有机发光二极管器件及其制作方法技术

技术编号:23769931 阅读:52 留言:0更新日期:2020-04-11 22:32
本发明专利技术提供一种有机发光二极管器件及其制作方法。有机发光二极管器件的一种制作方法包括步骤:提供阵列基板、制作发光层、制作第一无机层、制作可剥离膜、制作有机层、制作第二无机层以及剥离所述可剥离膜。有机发光二极管器件包括层叠设置的阵列基板、发光层、第一无机层、有机层以及第二无机层;所述第二无机层的边缘齐平。本发明专利技术通过在原子层沉积技术制作第二无机层过程之前设置可剥离膜,并在制作完成第二无机层后剥离所述可剥离膜,用于使所述第二无机层的边缘齐平,避免了在第二无机层边缘区域会形成不均匀的边界的现象,使得第二无机层的覆盖性更好,提升了成膜效果和封装效果。

Organic light-emitting diode device and its fabrication method

【技术实现步骤摘要】
有机发光二极管器件及其制作方法
本专利技术涉及显示领域,尤其涉及一种有机发光二极管器件及其制作方法。
技术介绍
由于目前市场柔性显示设备的需求日益增加,柔性封装技术愈发受到市场欢迎,对柔性有机发光二极管(OLED)器件进行有效封装的需求也愈发迫切。另外,现有封装层结构一般采用第一无机层,有机层和第二无机层交叠的形式。其中原子层沉积技术(ALD)可用于制作纳米级别的无机层,由于成膜厚度均匀性好、成膜质量高、低温沉积、适应性好等优势而被广泛应用于薄膜封装工艺领域。如图1所示,为现有的一种有机发光二极管器件在制作完成时的结构示意图,有机发光二极管器件90包括层叠设置的阵列基板91、发光层92和封装层93。所述封装层93包括从下至上依次层叠设置的第一无机层931、有机层932和第二无机层933。掩模板94设置于所述第二无机层933两侧,所述第二无机层933是借由原子层沉积技术制作成型。由于原子层沉积技术在制作第二无机层933过程中,掩模板94与阵列基板91之间存在间隙,不可避免会导致在第二无机层933边缘区域会形成不均匀的边界,将该不均本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种有机发光二极管器件的制作方法,其特征在于,包括步骤:/n提供一阵列基板;/n在所述阵列基板上制作发光层;/n在所述发光层上制作第一无机层,所述第一无机层完全包覆所述发光层且设于所述阵列基板上;/n在所述阵列基板上环绕所述第一无机层的边缘制作可剥离膜,用于界定封装区域;/n在所述第一无机层上制作有机层;/n在所述有机层上且在所述封装区域内制作第二无机层,所述第二无机层覆盖所述第一无机层;以及/n剥离所述可剥离膜及扩散至所述可剥离膜上的第二无机层,用于使所述第二无机层的边缘齐平。/n

【技术特征摘要】
1.一种有机发光二极管器件的制作方法,其特征在于,包括步骤:
提供一阵列基板;
在所述阵列基板上制作发光层;
在所述发光层上制作第一无机层,所述第一无机层完全包覆所述发光层且设于所述阵列基板上;
在所述阵列基板上环绕所述第一无机层的边缘制作可剥离膜,用于界定封装区域;
在所述第一无机层上制作有机层;
在所述有机层上且在所述封装区域内制作第二无机层,所述第二无机层覆盖所述第一无机层;以及
剥离所述可剥离膜及扩散至所述可剥离膜上的第二无机层,用于使所述第二无机层的边缘齐平。


2.根据权利要求1所述的有机发光二极管器件的制作方法,其特征在于,所述在所述第一无机层上制作有机层步骤与所述在所述阵列基板上环绕所述第一无机层的边缘制作可剥离膜用于界定封装区域步骤的制作顺序相互调换。


3.根据权利要求1所述的有机发光二极管器件的制作方法,其特征在于,所述可剥离膜通过喷墨打印方式制作。


4.根据权利要求1所述的有机发光二极管器件的制作方法,其特征在于,所述可剥离膜采用经加热处理或光照处理后粘性减弱的材料制作。


5.根据权利要求1所述的有机发光二极管器件的制作方法,...

【专利技术属性】
技术研发人员:皮兴亮马凯王杲祯
申请(专利权)人:武汉华星光电半导体显示技术有限公司
类型:发明
国别省市:湖北;42

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1