【技术实现步骤摘要】
真空吸盘的供气管路及激光退火机台
本申请涉及一种半导体集成电路制造设备，尤其涉及一种离子注入后晶圆温度检测装置及激光退火机台。
技术介绍
在半导体集成电路制造技术中，激光退火机台是常用设备，其性能直接影响晶圆的良率。激光退火机台通常包括工艺腔体，工艺腔体内包括用于承载产品晶圆的真空吸盘，真空吸盘的周围包括多个顶针，用于支撑产品晶圆。在产品晶圆的制造过程中，需要多次将产品晶圆放于真空吸盘和从真空吸盘上取下。当前，由于激光退火机台的特殊工艺要求，对产品晶圆在工艺腔体中的真空吸盘上的取放有严格的要求。当出现产品晶圆作业完成离开真空吸盘之前，假如吸盘下方没有通入氮气将真空充分释放，顶针强制将产品晶圆强制顶起，就会导致产品晶圆出现破片情况，进而影响晶圆良率。
技术实现思路
本申请的目的在于提供一种真空吸盘的供气管路，本申请提供的离子注入后晶圆温度检测装置，包括：气体管路，位于真空吸盘下方；氮气管路和真空管路，氮气管路、真空管路和气体管路通过三通阀形成连通，其中氮气管路包括氮气主管路、第一驱动气体管路及第一互锁气...
【技术保护点】
1.一种真空吸盘的供气管路，其特征在于，包括：/n气体管路，位于真空吸盘下方；/n氮气管路和真空管路，氮气管路、真空管路和气体管路通过三通阀形成连通，其中氮气管路包括氮气主管路、第一驱动气体管路及第一互锁气动阀，第一驱动气体管路的一端连接氮气主管路的进气端，另一端连接第一互锁气动阀，用于打开或关闭第一互锁气动阀，第一互锁气动阀位于氮气主管路上，真空管路包括真空主管路、第二驱动气体管路及第二互锁气动阀，第二驱动气体管路的一端连接第二互锁气动阀，用于打开或关闭第二互锁气动阀，第二互锁气动阀位于真空主管路上；/n其中，氮气管路上还包括一氮气流量监测装置，用于检测氮气的流量，并输出一氮气流量信号。/n
【技术特征摘要】
1.一种真空吸盘的供气管路，其特征在于，包括：
气体管路，位于真空吸盘下方；
氮气管路和真空管路，氮气管路、真空管路和气体管路通过三通阀形成连通，其中氮气管路包括氮气主管路、第一驱动气体管路及第一互锁气动阀，第一驱动气体管路的一端连接氮气主管路的进气端，另一端连接第一互锁气动阀，用于打开或关闭第一互锁气动阀，第一互锁气动阀位于氮气主管路上，真空管路包括真空主管路、第二驱动气体管路及第二互锁气动阀，第二驱动气体管路的一端连接第二互锁气动阀，用于打开或关闭第二互锁气动阀，第二互锁气动阀位于真空主管路上；
其中，氮气管路上还包括一氮气流量监测装置，用于检测氮气的流量，并输出一氮气流量信号。
2.根据权利要求1所述的真空吸盘的供气管路，其特征在于，氮气流量监测装置位于氮气管路的与三通阀连接端的末端。
3.根据权利要求1所述的真空吸盘的供气管路，其特征在于，氮气主管路的进气端接收的气体为氮气。
4.根据权利要求1所述的真空吸盘的供气管路，其特征在于，第二驱动气体管路的另一端接收的气体为氮气。
5.根据权利要求1所述的真空吸盘的供气管路，其特征在于，氮气流量监测装置位于第一互锁气动阀与三通阀之间。
6.根据权利要求1所述的真空吸盘的供气管路...
【专利技术属性】
技术研发人员：杜配贤，顾海龙，何春雷，
申请(专利权)人：上海华力集成电路制造有限公司，
类型：新型
国别省市：上海;31
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