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本发明公开了一种全介质偏振无关全内反射光栅及其制作方法，属于反射光栅技术领域，能够解决现有反射光栅刻蚀深度较大，生产成品率较低的问题。所述反射光栅包括基底、平板波导层和光栅层。基底引导入射光进入平板波导层，并使出射光射出；平板波导层设置在基...
该专利属于中国科学院福建物质结构研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院福建物质结构研究所授权不得商用。

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