【技术实现步骤摘要】
一种高通量分立掩膜装置
本技术涉及高通量组合材料制备系统领域，特别涉及一种高通量分立掩膜装置。
技术介绍
自21世纪初美国总统奥巴马提出启动“材料基因组工程”后，高通量组合材料制备系统(包括各种PVD和CVD系统)均引进连续掩模和分立掩模机构。其中连续掩模机构由于其结构相对简单，遇到的主要问题仅集中在由于连续掩模与基片之间存在的间隙而引起的衍射阴影效应，而分立掩模由于采用多掩模元件配合完成，要求各掩模片之间的各单元孔之间在中心位置和角度偏差上的绝对位置精度和重复定位精度均非常高。同时由于真空镀膜腔体内部部分高精度位置传感器安装不便，目前的主要定位方式采用磁流体或磁力扭矩方式将真空外部的电机扭矩通过直轴连接方式传递到真空腔体内部，通过编码器测量真空腔体外部连接轴的转向角度来确定真空内部掩模支架的转向角度，如图1所示，该方法虽然理论上可行，但是由于真空内部掩模支架回转半径大，真空腔体外部连接轴回转半径小而引起的误差放大，并且目前电机的home位的精度都很难达到分立掩模的设计要求，即便采用采用20位编码器的高精度电机也难以满足各掩...
【技术保护点】
1.一种高通量分立掩膜装置，其特征在于，包括：/n基片托架，用于放置基片，所述基片托架通过基片托架升降电机和基片托架旋转电机控制升降和旋转；/n掩膜机械臂，所述掩膜机械臂通过掩膜机械臂旋转电机控制旋转；/n掩膜支架，用于放置掩膜片，所述掩膜支架通过掩膜支架升降电机控制升降；/n所述基片托架，掩膜机械臂和掩膜支架依次置于一个真空腔体内，所述掩膜机械臂在掩膜支架和基片托架之间转动取放掩膜。/n
【技术特征摘要】 【专利技术属性】
1.一种高通量分立掩膜装置，其特征在于，包括：
基片托架，用于放置基片，所述基片托架通过基片托架升降电机和基片托架旋转电机控制升降和旋转；
掩膜机械臂，所述掩膜机械臂通过掩膜机械臂旋转电机控制旋转；
掩膜支架，用于放置掩膜片，所述掩膜支架通过掩膜支架升降电机控制升降；
所述基片托架，掩膜机械臂和掩膜支架依次置于一个真空腔体内，所述掩膜机械臂在掩膜支架和基片托架之间转动取放掩膜。
2.根据权利要求1所述的高通量分立掩膜装置，其特征在于，所述掩膜机械臂旋转电机中心到基片托架旋转电机中心的距离，与所述掩膜机械臂旋转电机中心到掩膜支架中心的距离相等。
3.根据权利要求1所述的高通量分立掩膜装置，其特征在于，所述掩膜支架还包括一个XY运动平台，用于调节掩膜支架的中心位置。
技术研发人员：余应明，郭鸿杰，鲁森钱，
申请(专利权)人：宁波星河材料科技有限公司，
类型：新型
国别省市：浙江;33
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