一种高通量电子束组合材料蒸发系统及其方法技术方案

本发明专利技术涉及真空镀膜系统领域，公开了一种高通量电子束组合材料蒸发系统及其方法。该高通量电子束组合材料蒸发系统包括：真空腔体，所述真空腔体设置为真空；电子束蒸发装置，设置于所述真空腔体下部；基片托架，设置于所述真空腔体上部，用于放置基片；连续掩膜装置和/或分立掩膜装置，设置于所述真空腔体上部，位于所述基片托架和所述电子束蒸发装置之间。本发明专利技术的高通量电子束组合材料蒸发系统，实现了高通量材料样品的制备，大大提高了组合材料样品的制备效率。品的制备效率。品的制备效率。

【技术实现步骤摘要】
一种高通量电子束组合材料蒸发系统及其方法


[0001]本专利技术涉及真空镀膜系统，特别涉及一种高通量电子束组合材料蒸发系统及其方法。

技术介绍

[0002]电子束蒸发作为真空镀膜的一种重要技术和方法，它通过电磁场控制阴极产生的电子按特定轨迹运动，加热坩埚内的被蒸发材料，使被蒸发材料在真空环境下蒸发，并沉积到基片上。但是传统的电子束蒸发系统一次只能制备一种材料成分的样品，若需要获得一组任意材料三元相图，以1％的成分分辨率计算，需要进行1003(即106)次试验，即使按每天制备30个样品计算，也需要近百年时间才能制备完成。为提高样品的制备效率，本专利技术在借鉴集成电路制造用掩模技术的基础上，将掩模技术成功应用到材料制备系统中，实现了高通量材料样品的制备，解决传统电子束蒸发系统样品制备过程效率低下问题，极大的缩短了样品的制备时间和制备成本。

技术实现思路

[0003]本专利技术的目的在于提供一种高通量电子束组合材料蒸发系统。可以实现在单个样品芯片上获得数十个到数万个成分各异的样品点，极大的缩短样品的制备时间和制备成本。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种高通量电子束组合材料蒸发系统，其特征在于，包括：真空腔体，所述真空腔体设置为真空；电子束蒸发装置，设置于所述真空腔体下部；基片托架，设置于所述真空腔体上部，用于放置基片；掩膜装置，所述掩膜装置为连续掩膜装置和/或分立掩膜装置，设置于所述真空腔体上部，位于所述基片托架和所述电子束蒸发装置之间。2.根据权利要求1所述的高通量电子束组合材料蒸发系统，其特征在于，所述连续掩膜装置包括连续掩膜和电机，所述电机驱动连续掩膜移动。3.根据权利要求1所述的高通量电子束组合材料蒸发系统，其特征在于，所述分立掩膜装置包括分立掩膜支架和电机，所述电机驱动分立掩膜支架旋转，所述分立掩膜支架用于放置分立掩膜。4.根据权利要求1所述的高通量电子束组合材料蒸发系统，其特征在于，所述真空腔体设有晶振，位于所述基片托架下方。5.根据权利要求1-4中任意一项所述的高通量电子束组合材料蒸发系统，其特征在于，所述真空腔体中间设有一隔板，所述隔板带孔，位于所述电子束蒸发装置和基片托架之间。6.根据权利要求1-4中任意一项所述的高通量电子束组合材料蒸发系统，其特征在于，所述真空腔体内设有电子源挡板，位于所述电子束蒸发装置上方，所述电子源挡板可以移动。7.根据权利要求1-4中任意一项所述的高通量电子束组合材料蒸发系统，其特征在于，所述真空腔体内设有基片挡板，位于所述基片托架下方，所述基片挡板可以移动。8.根据权利要求1-4中任意一项所述的高通量电子束组合材...

【专利技术属性】
技术研发人员：余应明，郭鸿杰，鲁森钱，
申请(专利权)人：宁波星河材料科技有限公司，
类型：发明
国别省市：