【技术实现步骤摘要】
设置于高频电源系统中的阻抗匹配装置
本专利技术涉及一种设置于高频电源系统中的阻抗匹配装置,该高频电源系统构成为经由机械地变更常数的匹配器将高频电源的输出供给至负载。
技术介绍
在蚀刻、薄膜形成这样的半导体制造工序中,使用等离子体处理装置和向该等离子体处理装置供给所需电力的高频电源系统。高频电源系统通常为了稳定且有效地进行向等离子体处理装置供给功率,具有实现与等离子体处理装置的阻抗匹配的功能。在专利文献1中公开了具备高频电源101、阻抗匹配装置102和匹配器103的具有阻抗匹配功能的高频电源系统100(参照图11)。阻抗匹配装置102构成为根据高频电源101与负载20(等离子体处理装置)之间的阻抗的匹配状态变更高频电源101的振荡频率。此外,匹配器103由机械地变更常数的无源元件构成。根据该高频电源系统100,通过使基于可匹配的范围窄但匹配速度快的振荡频率的变更的阻抗匹配和基于可匹配的范围宽但匹配速度慢的匹配器103的阻抗匹配协同工作,能够在比现有技术更宽的范围内进行匹配。专利文献1:国际公开第2013
【技术保护点】
1.一种阻抗匹配装置,被设置于高频电源系统中,该高频电源系统构成为经由机械地变更常数的匹配器将高频电源的输出供给至负载,该阻抗匹配装置具备:/n匹配状态值取得部,取得表示所述高频电源与所述负载之间的匹配状态的匹配状态值;和/n控制部,基于所述匹配状态值,控制所述高频电源的振荡频率,/n若所述匹配状态值表示所述匹配状态的恶化,则所述控制部在以第一斜率使所述振荡频率朝向所述匹配状态得以改善的方向发生变化后,以比所述第一斜率缓慢的第二斜率使所述振荡频率复原。/n
【技术特征摘要】
20180921 JP 2018-1771361.一种阻抗匹配装置,被设置于高频电源系统中,该高频电源系统构成为经由机械地变更常数的匹配器将高频电源的输出供给至负载,该阻抗匹配装置具备:
匹配状态值取得部,取得表示所述高频电源与所述负载之间的匹配状态的匹配状态值;和
控制部,基于所述匹配状态值,控制所述高频电源的振荡频率,
若所述匹配状态值表示所述匹配状态的恶化,则所述控制部在以第一斜率使所述振荡频率朝向所述匹配状态得以改善的方向发生变化后,以比所述第一斜率缓慢的第二斜率使所述振荡频率复原。
2.根据权利要求1所述的阻抗匹配装置,其中,
所述控制部在预先设定的不匹配抑制期间内,以所述第一斜率使所述振荡频率发生变化。
3.根据权利要求2所...
【专利技术属性】
技术研发人员:高原敏浩,河田悦郎,岸良贵通,冈崎丈浩,藤原延崇,胜冶笃史,中村谦太,
申请(专利权)人:阿德特克等离子技术公司,
类型:发明
国别省市:日本;JP
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