一种用于吸收抑制激光杂散光的光陷阱制造技术

本发明专利技术公开了一种用于吸收抑制激光杂散光的光陷阱。该光陷阱包括反射体，反射体上开设有一个截面为锥形的反射腔；反射腔对入射光的吸收率为ε＞95％；反射腔的锥度为2α；其中，8°＜α≤16.36°；反射体的杂光抑制比为：

A light trap for absorbing and suppressing laser stray light

【技术实现步骤摘要】
一种用于吸收抑制激光杂散光的光陷阱
本专利技术涉及一种用于吸收抑制激光杂散光的光陷阱，该光陷阱可用于激光通信、激光雷达等主动激光探测光学系统中抑制降低发射激光对探测器的干扰影响，提高主动激光探测光学系统的收发隔离度。
技术介绍
主动激光探测系统(如激光通信系统、激光雷达系统等)发射的激光功率比接收到的激光功率高很多，一些高灵敏度系统的发射激光功率与接收激光功率之比甚至可高达1010量级。如此高功率的发射激光束造成杂光很容易淹没接收光功率，使系统无法正常工作。如图1所示为一种常见的发射激光束杂光路径。发射通道发射的激光有部分能量通过分光镜打在了结构机械壁上，其中一部分光被机械壁散射通过分光镜到达了接收通道形成杂散光。通常减小这种杂光的方式是对机械壁上进行消杂光处理，常用消杂光处理方法有：1)黑色阳极化；2)喷涂消光漆；3)粘贴黑色天鹅绒等。这些消杂光处理方法的本质是提高机械壁的吸收率，但这些方法的杂光抑制比(出射光能量与入射光能量之比)很难达到1E-4量级，难以满足高灵敏度系统对杂光抑制能力的要求。
技术实现思路
为了解决背景本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于吸收抑制激光杂散光的光陷阱，其特征在于：包括反射体，反射体上开设有一个截面为锥形的反射腔；反射体对入射光每次反射的吸收率ε＞95％；/n反射腔的锥度为2α；其中，8°＜α≤16.36°；/n反射体的杂光抑制比为：

【技术特征摘要】
1.一种用于吸收抑制激光杂散光的光陷阱，其特征在于：包括反射体，反射体上开设有一个截面为锥形的反射腔；反射体对入射光每次反射的吸收率ε＞95％；
反射腔的锥度为2α；其中，8°＜α≤16.36°；
反射体的杂光抑制比为：nmax为反射腔对光的最大反射次数。


2.根据权利要求1所述的用于吸收抑制激光杂散光的光陷阱，其特征在于：反射腔为一个圆锥形腔室。


3.根据权利要求1所述的用于吸收抑制激光杂散光的光陷阱，其特征在于：反射腔为由两个相交的，且倾斜角相同的斜面构成，斜面的倾斜角为α。


4.根据权利要求1或2或3所述的用于吸收抑制激光杂散光的光陷阱，其特征在于：所述反射腔对光的最大反射次数nmax的具体计算公式为：nmax＝...

【专利技术属性】
技术研发人员：赵意意，杨建峰，薛彬，贺应红，徐广州，相萌，马小龙，吕娟，于基睿，
申请(专利权)人：中国科学院西安光学精密机械研究所，
类型：发明
国别省市：陕西;61