚胺薄膜在600~900℃进行炭化,将炭化聚酰亚胺薄膜夹在两块抛光的石墨板中间,在保护气氛下,升温至2000~2800℃进行石墨化处理制得。
2.根据权利要求1所述的高导热石墨膜,其特征在于,所述石墨膜的厚度为16~18μm,所述石墨膜的尺寸为(9~11)mm×(19~21)mm;所述石墨膜在面内方向的导热系数为1400~1500W/m·K。
3.根据权利要求1所述的高导热石墨膜,其特征在于,所述聚酰胺酸薄膜的厚度为150~200μm,所述聚酰亚胺薄膜的厚度为40~50μm。
4.根据权利要求1所述的高导热石墨膜,其特征在于,所述二胺单体和二酐单体的摩尔比为1:(1~1.02);所述二胺单体、二酐单体和非质子极性溶液的质量比为1:(1.08~1.1):(18~19)。
5.根据权利要求1所述的高导热石墨膜,其特征在于,所述二胺单体为4,4'-二氨基二苯醚或对苯二胺;所述二酐单体为均苯四甲酸酐或联苯四甲酸二酐,所述非质子极性溶液为二甲基乙酰胺或N-甲基吡咯烷酮。
6.根据权利要求1-5任一项所述的高导热石墨膜的制备方法,其特征在于,包括如下具体步骤:
S1.在保护气氛和在干燥环境下,将二胺单体加入非质子极性溶液中,高速搅拌时加入二酐单体和非质子极性溶液,将上述混合物置于-5~-15℃冰水中搅拌,缩合聚合反应得到前驱体聚酰胺酸溶液;
S2.将前驱体聚酰胺酸溶液旋涂在干燥的单晶硅片上,在干燥氮气流下70~80℃干燥,在单晶硅片上制得聚酰胺酸薄...
【专利技术属性】
技术研发人员:王启民,陈子豪,张腾飞,
申请(专利权)人:广东工业大学,
类型:发明
国别省市:广东;44
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