一种全介质偏振无关全内反射光栅及其制作方法技术

本发明专利技术公开了一种全介质偏振无关全内反射光栅及其制作方法，属于反射光栅技术领域，能够解决现有反射光栅刻蚀深度较大，生产成品率较低的问题。所述反射光栅包括基底、平板波导层和光栅层。基底引导入射光进入平板波导层，并使出射光射出；平板波导层设置在基底上，调节偏振方向平行于光栅槽型的入射光的衍射效率；光栅层设置在平板波导层上，调节偏振方向垂直于光栅槽型的入射光的衍射效率。本发明专利技术可以使TE光和TM光在‑1级利特罗角入射条件下，理论上同时具有99％以上的衍射效率，在实际应用中同时具有95％以上的衍射效率。

An all dielectric polarization independent total internal reflection grating and its fabrication method

【技术实现步骤摘要】
一种全介质偏振无关全内反射光栅及其制作方法
本专利技术涉及反射光栅
，尤其是涉及一种全介质偏振无关全内反射光栅及其制作方法。
技术介绍
光波分复用一般应用波长复用器和解复用器分别置于光纤两端，实现不同光波的耦合与分离。栅型光波分复用器是利用色散原理，使入射的多个不同波长的光聚集为复合光；或者使入射的多波长复合光分散为各个波长分量的光，含有多波长的光信号入射聚焦在光栅上，由于光栅对不同波长光的衍射角不同，因此把复合光信号分解成不同波长的光信号，再经透镜聚焦后分别注入每根输出光纤上。用于光通信的波分复用和解复用的色散元件大部分是金属光栅，但是金属光栅只能对TM光(光偏振方向垂直于光栅槽型)实现高衍射效率，对TE光(光偏振方向平行于光栅槽型)的衍射效率很低。目前，现有技术中通过全介质偏振无关的透射光栅或反射光栅实现波分复用和解复用技术，这种光栅是通过将光栅层嵌入到基底材料中，通过优化光栅层的刻蚀深度和宽度，形成对称布局，从而抑制反射，理论上可以达到TE光和TM光在-1级利特罗角入射条件下100％的衍射效率，降低了光栅的插入损耗。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种全介质偏振无关全内反射光栅，其特征在于，包括基底、平板波导层和光栅层；/n所述基底，用于引导入射光进入所述平板波导层，并使出射光射出；/n所述平板波导层，设置在所述基底上，用于调节偏振方向平行于光栅槽型的入射光的衍射效率，所述平板波导层的厚度T

【技术特征摘要】
1.一种全介质偏振无关全内反射光栅，其特征在于，包括基底、平板波导层和光栅层；
所述基底，用于引导入射光进入所述平板波导层，并使出射光射出；
所述平板波导层，设置在所述基底上，用于调节偏振方向平行于光栅槽型的入射光的衍射效率，所述平板波导层的厚度Ts小于1μm；
所述光栅层，设置在所述平板波导层上，用于调节偏振方向垂直于光栅槽型的入射光的衍射效率。


2.根据权利要求1所述的全介质偏振无关全内反射光栅，其特征在于，所述全介质偏振无关全内反射光栅满足以下条件：
Np＞Npsinθi＝λ/2Λ＞1
其中：Np表示基底材料的折射率；
θi表示基底内入射光的入射角；
λ表示入射光的波长；
Λ表示光栅周期。


3.根据权利要求2所述的全介质偏振无关全内反射光栅，其特征在于，所述基底材料的折射率Np为1.45-2.0。


4.根据权利要求1所述的全介质偏振无关全内反射光栅，其特征在于，所述平板波导层的折射率Ns为1.2-3.0。


5.根据权利要求1所述的全...

【专利技术属性】
技术研发人员：张新彬，陈怀熹，李广伟，冯新凯，古克义，梁万国，黄玉宝，
申请(专利权)人：中国科学院福建物质结构研究所，
类型：发明
国别省市：福建;35