【技术实现步骤摘要】
一种适用于抛光机的抛光液及纯水供应管路
本技术属于单晶硅抛光片生产
,具体涉及一种适用于抛光机的抛光液及纯水供应管路。
技术介绍
单晶硅抛光片是IC行业的基础材料,而抛光机是生产抛光片不可或缺的主要设备之一,其中由日本FUJIKOSHI公司生产的SPM-19/23型抛光机和SPEEDFAM公司生产的SPAW50抛光机,在目前国内的单晶硅抛光片制造厂商中得到广泛使用,该型抛光机采用化学机械抛光方式实现对单晶硅片表面的抛光处理,在工作过程中必须保证化学腐蚀速率与机械去除速率完全匹配,因此抛光液/纯水的供应状态对于单晶硅抛光片(以下简称硅片)的产品质量具有极其重要的影响。抛光硅片生产过程,分为刷布、装载、抛光液抛光、纯水抛光、卸载等五阶段,刷布和纯水抛光需要纯水大流量,装载和卸载时需要纯水小流量,抛光液抛光时需要稳定的抛光液流量,抛光液/纯水通过主转盘中心管向主转盘持续供应抛光液/纯水,此时,一方面要求抛光液/纯水以工艺设定的温度、流量稳定地向主转盘供应,以保证对硅片表面化学腐蚀作用的均匀性,同时要求抛光液/纯水始终 ...
【技术保护点】
1.一种适用于抛光机的抛光液及纯水供应管路,其特征在于,包括纯水抛光系统和抛光液抛光系统和主管道(1),所述纯水抛光系统包括第一管道(2)和与所述第一管道(2)并联的第二管道(3),所述第一管道(2)上设置有大流量气动阀(4),所述第二管道(3)上设置有小流量气动阀(5),第一管道(2)和第二管道(3)上还分别设置有相配合使用的第一手动调节阀(6),纯水分别通过纯水大流量气动阀(4)和小流量气动阀(5)汇入设置有第一流量计(7)的第三管道(8);所述抛光液抛光系统包括第四管道(9)和设置在所述第四管道(9)上的抛光液调节阀(10)和第一单向阀(11);所述第三管道(8)和第 ...
【技术特征摘要】
1.一种适用于抛光机的抛光液及纯水供应管路,其特征在于,包括纯水抛光系统和抛光液抛光系统和主管道(1),所述纯水抛光系统包括第一管道(2)和与所述第一管道(2)并联的第二管道(3),所述第一管道(2)上设置有大流量气动阀(4),所述第二管道(3)上设置有小流量气动阀(5),第一管道(2)和第二管道(3)上还分别设置有相配合使用的第一手动调节阀(6),纯水分别通过纯水大流量气动阀(4)和小流量气动阀(5)汇入设置有第一流量计(7)的第三管道(8);所述抛光液抛光系统包括第四管道(9)和设置在所述第四管道(9)上的抛光液调节阀(10)和第一单向阀(11);所述第三管道(8)和第四管道(9)汇入所述主管道(1),主管道(1)上设置有主气动阀(12)、第二流量计(13)和第一温度探头(14)。
2.如权利要求1所述的一种适用于抛光机的抛光液及纯水供应管路,其特征在于:所述第一管道(2)的延伸部一端连接纯水水源,并通过设置在延伸部的纯水调节阀(15)进行导流和截流。
3.如权利要求1所述的一种适用于抛光机的抛光液及纯水供应管路,其特征在于:所述主管道(1)的尾端连接有主...
【专利技术属性】
技术研发人员:郭光灿,马龙峰,贾波,范强,
申请(专利权)人:麦斯克电子材料有限公司,
类型:新型
国别省市:河南;41
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