【技术实现步骤摘要】
一种次良品3DNAND降容使用的方法
本专利技术属于存储芯片加工领域,具体涉及一种次良品3DNAND降容使用的方法。
技术介绍
3DNAND产品的容量大,晶圆的价格高,特别是在做多叠芯片的时候,若封装过程中任何一层芯片报废就会导致整颗产品报废,影响其它叠层芯片。一般WB过程中打线异常,都会做报废处理。鉴于多叠芯片的线路连线,层与层之间为并联通道关系,读写数据不会互相干扰,通常一层芯片报废,整颗产品仍可降低容量使用,而现有处理方式造成的浪费较大。
技术实现思路
本专利技术的目的在于针对上述现有技术对次良品3DNAND直接报废所造成的浪费较大的问题,提供一种次良品3DNAND降容使用的方法,减少部分芯片不良对晶圆造成的浪费。为了实现上述目的,本专利技术有如下的技术方案,包括以下步骤:步骤一、在封装过程中,检测出次良品3DNAND;步骤二、对次良品3DNAND进行标记,在系统中输入次良品缺陷项目与数量;步骤三、将次良品3DNAND后流,降容处理并进行降容测试;步骤四、按照 ...
【技术保护点】
1.一种次良品3D NAND降容使用的方法,其特征在于,包括以下步骤:/n步骤一、在封装过程中,检测出次良品3D NAND;/n步骤二、对次良品3D NAND进行标记,在系统中输入次良品缺陷项目与数量;/n步骤三、将次良品3D NAND后流,降容处理并进行降容测试;/n步骤四、按照次良品3D NAND的不同容量进行包装出货。/n
【技术特征摘要】
1.一种次良品3DNAND降容使用的方法,其特征在于,包括以下步骤:
步骤一、在封装过程中,检测出次良品3DNAND;
步骤二、对次良品3DNAND进行标记,在系统中输入次良品缺陷项目与数量;
步骤三、将次良品3DNAND后流,降容处理并进行降容测试;
步骤四、按照次良品3DNAND的不同容量进行包装出货。
2.根据权利要求1所述次良品3DNAND降容使用的方法,其特征在于:所述次良品3DNAND的缺陷包括封装过程造成的部分芯片损伤、连线缺失或者产品表面残次;
所述的次良品3DNAND为多叠芯片,各层芯片之间的线路为并连关系,互不干扰,所出现的缺陷仅导致该层芯片电性能失效,出现容量缺失,其它层芯片无异常。
3.根据权利要求1所述次良品3DNAND降容使用的方法,其特征在于:步骤二所述的系统为MES系统,次良品缺陷项目以代码的形式手动输入到系统当中。
4.根据权利要求1所述次良品3DNAND降容使用的方法,其特征在于:步骤二对次良品3DNAND检测发现的缺陷在基板map标识单上使用规定符号标识对应基板位置的缺陷,通过系统将不同缺陷的次良品3DNAND进行区分,步骤三将区分开的次良品分开测试容量。
5.根据权利要求1所述次良品3DNAND降容使用的方法,其特征在于,所述次良品3DNAND降容测试过程中由测试软件界面根据容量选择测试产品,测出其降容后的真实容量。
6.根据权利要求1所述次良品3DNAND降容使用的方法,其特征在于,对次良品3DNAND进行检测时先机检再目检单独区分,机检过程中先选择良品进行设备影像校读识别,作...
【专利技术属性】
技术研发人员:李凯,
申请(专利权)人:华天科技西安有限公司,
类型:发明
国别省市:陕西;61
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